GB/T 14849.4-2014工业硅化学分析方法第4部分：杂质元素含量的测定电感耦合等离子体原子发射光谱法

ICS7712010

H12..

中华人民共和国国家标准

GB/T148494—2014

代替.

GB/T14849.4—2008

工业硅化学分析方法

第4部分杂质元素含量的测定

:

电感耦合等离子体原子发射光谱法

Methodsforchemicalanalysisofsiliconmetal—

Part4Determinationofimuritcontents—

:py

Inductivelycoupledplasmaatomicemissionspectrometricmethod

2014-12-05发布2015-08-01实施

中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局发布

中国国家标准化管理委员会

GB/T148494—2014

.

前言

工业硅化学分析方法分为个部分

GB/T14849《》9:

第部分铁含量的测定二氮杂菲分光光度法

———1:1,10-;

第部分铝含量的测定铬天青分光光度法

———2:-S;

第部分钙含量的测定火焰原子吸收光谱法偶氮氯膦分光光度法

———3:、Ⅰ;

第部分杂质元素含量的测定电感耦合等离子体原子发射光谱法

———4:;

第部分杂质元素含量的测定射线荧光光谱法

———5:X;

第部分碳含量的测定红外吸收法

———6:;

第部分磷含量的测定钼蓝分光光度法

———7:;

第部分铜含量的测定分光光度法

———8:PADAP;

第部分钛含量的测定二安替比林甲烷分光光度法

———9:。

本部分为的第部分

GB/T148494。

本部分按照给出的规则起草

GB/T1.1—2009。

本部分代替工业硅化学分析方法第部分电感耦合等离子体发射光谱

GB/T14849.4—2008《4:

法测定元素含量与相比主要技术变化如下

》。GB/T14849.4—2008,:

增加了铜铬钒镁钴磷钾钠铅锌硼的检测

———、、、、、、、、、、;

增加了两种溶样方式

———;

补充了重复性限再现性限实验数据

———、。

本部分由全国有色金属标准化技术委员会归口

(SAC/TC243)。

本部分负责起草单位昆明冶金研究院中国铝业股份有限公司郑州研究院昆明冶研新材料股份

:、、

有限公司

。

本部分参加起草单位云南出入境检验检疫局技术中心通标标准技术服务有限公司浙江合盛硅

:、、

业有限公司云南永昌硅业股份有限公司

、。

本部分主要起草人刘维理王劲榕李跃平赵德平杨毅赵建为王云舟王宏磊聂长虹

:、、、、、、、、、

刘英波卢国洪吴豫强张云晖谭少姬程志武周杰

、、、、、、。

本部分所代替标准的历次版本发布情况为

:

———GB/T14849.4—2008。

Ⅰ

GB/T148494—2014

.

工业硅化学分析方法

第4部分杂质元素含量的测定

:

电感耦合等离子体原子发射光谱法

1范围

的本部分规定了工业硅中铁铝钙锰钛镍铜铬钒镁钴磷钾钠铅锌硼

GB/T14849、、、、、、、、、、、、、、、、

含量的测定方法

。

本部分适用于工业硅中铁铝钙锰钛镍铜铬钒镁钴磷钾钠铅锌硼量的测定各元

、、、、、、、、、、、、、、、、。

素测定范围见表

1。

表1测定范围

测定元素质量分数测定元素质量分数

/%/%

铁镁

0.020~1.000.0010~0.50

铝钴

0.020~1.000.0005~0.20

钙磷

0.010~1.000.0010~0.10

锰钾

0.0050~0.500.0010~0.50

钛钠

0.0050~0.500.0010~0.50

镍铅

0.0050~0.500.0030~0.10

铜锌

0.0010~0.500.0010~0.50

铬硼

0.0010~0.500.0005~0.20

钒

0.0005~0.20——

2规范性引用文件

下列文件对于本文件的应用是必不可少的凡是注日期的引用文件仅注日期的版本适用于本文

。