半导体设备中标专题（2022年6月）：设备国产率持续提升

证券研究报告|行业专题的信息披露和法律声明机机械设备于大市(维持)证证券分析师倪正洋资格编号：S0120521020003研研究助理杨云逍市市场表现9%0%-9%-17%-26021-072021-112022-03-34%相关研相关研究1.《——第34期周观点-6月制造业PMI环比+0.6pp升至扩张区间，2022年电池新技术招标大年，关注HJT订单与降本共振，同时继续推荐，2022.7.2+0.6pp升至扩张区间，目前需求偏2022.6.303.《——第33期周观点-关注HJT6月底到三季度订单与降本共振，推荐HJT受益设备标的，同时继续推荐油，2022.6.254.《——第32期周观点-关注HJT6月底到三季度订单与降本共振，推荐HJT受益设备标的，同时继续推荐船舶、油服行业》，2022.6.185.《光伏设备：金刚玻璃拟扩建为股份、奥特维等相关环节龙头公半半导体设备中标专题(2022年2022年6月国内主流晶圆厂共开标68台工艺设备，上海积塔为扩产主力。我们以长江存储、华力集成、华力微电子、福建晋华、华虹无锡、合肥晶合、上海积塔、中车时代、中芯绍兴、武汉新芯10家中国大陆主要的IDM或代工企业为统计样本，通过中国国际招标网对上述晶圆厂中标情况进行梳理。2022年6月国内10家主流晶圆厂共开标68台工艺设备，主要来自上海积塔(52台)、华虹无锡(11台)、福建晋华(3台)、华力集成(1台)。22年1-6月合计开标548台工艺设备，主要来自华虹无锡(291台)、上海积塔(210台)、时代电气(16台)、福建晋华(23台)、华力集成(6台)、华力微电子(2台)。干法去胶机、后道测试、清洗设备为2022年6月国内晶圆厂主要开标设备。2022年6月开标的68台设备中，按照不同工艺设备开标数量从高到低排列，分别为干法去胶机(14台)、清洗设备(13台)、后道测试设备(11台)、离子注入机(9台)、沉积设备(8台)、刻蚀设备(8台)、前道检测设备(2台)、炉管设备 (2台)、抛光设备(1台)。2022年1-6月开标的548台设备中，按照不同工艺设备开标数量从高到低排列，分别炉管设备(119台)、沉积设备(97台)、刻蚀设备(82台)、前道检测设备(64台)、后道测试设备(46台)、清洗设备(33台)、干法去胶设备(31台)、离子注入机(28台)抛光设备(21台)、涂胶显影设备(17台)、光刻机(10台)。受国内刻蚀、干法去胶、涂胶显影等设备厂家拉动，中标国产率持续提升。2022年6月中国大陆设备中标数量为44台，国产率达64.7%。2022年1-6月开标的548台设备中，源自中国大陆厂家制造的设备共计189台，占比达34.5%。分晶月国产率较高的环节主要为干法去胶设备(国产率81%)、刻蚀设备(54%)、抛光设备(43%)、清洗设备(58%)、涂胶显影设备(35%)。聚焦6月份国内中标厂商，稷以科技(12台)、捷佳伟创(中标11台)、中微公司(7台)排名靠前，持续体现国内厂家在刻蚀、清洗、干法去胶、涂胶显影等设备环节的强势地位。投资建议：重点关注国内半导体设备龙头北方华创(002371)；高端刻蚀设备龙头中微公司(688012)；持续突破高端后道测试机的长川科技(300604)、华峰测控(688200)；涂胶显影与单片清洗不断突破前道环节的国内半导体设备小巨人芯源微(688037)；半导体薄膜沉积龙头拓荆科技(688072)；国产清洗设备领军企业盛美上海(688082)、至纯科技(603690)；离子注入机领先企业万业企业(600641)；半导体环保设备领先企业盛剑环境(603324)等。风险提示：晶圆厂扩产不及预期、设备公司研发不及预期、中美贸易摩擦风险。行业专题机械设备2/12请务必阅读正文之后的信息披露和法律声明1.2022年6月主流晶圆厂设备开标略有下降，上海积塔贡献主要增量 4 1.2.分晶圆厂看：上海积塔6月开标52台设备，华虹无锡开标11台设备 51.3.分设备看：干法去胶机、后道测试、清洗设备贡献2022年6月主要扩产增量.62.设备国产率：刻蚀、干法去胶等设备国产率较高 72.1.分晶圆厂看：上海积塔2022年1-6月设备中标国产率超50% 72.2.分设备看：2022年1-6月干法去胶、刻蚀、清洗设备国产率较高 83.6月中标较多的中国大陆厂家为稷以科技、捷佳伟创、中微公司等 9 3/12请务必阅读正文之后的信息披露和法律声明 图2：2022年6月中国大陆厂家中标设备共44台，国产率达64.7% 7 4表2：半导体设备按工艺不同可分为制程核心设备、良率提升设备、辅助设备 4 ：2022年1-6月中国大陆厂家中标设备共189台，国产率达34.5% 7国产设备分别为126、45台 8表8：2022年1-6月，上海积塔设备国产率超50% 8：2022年1-6月刻蚀设备中国大陆厂家共中标44台设备 8表10：2022年1-6月干法去胶、刻蚀、抛光、清洗国产率较高 9稷以科技、捷佳伟创、中微公司6月中标数量靠前 94/12请务必阅读正文之后的信息披露和法律声明贡统计样本，通过中国国际招标网对上述晶圆厂中标情况进行梳理(详细样本选取样本晶圆厂开标数量(台)181911361024414710879682,0001,8001,6001,4001,2001,0008006004002000样本晶圆厂开标数量(台)2020年2021年2020年2021年升设备(包括前道检测设备、后道测试设备、清洗设备)以及重要辅助设备(包括设备、辅助设备类称结构在涂有光刻胶的硅片进行曝光，将图案复制到硅片上。是指使用气态的化学刻蚀剂与硅片上未被光刻胶覆盖的材料发生物理或化学反应(或两者均有)，以去除暴露行业专题机械设备5/12请务必阅读正文之后的信息披露和法律声明、合金及部分沉积工艺，使得金属和介质层的局部或全局平坦化薄膜沉积设备、合金及部分沉积工艺，使得金属和介质层的局部或全局平坦化度下，准确控制杂质掺入浓度和深度，重复性好。性和可预期性，多用到电镜、膜厚测量设备，套刻测试设备制造后或者封装后芯片功能和电性能的测试，包括探针台、分选机、测试机等设备涂胶的方法涂上液相光刻胶材料，用显影液溶解光刻胶可溶区 形出现在硅片上，硅片用去离子水冲洗后甩干IDM或代工企业为主。以上十家企业分别覆盖存储、逻辑、驱动IC、功D华力微电子(华虹5厂)28nm艺(华虹6厂)nm艺(华虹7厂)5nm/MOSFETTMEMS建晋华合肥晶合位为设备中标“台”数，为保证中标时间的领先性，我们以设备评标公示时间为准，并结合后续中标信息备6月开标的68台设备主要来自上海积塔(52台)、华虹无锡(11台)、福建晋华(3台)、华力集成(1台)，上海积塔及华虹无锡扩产贡献主要增量。6月开标的548台设备主要来自华虹无锡(291台)、上海积塔(210台)、时代电气(16台)、福建晋华(23台)、华力集成(6台)、华力微电子(2台)，行业专题机械设备6/12请务必阅读正文之后的信息披露和法律声明。20年21年月月月月月月月98000000030001012001131600000000342701320建晋华133583合肥晶合000000008420000000计4448由于不同招标批次对应设备采购种类不同，因此不同时期工艺设备招标种类也会低排列，分别为干法去胶机(14台)、清洗设备(13台)、后道测试设备(11台)、离子注入机(9台)、沉积设备(8台)、刻蚀设备(8台)、前道检测设备(2台)、炉管设备(2台)、抛光设备(1台)。标台)、沉积设备(97台)、刻蚀设备(82台)、前道检测设备(64台)、后道测试设备(46台)、清洗设备(33台)、干法去胶设备(31台)、离子注入机 (28台)抛光设备(21台)、涂胶显影设备(17台)、光刻机(10台)。311140488475188972143076141902道测试110120464410943001151740311936052计4行业专题机械设备7/12请务必阅读正文之后的信息披露和法律声明2.设备国产率：刻蚀、干法去胶等设备国产率较高此与实际市场规模测算的国产率有一定差异。且考虑不同晶圆厂、不同工艺设备近年来受益于北方华创、中微公司、盛美半导体、芯源微、屹唐半导体、至纯科干法去管、涂胶显影等领域半导体设备中标国产率较高。从年度数据来看，2021；70%60%50%40%30%20%10%0%半导体设备中标国产率2021年2020年2022年1月2022年2月22021年2020年2022年1月2022年2月2022年3月2022年5月2022年6月月备中标0%%%0%6%%开标的548台设备主要来自华虹无锡(291台)、上海积塔(210台)、时代电气(16台)、福建晋华(23台)、华力集成(6台)、华力微电子(2台)。国产设备中标数较多的晶圆厂为上海积塔(126台)、华虹无锡(45台)、时代电气(8台)、福建晋华(9台)。其中上海积塔国产率超50%，华虹无锡开标设备行业专题机械设备8/12请务必阅读正文之后的信息披露和法律声明0000000400000000400001015341445480000000460204243600152008建晋华021103319合肥晶合800000000070000000计4948440%%%0%6%1%年年%/华力微电子(华虹5厂)%华力集成(华虹6厂)%华虹无锡(华虹7厂)%%/建晋华合肥晶合.4%///计国产率%备中标数量从高到低排序，不同工艺设备国内厂家中标情况如下：刻蚀设备(44台)、沉积设备(29台)、炉管设备(26台)、干法去胶设备(25台)、前道清洗设备(19台)、离子注入机(7台)、后道测试设备(12台)、涂胶显影设备(6台)、光刻机(1台)。其中国产率较清洗设备(58%)、涂胶显影设备(35.3%)。备21年光刻2000001010425844沉积39400402203294001061离子注入400610007行业专题机械设备9/12请务必阅读正文之后的信息披露和法律声明002171后道测试71410130081282100230CMP抛光3215301050901093炉管6327000223126计4948440%%%0%6%0%%%%道测试.7%.9%.4%.0%计国产率%%%%务的设备厂家)。类简称体有限公司特色工艺机6上海市2022/6/7上海稷以科技有限公司机稷以科技体有限公司特色工艺机6/6/7技有限公司机稷以科技体有限公司特色工艺1上海市2022/6/7创微微电子(常州)有伟创行业专题机械设备10/12请务必阅读正文之后的信息披露和法律声明体有限公司特色工艺金属钛去除机1/6/7创微微电子(常州)有佳伟创体有限公司特色工艺2上海市2022/6/7创微微电子(常州)有伟创体有限公司特色工艺2/6/7创微微电子(常州)有佳伟创体有限公司特色工艺片清洗机1上海市2022/6/7创微微电子(常州)有伟创体有限公司特色工艺1/6/7创微微电子(常州)有佳伟创体有限公司特色工艺槽2上海市2022/6/7创微微电子(常州)有伟创体有限公司特色工艺槽1/6/7创微微电子(常州)有佳伟创体有限公司特色工艺度测量设备1上海市2022/6/7上海精测半导体技术有前道检测设备体有限公司特色工艺电性测试测1/6/7电路有限后道测试公司设备体有限公司特色工艺铝铜金属溅射设备3上海市2022/6/7公司江苏旭宇腾体有限公司特色工艺4/6/10子有限公司测试建晋华建省晋华集成电路有限公司存储目1福建省2022/6/9盛美半导体设备(上海)股份有限公司盛美半导体备备1/6/27中微半导体设备(上海)股份有限公司体有限公司特色工艺钝化层等离子刻蚀机7上海市2022/6/21刻蚀设备中微公司2/6/16杭州广立微电子股份有后道测试设备杭州广立微电子仪1/6/16杭州广立微电子股份有后道测试设备杭州广立微电子11/12请务必阅读正文之后的信