• 现行
  • 正在执行有效
  • 2012-02-28 颁布
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【正版授权】 IEC 62047-14:2012 EN-FR Semiconductor devices - Micro-electromechanical devices - Part 14: Forming limit measuring method of metallic film materials_第1页
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基本信息：

  • 标准号：IEC 62047-14:2012 EN-FR
  • 标准名称：半导体器件 - 微机电装置 - 第14部分：金属膜材料成形限制测量方法
  • 英文名称：Semiconductor devices - Micro-electromechanical devices - Part 14: Forming limit measuring method of metallic film materials
  • 标准状态：现行
  • 发布日期：2012-02-28

文档简介

金属膜材料成形限测量方法标准主要规定了金属膜材料成形限测量的方法。它涵盖了金属膜材料在制造过程中可能经历的各种变形和应力情况。该标准提供了详细的步骤和要求，包括选择适当的测量设备和方法，以及如何进行数据分析和解读。此外，该标准还强调了测量过程中的安全性和质量控制的重要性。具体而言，它规定了如何选择和准备样品，如何进行测量并记录数据，以及如何根据测量结果进行评估和报告。该标准对于半导体设备制造商和测试实验室来说非常重要，因为它提供了可靠的方法来评估金属膜材料的成形限，从而确保产品的质量和可靠性。在实施该标准时，必须严格遵守所有规定和要求，以确保测量结果的准确性和可靠性。

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