模拟电路第四章_第1页
模拟电路第四章_第2页
模拟电路第四章_第3页
模拟电路第四章_第4页
模拟电路第四章_第5页
已阅读5页,还剩36页未读 继续免费阅读

下载本文档

版权说明:本文档由用户提供并上传,收益归属内容提供方,若内容存在侵权,请进行举报或认领

文档简介

半导体三极管有两大类型,一是双极型半导体三极管BJT

二是场效应半导体三极管FET4场效应管放大电路

双极型半导体三极管是由两种载流子参与导电的半导体器件,它由两个PN结组合而成,是一种CCCS器件。

场效应型半导体三极管仅由一种载流子参与导电,是一种VCCS器件。

场效应半导体三极管是仅由一种载流子参与导电的半导体器件,是一种用输入电压控制输出电流的的半导体器件VCCS。

从参与导电的载流子来划分:

1.电子作为载流子的N沟道器件2.空穴作为载流子的P沟道器件。

从场效应三极管的结构来划分:1.金属氧化物半导体三极管MOSFET,也称绝缘栅型场效应三极管IGFET2.结型场效应三极管JFET

§4.1金属-氧化物-半导体场效应管(MOSFET)一、N沟道增强型MOSFET

㈠结构

一个是漏极D,一个是源极S。在源极和漏极之间的绝缘层上镀一层金属铝作为栅极G。

MOSFET也称绝缘栅型场效应三极管IGFET。根据图4.3.1,

N沟道增强型MOSFET基本上是一种左右对称的拓扑结构,它是在P型半导体上生成一层SiO2

薄膜绝缘层,然后用光刻工艺扩散两个高掺杂的N型区,从N型区引出电极,MOSFET结构示意图(动画4-3-1)说明:栅极g处于绝缘状态,

Ig=0,

Ri很高,约1015Ω,所以称绝缘栅型场效应管IGFET;箭头方向表示P(衬底)指向N(沟道)虚线代表增强型沟道

当栅极加有电压时,若0<vGS<VGS(th)(VT)时,通过栅极和衬底间的电容作用,将靠近栅极下方的P型半导体中的空穴向下方排斥,出现了一薄层负离子的耗尽层。耗尽层中的少子将向表层运动,但数量有限,不(动画4-3-2)足以形成沟道,将漏极和源极沟通,所以不可能形成漏极电流iD。㈡工作原理

1.栅源电压VGS的控制作用当vGS=0V时,漏源之间相当两个背靠背的二极管,在D、S之间加上电压不会在D、S间形成电流。

vGS对漏极电流的控制关系可用

iD=f(vGS)vDS=const这一曲线描述,称为转移特性曲线,见图4.3.3。

进一步增加vGS,当vGS>VGS(th)时(VGS(th)称为开启电压),由于此时的栅极电压已经比较强,在靠近栅极下方的P型半导体表层中聚集较多的电子,可以形成沟道,将漏极和源极沟通。如果此时加有漏源电压,就可以形成漏极电流iD。在栅极下方形成的导电沟道中的电子,因与P型半导体的载流子空穴极性相反,故称为反型层(感应沟道)。

随着vGS的继续增加,iD将不断增加。在vGS=0V时iD=0,只有当vGS>VGS(th)后才会出现漏极电流,这种MOS管称为增强型MOS管。

图4.3.3vGS对漏极电流的控制特性——转移特性曲线

转移特性曲线的斜率gm的大小反映了栅源电压对漏极电流的控制作用。

gm

的量纲为mA/V,所以gm也称为跨导。跨导的定义式如下

gm=iD/vGS

vDS=const(单位mS)

iD=f(vGS)VDS=const

2.漏源电压vDS对漏极电流iD的控制作用

当vGS>VGS(th),且固定为某一值时,来分析漏源电压vDS对漏极电流iD的影响。vDS的不同变化对沟道的影响如图4.3.4所示。根据此图可以有如下关系

图4.3.4

漏源电压vDS对沟道的影响(动画4-3-4)

当vDS为0或较小时,沟道分布如图4.3.5(a),此时vDS基本均匀降落在沟道中,沟道呈斜线分布。

当vDS继续增加时,沟道如图4.3.5(b)所示。这相当于vDS增加使漏极处沟道缩减到刚刚开启的情况,称为预夹断。当vDS再继续增加时,沟道如图4.3.5(c)所示。此时预夹断区域加长,伸向S极。vDS增加的部分基本降落在随之加长的夹断沟道上,iD基本趋于不变。

当vGS>VGS(th),且固定为某一值时,

vDS对iD的影响,即iD=f(vDS)vGS=const这一关系曲线如图4.3.6所示。这一曲线称为漏极输出特性曲线。

㈢MOSFET的特性曲线

当vGS为某一值时,

vDS对iD的影响,即iD=f(vDS)vGS=const这一关系曲线如图4.3.6所示。这一曲线称为漏极输出特性曲线。图4.3.6漏极输出特性曲线vGD=vGS-vDS=VTvDS=vGS-VT预夹断临界点轨迹vDS≦vGS-VT截止区vGS<VTvDS≧vGS-VT2023/2/5①截止区vGS﹤VT,iD=0②可变电阻区vDS≦vGS-VT,vDS与iD线性关系,斜率不同,是一个受vGS控制的可变电阻。③饱和区(恒流区或放大区)当vGS≧VT,且vDS≧vGS-VT时,MOSFET进入饱和区。iD基本不随vDS变化。该区的V-I特性表达式:iD=IDO[vGS/VT-1]2

IDO

=

KnVT2

,它是vGS=

2VT时的

iD图4.3.6漏极输出特性曲线vGD=vGS-vDS=VT预夹断临界点轨迹vDS≦vGS-VT截止区vDS≧vGS-VT2023/2/5

㈢MOSFET的特性曲线

vGS对漏极电流的控制关系可用

iD=f(vGS)vDS=const这一曲线描述,称为转移特性曲线,与输出特性曲线反映FET工作的同一物理过程。图4.3.3转移特性曲线

转移特性曲线的斜率gm的大小反映了栅源电压对漏极电流的控制作用。

gm

的量纲为mA/V,所以gm也称为跨导。跨导的定义式如下

gm=iD/vGS

vDS=const2023/2/5MOSFET分为:增强型

vGS

=0,无导电沟道,即iD

=0

N沟道、P沟道

耗尽型

vGS

=

0,有导电沟道,即iD≠0N沟道、P沟道2023/2/5㈣N沟道耗尽型MOSFET

当vGS>0时,将使iD进一步增加。vGS<0时,随着vGS的减小漏极电流逐渐减小,直至iD=0。N沟道耗尽型MOSFET的漏极输出特性曲线如图4.3.6(b)所示。

N沟道耗尽型MOSFET的结构和符号如图4.3.6(a)所示,它是在栅极下方的SiO2绝缘层中掺入了大量的金属正离子。所以当vGS=0时,这些正离子已经在感应出反型层,在漏源之间形成了沟道。于是只要有漏源电压,就有漏极电流存在。(a)结构示意图曲线(b)漏极输出特性曲线VPiD=IDSS[1-vGS/VT]2

IDSS饱和漏极电流当vGS≧VT,且vDS≧vGS-VT时,MOSFET进入饱和区。图4.3.6

N沟道耗尽型MOSFET的结构

㈤MOSFET的参数

⑴直流参数①开启电压VGS(th)(或VT)

开启电压是MOS增强型管的参数,栅源电压小于开启电压的绝对值,场效应管不能导通。

MOSFET的参数

②夹断电压VP

夹断电压是耗尽型MOS管的参数,当vGS=VP时,漏极电流为零。

③饱和漏极电流IDSS耗尽型MOS管,|vGS|=10V时,当vGS=0时所对应的漏极电流。VP

MOSFET的参数

④直流输入电阻RGS

场效应三极管的栅源输入电阻的典型值,对于绝缘栅型场效应三极管,RGS约是109~1015Ω。⑵交流参数①输出电阻rds反映了漏源电压对漏极电流的影响。②

低频跨导gm

低频跨导反映了栅压对漏极电流的控制作用。VP

MOSFET的参数

⑶极限参数

①最大漏极电流IDM

②最大漏极功耗PDM

最大漏极功耗可由PDM=vDSiD决定,与双极型三极管的PCM相当。③最大漏极电压V(BR)DSMOSFET的性能比较N沟道增强型P沟道增强型MOSFET的性能比较N沟道耗尽型P沟道耗尽型

㈠JFET的结构

JFET的结构如图4.1所示,它是在N型半导体硅片的两侧各制造一个PN结,形成两个PN结夹着一个N型沟道的结构。一个P区即为栅极,N型硅的一端是漏极,另一端是源极。其中的方向表示栅极正偏时,栅流的方向。

图4.1.1结型场效应三极管的结构(动画4-1-1

)§4.3结型场效应管(JFET)

㈡JFET的工作原理现以N沟道为例说明其工作原理

①栅源电压对沟道的控制作用

先假设当vDS=0时,当vGS由零向负值增大时,在反偏电压作用下,两个PN结的耗尽层将加宽,使沟道变窄,沟道电阻增大,当|vGS|进一步增大到某一值|VP|时,两侧耗尽层将在中间合拢,沟道全部被夹断。此时漏源极间的电阻将趋于无穷大,相应的栅源电压vGS称为夹断电压VP。这一过程如图4.1.2所示。图4.1.2vGS对沟道的控制作用(动画4-1-2)

②漏源电压对沟道的控制作用

当vDS增加到使vGD=VP时,在紧靠漏极处出现预夹断,当VDS继续增加,漏极处的夹断继续向源极方向生长延长。这一过程如图4.1.3所示。

图4.1.3漏源电压对沟道的控制作用(动画4-1-3)在栅极加上电压,若漏源电压vDS从零开始增加,使靠近漏极处的耗尽层加宽,沟道变窄,呈楔形分布。

㈢JFET的特性曲线

JFET的特性曲线有两条:一是转移特性曲线,二是输出特性曲线,两者反映FET工作的同一物理过程。

JFET的特性曲线如图4.1.4所示。(a)漏极输出特性曲线(b)转移特性曲线图4.1.4N沟道结型场效应三极管的特性曲线动画(4-1-4)

动画(4-1-4)

㈢JFET的特性曲线

vGS对漏极电流的控制关系可用

iD=f(vGS)vDS=const这一曲线描述,称为转移特性曲线,见图4.3.3。iD=IDSS[1-(vGS/VP)]2

(VP

vGS

0,即在饱和区或恒流区内)

㈣JFET的参数

参数同耗尽型MOSFET。JFET的性能比较N沟道JFETP沟道JFET§4.3场效应三极管放大电路

三种组态:CS共源组态基本放大电路CD共漏组态基本放大电路CG共栅组态基本放大电路共源组态基本放大电路

对于采用场效应三极管的共源基本放大电路,可以与共射组态接法的基本放大电路相对应,只不过场效应三极管是电压控制电流源,即VCCS。共源组态的基本放大电路如图4.4.1所示。图4.4.1共源组态接法基本放大电路

比较共源和共射放大电路,它们只是在偏置电路和受控源的类型上有所不同。只要将微变等效电路画出,就是一个解电路的问题了。(1)直流分析

将共源基本放大电路的直流通道画出,如图4.4.2所示。4.4.2共源基本放大电路的直流通道

图中Rg1、Rg2是栅极偏置电阻,Rs是源极电阻,Rd是漏极负载电阻。与共射基本放大电路的Rb1、Rb2,Re和Rc分别一一对应。而且只要结型场效应管栅源间PN结是反偏工作,无栅流,那么JFET和MOSFET的直流通道和交流通道是一样的。根

温馨提示

  • 1. 本站所有资源如无特殊说明,都需要本地电脑安装OFFICE2007和PDF阅读器。图纸软件为CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.压缩文件请下载最新的WinRAR软件解压。
  • 2. 本站的文档不包含任何第三方提供的附件图纸等,如果需要附件,请联系上传者。文件的所有权益归上传用户所有。
  • 3. 本站RAR压缩包中若带图纸,网页内容里面会有图纸预览,若没有图纸预览就没有图纸。
  • 4. 未经权益所有人同意不得将文件中的内容挪作商业或盈利用途。
  • 5. 人人文库网仅提供信息存储空间,仅对用户上传内容的表现方式做保护处理,对用户上传分享的文档内容本身不做任何修改或编辑,并不能对任何下载内容负责。
  • 6. 下载文件中如有侵权或不适当内容,请与我们联系,我们立即纠正。
  • 7. 本站不保证下载资源的准确性、安全性和完整性, 同时也不承担用户因使用这些下载资源对自己和他人造成任何形式的伤害或损失。

评论

0/150

提交评论