- 废止
- 已被废除、停止使用，并不再更新
- 2002-11-14 颁布
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基本信息：
- 标准号：ISO/TTA 4:2002 EN
- 标准名称：测量硅基底上薄膜的热导率
- 英文名称：Measurement of thermal conductivity of thin films on silicon substrates
- 标准状态：废止
- 发布日期：2002-11-14
文档简介
ISO/T40:2002是关于测量硅基片上薄膜热导率的国际标准。以下是该标准的主要内容：
1.范围和定义：该标准规定了测量硅基片上薄膜热导率的方法和要求，适用于各种材料和厚度薄膜的测量。在标准中，定义了热导率、薄膜、硅基片等术语。
2.实验设备：实验设备包括加热和冷却系统、温度控制设备、测量热流量设备等。这些设备需要符合一定的精度和稳定性要求，以确保实验结果的准确性和可靠性。
3.实验步骤：实验步骤包括准备样品、安装样品、设置实验参数、测量热流量、数据处理等。在实验过程中，需要确保样品的一致性和稳定性，以及实验环境的控制。
4.数据处理和分析：实验数据需要进行处理和分析，以确定薄膜的热导率。通常采用拟合曲线、计算平均值和标准差等方法，并结合实验条件和样品特性进行误差分析。
5.测量不确定度：标准中规定了测量不确定度的评估方法，用于评估实验结果的准确性。测量不确定度包括设备误差、环境影响、样品特性等多种因素。
6.报告和记录：实验结果需要以报告和记录的形式进行保存和分析。报告应包括实验目的、样品信息、实验步骤、数据处理和分析结果、测量不确定度等信息。记录则用于存档和追溯。
ISO/T40:2002标准为测量硅基片上薄膜热导率提供了详细的实验方法和要求，确保了实验结果的准确性和可靠性。在实际应用中，需
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