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文档简介
DUVSCANNER&I-LINESCANNERSystemoverview1第1页SCANNERFUNCTIONSFunctionGetsresist-coatedwafersfromtheTrackExposethewafersSendsthewafersbacktotheTrackfordevelopingThepatterntoexposeisonthereticle.Thescannerwillalignthereticlesothatthepatterncanbeexposedaccuratelyonthewafer.Someparameters:ExposureenergyandFocusExposureFieldP,EandDchucksPrimaryMakersAlignment2第2页OVERVIEWOFSYSTEMDUVScannerI-lineScannerTheDUVscannersareconnectedtotheDUVTracks.ForcriticallayersTheI-linescannersareconnectedtotheI-linetracks.Fornon-criticallayers.3第3页OVERVIEWOFSYSTEMD-chuckE-chuckP-chuckRobotInOut12344第4页OVERVIEWOFFUNCTIONSSequenceofeventsEdgePre-alignmentOpticalPre-alignmentGlobalAlignmentExposureDischarge5第5页EDGEPRE-ALIGNMENT
WhatisEdgePre-alignment??DuringEdgePre-alignment,thescannerlooksforthenotchonthewafer.Thiswilltellthemachinetheorientationofthewafer.ThisistoenablethemachinetoplacethewaferaccuratelyontheP-chuck. Howdoesitwork??ThewaferisrotatedunderalaserbeamalongtheedgeThebeamwillsearchforthenotchatthewaferedge WhydoweneedEdgePre-alignment?SothatthewaferwillbeplacedaccuratelyontheP-chuck.6第6页OPTICALPRE-ALIGNMENT
WhatisOpticalPre-alignment?AsensorlooksforthePrimaryMarkersonthewafer.ThisimprovestheaccuracyoftheEdgePre-alignment Howdoesitwork??Thewaferisrotatedunderaopticalsensor.Thesensorwilllookforthe2Primary Markersonthewafer WhydoweneedOpticalPre-alignment??ThisimprovestheaccuracyoftheEdgePre-alignment.7第7页GLOBALALIGNMENT
WhatisGlobalAlignment??Duringglobalalignment,thewaferisveryaccuratelyaligned.Thereticleisalsoaligned.GlobalAlignmentisdoneontheP-Chuck Howdoesitwork??ThescannerwillalignusingthePrimaryMarkersonthewafer WhydoweneedGlobalAlignmentThisisthefinalalignmentbeforeexposure.Thisensuresthatthereticleisalsoalignedbeforeexposure.Thisisveryimportantforgoodoverlay!8第8页THISISWHATHAPPENSWHENALIGNMENTISNOTDONEPROPERLYThecurrentlayerisnotpositioneddirectlyoverthepreviouslayers9第9页SOMEMOREEXAMPLESThecurrentlayerisnotpositioneddirectlyoverthepreviouslayers10第10页EXPOSURE
WhatisExposure??Duringexposure,thepatternonthereticleistransferredtothewafer.Thescannerusesalaserorlighttoexposethepatternonthephoto-sensitiveresist. Howdoesitwork?ThewaferisplacedontheE-Chuck.ThereticleisplacedontheReticleStage.TheWaferStagemovestogetherwiththeReticleStageinoppositedirectionstoexposethepattern11第11页EXPOSUREThepatternisexposedmanytimesoverthewholewaferEachexposureiscalleda“exposurefield”,asshownbytheredsquareNormally,thereareabout>60fieldsperwaferEachfieldwillcontainmanydiedesigns.12第12页EXPOSUREThisis1reticlefield.Thisreticlehas6x4diesinthedesign.13第13页DISCHARGEAfterthew
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