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文档简介
1、1. 以N型MOSFET为例,画出相应的I-V特性曲线,即IDS与 VDS,VGS的关系,并标出MOSFET的线性区和饱和区范围,给出各区域成立的条件 第一页,编辑于星期五:十四点 三十五分。2. 画出一个典型P阱CMOS工艺反向器的垂直剖面示意图,要求器件的各个端口正确连接输入、输出、电源电位和地电位第二页,编辑于星期五:十四点 三十五分。3. 什么是MOSFET小信号跨导,给出饱和区MOSFET小信号跨导的三种表达形式 第三页,编辑于星期五:十四点 三十五分。4. 什么是 MOSFET的亚阈区,指出亚阈区的电流与栅源电压的关系第四页,编辑于星期五:十四点 三十五分。1.解释什么是体效应?在
2、初步分析MOSFET的时候我们假设衬底和源级是接到地的。而实际上当VBVS时,器件仍能正常工作,但是随着VSB的增加,阈值电压VTH会随之增加,这种体电位(相对于源)的变化影响阈值电压的效应称为体效应,也称为“背栅效应”2.解释什么是沟道长度调制效应?当沟道发生夹断后,如果VDS继续增大,有效沟道长度L会随之减小,导致漏源电流 Id的大小略有上升。这一效应成为“沟道”第五页,编辑于星期五:十四点 三十五分。4. 图(a)是什么结构?图(b)忽略了沟道调制效应和体效应。如果体效应不能忽略,请画出Vin和Vout的关系曲线,并作出解释。第六页,编辑于星期五:十四点 三十五分。第七页,编辑于星期五:十四点 三十五分。5. 图中MOS管的作用是什么?应该工作在什么工作区?第八页,编辑于星期五:十四点 三十五分。即NMOS开关不能传递最高电位,仅对低电位是比较理想的开关相对的,PMOS开关不能传递最低电位,仅对高电位是比较理想的开关第九页,编辑于星期五:十四点 三十五分。第十页,编辑于星期五:十四点 三十五分。6. 计算电路的小信号增益第十一页,编辑于星期五:十四点 三十五分。7. 画出下图的小信号等效电路,推导Rin的表达式 第十二页,编辑于星期五:十四点 三十五分。8.第十三页,编辑于星期五:十四点 三十五分。第十四页
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