薄膜光学9-2课件_第1页
薄膜光学9-2课件_第2页
薄膜光学9-2课件_第3页
薄膜光学9-2课件_第4页
薄膜光学9-2课件_第5页
已阅读5页，还剩15页未读， 继续免费阅读

下载本文档

版权说明：本文档由用户提供并上传，收益归属内容提供方，若内容存在侵权，请进行举报或认领

文档简介

薄膜光学——薄膜制备工艺简介光学薄膜制备工艺基片性能检测中国科学院长春光学精密机械与物理研究所薄膜光学——蒸发工艺简介基片的种类：玻璃、陶瓷金属晶体塑料基片的清洗：洗涤剂、化学药品、超声波清洗、离子轰击、烘烤清洗、蒸汽清洗、紫外线和臭氧等清洗方法中国科学院长春光学精密机械与物理研究所薄膜光学——蒸发工艺简介成膜工艺化学方法物理方法化学气相沉积电镀电解阳极氧化等等真空蒸镀离子镀溅射分子束外延等等中国科学院长春光学精密机械与物理研究所薄膜光学——蒸发工艺简介真空系统现代的光学薄膜制备，无论是PVD还是CVD都是在真空下获得的。根据：P-压强、V-体积、T-绝对温度、M-分子量、m-质量、R-气体普适常数（8.31x1023/mol)大气下n=3x1019个/厘米3，P=1.33x10-4,n=3.2x1010个/厘米3中国科学院长春光学精密机械与物理研究所薄膜光学——蒸发工艺简介真空度的表示1Pa=1N/m21Torr=133.3Pa1(atm)标准大气压=760Torr1mmHg=1.00000014Torr中国科学院长春光学精密机械与物理研究所薄膜光学——蒸发工艺简介初真空低真空高真空超高真空真空度Pa>103103-10-110-1-10-6<10-6平均自由程（cm)<10-410-4-55-105>105气流特点1.以气体分子间的碰撞为主2.粘滞流过渡区域1.以气体分子与器壁的碰撞为主2.分子流平均吸附时间气体分子以空间飞行为主以吸附停留为主中国科学院长春光学精密机械与物理研究所薄膜光学——蒸发工艺简介泵名原理工作范围Torr102110-210-410-610-810-1010-12

机械泵分子泵罗茨泵机械里压缩排除气体扩散泵靠蒸汽射流携带排除气体溅射离子泵钛升华泵靠溅射或升华形成吸气、吸附排除气体吸附泵冷凝泵利用低温表面对气体进行物理吸附排气真空泵抽气原理及工作范围机械泵原理图油扩散泵中国科学院长春光学精密机械与物理研究所薄膜光学——蒸发工艺简介蒸发系统：热蒸发溅射离子镀离子辅助蒸发钟罩镀膜机示意图1加热2玻璃3蒸发源4钟罩中国科学院长春光学精密机械与物理研究所薄膜光学——蒸发工艺简介热蒸发坩埚中国科学院长春光学精密机械与物理研究所薄膜光学——蒸发工艺简介高频溅射又称射频溅射——为溅射介质材料而设计磁控溅射——提高离化率、溅射速率，降低基片温度反应溅射中国科学院长春光学精密机械与物理研究所薄膜光学——蒸发工艺简介离子镀技术离子镀技术是在热蒸发技术和溅射技术结合的基础上发展起来的新工艺，1963年首先应用于人造卫星的金属滑膜。特点：膜层附着力强密度高均匀性好沉积速度快、应用：高硬度刀具耐磨固体润滑膜中国科学院长

人人文库> 全部分类> 行业资料 > 医学制药

温馨提示

  • 1. 本站所有资源如无特殊说明，都需要本地电脑安装OFFICE2007和PDF阅读器。图纸软件为CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.压缩文件请下载最新的WinRAR软件解压。
  • 2. 本站的文档不包含任何第三方提供的附件图纸等，如果需要附件，请联系上传者。文件的所有权益归上传用户所有。
  • 3. 本站RAR压缩包中若带图纸，网页内容里面会有图纸预览，若没有图纸预览就没有图纸。
  • 4. 未经权益所有人同意不得将文件中的内容挪作商业或盈利用途。
  • 5. 人人文库网仅提供信息存储空间，仅对用户上传内容的表现方式做保护处理，对用户上传分享的文档内容本身不做任何修改或编辑，并不能对任何下载内容负责。
  • 6. 下载文件中如有侵权或不适当内容，请与我们联系，我们立即纠正。
  • 7. 本站不保证下载资源的准确性、安全性和完整性, 同时也不承担用户因使用这些下载资源对自己和他人造成任何形式的伤害或损失。

最新文档

评论

0/150

提交评论