光刻设备行业发展现状分析

光刻设备行业发展现状分析一、光刻机光刻机，被誉为人类20世纪的发明奇迹之一，是集成电路产业皇冠上的明珠，研发的技术门槛和资金门槛非常高。光刻机的分类通常以光源种类区分。当光线经过的缝隙宽度与其波长接近时光会发生衍射，不再“走直线”，因此提高光刻精度就必须使用波长更短的光源，这是光刻机发展的基本路径。根据ASML、佳能及尼康公司公告显示，2020年全球光刻机销量413台，同比增长15%，按季度依次是95台、95台、97台、126台，分别同比增长19%、25%、8%、12%。2020年EUV光刻机销量31台占比8%；ArFimmersio销量80台占19%；ArFdry、KrF、i-line光刻机销量分别为32台、130台、140台，销量占比依次是8%、31%、34%。中低端市场需求量不断增长，主要受先进封装的推动。随着步进技术发展，2015年至2020年先进封装光刻设备出货量年复合增长率达到15%，2020年总数将超过250台/年。中低端光刻机由于较低的技术壁垒，竞争者数量较多，尼康与佳能凭借价格优势占据中低端市场主导地位。二、涂胶显影设备涂胶和显影是光刻前后的重要步骤，涂胶显影设备是光刻辅助设备，也属于光刻设备的一种，设备以不同工艺所用的光刻胶、关键尺寸等方面的差异来分类。半导体生产中有前道工艺和后道工艺，前道工艺指的是从硅片加工开始直到在硅片上制成集成电路结束的工艺流程。涂胶显影设备作为集成电路制造前道晶圆加工环节的重要工艺设备，在晶圆厂设备采购中占有十分重要的地位。近年来芯片的发展一度成为各国间的角逐点，带动全球晶圆厂设备的需求，也使得全球前道涂胶显影设备份额呈现增长态势。据统计，全球前道涂胶显影设备销售额由2013年的14.07亿美元增长至2020年的19.05亿美元，预计2023年将达到24.76亿美元。全球范围内东京电子一家独大，东京电子和SCREEN两家公司几乎垄断所有前道涂胶显影市场。在我国东京电子的的市占率超过90%，如果计算封装和其他涂胶显影设备，芯源微在国内的市占率约为4%。三、涂胶显影设备龙头——芯源微芯源微公司成立于2002年，是由中科院沈阳自动化研究所发起创建的国家高新技术企业，专业从事半导体生产设备的研发、生产、销售与服务，是涂胶显影设备龙头企业。公司营收由2016年的1.48亿元增长至2020年的3.29亿元，增长幅度达122%，2021年第一季度营收达1.13亿元。公司2019年营收和归母净利润增速放缓系公司前道产品主要处于验证阶段，对收入贡献相对有限，且LED领域产品下游市场周期性不景气。2020年芯源微营业收入由半导体设备和其他（补充）构成，在半导体设备中，涂胶显影设备2020年营业收入为2.36亿元，占营业总收入的71.79%；单片式湿法设备营业收入为7610万元，占营业总收入的23.14%；其他半导体设备为608.85万元，占营业总收入的1.85%。四、光刻设备行业面临的问题和措施第一，装备与工艺的结合问题，一直是制约国产装备进入大生产线的主要瓶颈之一。国际半导体装备厂商，特别是关键的、与工艺密切相关的前道设备厂商在工艺研发上投入巨大，一般都建有相应的工艺研发生产线。而目前国内半导体装备厂商还没有建立自己的工艺研发生产线。工艺固化到装备中，我们还有不小的距离。第二，坚持自主研发，从零部件入手，掌控核心技术。国家重大专项对半导体设备与工艺的重视，对国产装备业来说是莫大的发展机会。我国不仅要支持关键装备的研发生产，也要支持相关重要零部件厂商。第三，协同创新，成果共享。目前半导体装备越来越复杂，一家公司独自承担所有零部件的开发确实不易。我们应该利用整个国家、甚至于全球的资源来共同完成。发展装备业，要采取产业链、创新链、金融链有