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文档简介
场效应管放大电路引言场效应管按结构分为结型场效应管(JFET)和金属-氧化物-半导体场效应管(MOSFET)两类。
4.1结型场效应管
4.1.1JFET(结型场效应管)的结构和工作原1.结构如图4.1.1和图4.1.2所示,在一块N型硅半导体两侧制作两个P型区域,形成两个PN结,把两个P型区相连后引出一个电极,称为栅极,用字母G(或g)表示。源极s和漏极d。dsgd漏极g栅极PPN耗尽层s源极(a)(b)
图4.1.1N沟道(JFET)结型场效应管结构与符号图(a)结构;(b)N沟道结型场效应管符号;d漏极g栅极NNP耗尽层s源极dsg(a)(b)
图4.1.2P沟道(JFET)结型场效应管结构与符号图(a)结构;(b)P沟道结型场效应
2.工作原理(1)vGS对ID的控制作用:夹断电压vDS对ID的影响:
(1)UGS对导电沟道的影响当UGS=0时,场效应管两侧的PN结均处于零偏置,形成两个耗尽层,如图4.1.3(a)所示。此时耗尽层最薄,导电沟道最宽,沟道电阻最小。当|UGS|值增大时,栅源之间反偏电压增大,PN结的耗尽层增宽,如图4.1.3(b)所示。导致导电沟道变窄,沟道电阻增大。
当|UGS|值增大到使两侧耗尽层相遇时,导电沟道全部夹断,如图4.1.3(c)所示。沟道电阻趋于无穷大。对应的栅源电压UGS称为场效应管的夹断电压,用VP来表示。
图4.1.3VDS=0时,栅源电压UGS对导电沟道的影响(a)导电沟道最宽;(b)导电沟道变窄;(c)导电沟道夹断N沟道DGSNDGSUGGPPP(b)DGSUGG耗尽层(a)(c)PPP
2)UDS对导电沟道的影响
设栅源电压UGS=0,当UDS=0时,ID=0,沟道均匀,如图4.14所示。当UDS增加时,漏极电流ID从零开始增加,ID流过导电沟道时,沿着沟道产生电压降,使沟道各点电位不再相等,沟道不再均匀。靠近源极端的耗尽层最窄,沟道最宽;靠近漏极端的电位最高,且与栅极电位差最大,因而耗尽层最宽,沟道最窄。由图4.14可知,UDS的主要作用是形成漏极电流ID。dgSUDDiDPPuDS+-+--NRd图4.1.4改变VDS时N沟道结型场效应管工作原理(b)图4.1.4uDS对耗尽层的影响S+-DVDDGiD(c)AS+-DGiD(d)ANVDD图4.1.4附加
UGG≠0时uDS对耗尽层的影响
S+-VGGDVDDG-+mAiD(a)aS+-VGGDG-+mAiD(b)aaVDDUDS和UGS对沟道电阻和漏极电流的影响设在漏源间加有电压UDS,当UGS变化时,沟道中的电流ID将随沟道电阻的变化而变化。当UGS=0时,沟道电阻最小,电流ID最大。当|UGS|值增大时,耗尽层变宽,沟道变窄,沟道电阻变大,电流ID减小,直至沟道被耗尽层夹断,ID=0。
当0<UGS<UP时,沟道电流ID在零和最大值之间变化。改变栅源电压UGS的大小,能引起管内耗尽层宽度的变化,从而控制了漏极电流ID的大小。场效应管和普通三极管一样,可以看作是受控的电流源,但它是一种电压控制的电流源。结论:JFET栅极、沟道之间的PN结是反偏的,因此,其IG≈0,输入电阻很高。
JFET是电压控制电流器件,ID
受vGS控制。预夹断前,ID
与vDS
呈近似线性关系;预夹断后,ID趋于饱和4.1.2.JFET的特性曲线及参数
场效应管的特性曲线分为转移特性曲线和输出特性曲线。
1.输出特性
输出特性是指栅源电压uGS一定,漏极电流ID与漏极电压uDS之间的关系,即图4.1.5(b)JFET输出特性曲线01234524681012141618iD/mAuDS/V夹断区可变电阻区-4V-3V-2V-1V击穿区恒流区(放大区)uGS=0V
图4.1.5N沟道(JFET)结型场效应管输出特性曲线如图4.1.5所示,三个区域的特点:
在UP≤uGS≤0的范围内,漏极电流ID与栅极电压uGS的关系为2)1(UPuIiGSDSSD-=常数==ufDSuiGSD)(2.转移特性在uDS一定时,漏极电流ID与栅源电压uGS之间的关系称为转移特性。即1.00.80.60.40.20-0.2-0.4-0.6-0.8uDS=10VuGS/ViD/mAIDSSUp图4.1.6N沟道(JFET)结型场效应管转移特性曲线(a)图4.1.6N沟道结型场效应管的转移特性曲线(b)15VuGS/V00.10.20.30.4-0.5-1.0-1.5-2.0-2.50.510VuDS=20ViD/mA1V2V5V3.主要参数
1)夹断电压Up
2)饱和漏极电流IDSS
3)最大漏源电压U(BR)DS4)最大栅源电压U(BR)GS
5)直流输入电阻RGS
6)低频跨导gm
7)输出电阻
8)最大耗散功率常数==uDSdudigGSDm4.3金属-氧化物-半导体场效应管分类:P沟道、N沟道;
增强型:VGS=0时,没有导电沟道,即ID=0.
耗尽型:VGS=0时,存在导电沟道,即ID≠0.
4.3.1N沟道增强型MOSFET
1.结构:
如图4.3.1所示:注意符号中的箭头和虚实线的区别.
图4.3.1N沟道增强型MOSFET结构及符号
图4.3.1N沟道MOS管结构及符号图
(a)纵剖面图;(b)N沟道增强型符号;(c)P沟道增强型符号gdsgds(d)(e)(d)N沟道耗尽型符号;(e)P沟道耗尽型符号dN+N+P型硅衬底sgUGGUDDiD
图4.3.2N沟道增强型MOS管工作原理2.工作原理NN+++++++SD耗尽层N沟道P铝电极gUGGUDD
3.特性曲线
N沟道增强型绝缘栅场效应管的输出特性曲线如图4.3.3(a)所示。
N沟道增强型绝缘栅场效应管的转移特性曲线如图4.3.3(b)所示。在uGS≥UT时,ID与uGS的关系可用下式表示:
2)1(-=UuIiTGSDOD
其中ID0是uGS=2UT时的ID值。
(4.3.1)/V(a)(b)01234i5V4V3V24681012141618
4321iD
/mA02468uGS
/VuDS=10VUT=3V图4.3.3N沟道增强型场效应管(MOSFET)特性曲线(a)输出特性;(b)转移特性iD
/mAuDS
/V4.3.2.N沟道耗尽型MOSFET
图4.3.4为N沟道耗尽型场效应管的结构图。其结构与增强型场效应管的结构相似,不同的是这种管子在制造时,就在二氧化硅绝缘层中掺入了大量的正离子。在uGS≥UT时,iD与uGS的关系可用下式表示:u2T)1(UIiGSDSSD-=sgdN+N+P型硅衬底衬底引线+++++++++++
图4.3.4N沟道耗尽型MOS管结构
N沟道耗尽型场效应管特性曲线(a)转移特性;(b)输出特性
-5-4-3-2-1024681012uDS=常数uGS/ViD/mAUTIDSS0246810121416-2V-1V-3VuGS=2V1V24681012uDS/V(a)(b)iD/mA0V4.3.3各种场效应管特性比较及注意事项1.各种场效应管特性比较表4.3.1表4.3.1各种类型的场效应管的特性表4.3.1各种类型的场效应管的特性2.使用注意事项
(1)有些场效应晶体管将衬底引出,故有4个管脚,这种管子漏极与源极可互换使用。(2)
源极和漏极的互换(3)使用场效应管时各极必须加正确的工作电压。
(4)焊接时,须注意.4.4场效应管放大电路
与三极管一样,根据输入、输出回路公共端选择不同,将场效应管放大电路分成共源、共漏和共栅三种组态。本节主要介绍常用的共源和共漏两种放大电路。
4.4.1FET的直流偏置电路及静态分析1.直流偏置电路自偏压电路;
如图4.4.1(a)分压式自偏压电路;
如图4.4.1(b)Rd+Cb2+UDD-uo+Rs+CsRg+Cb1+-ui如图4.4.1FET的偏压电路
(a)自偏压电路;
Rd+Cb2+UDD-uo+Rs+CsRg1Rg3Rg2+Cb1+-ui
Rg1,Rg2:栅极
分压电阻使栅极获
得合适的工作电压
栅极电阻:用来
提高输入电阻
图4.4.1FET偏压电路
(b)分压式自偏压电路2.静态工作点的确定u2P)1(UIiGSDSSD-=RIUDGS-=RIURRRUUUDDDgggSGGS-+=-=212(4.4.2)(4.4.1)例4.4.14.4.2FET放大电路的小信号模型分析法FET的小信号模型图4.4.2所示
dg+-udsidsdsg+-udsidsgmugs+-ugs+ugs-
图4.4.2场效应管微变等效电路gsr2.应用小信号模型法分析FET放大电路图4.4.3所示的共源电路
(1)中频电压增益
(2)输入电阻
(3)输出电阻图4.4.3场效应管共源放大电路
(a)电路图Rd+Cb2+UDD-uo+RsRg1Rg3Rg2+Cb1+-ui
Rg1,Rg2:栅极
分压电阻使栅极获
得合适的工作电压
栅极电阻:用来
提高输入电阻Rg1Rg2Rg3ri+-ui+ugs-ggmugsrdRd+-uorods
图4.4.3共源放大电路的微变等效电路(b)小信号等效电路R
图4.4.3源极具有电阻的电路
(a)电路;(b)等效电路;(c)变换电路;(d)求Ro电路
(1)电压放大倍数:(4.4.5)(2)输入电阻:
)//(213RRRRgggi+≈(4.4.6)
(3)输出电阻:
RRdo≈(4.4.7)例:4.4.2共漏放大电路
共漏放大电路又称源极输出器。电路如图4.4.4所示。由图4.4.4(b)可得:gRRRRRRRgRguuAuRguuuRUgiumsogggiLmLmiougsLmogsiLgsmo1//)//(1)1(321''''=+=+==+=+==(4.4.8)(4.4.10)(4.4.9)Ui+-RGR+-UgsRL+-
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