标准解读
《GB/T 35158-2017 俄歇电子能谱仪检定方法》是中国国家标准之一,旨在为俄歇电子能谱仪的性能测试与校准提供一套标准化的方法。该标准适用于实验室环境下使用的各种类型的俄歇电子能谱仪,包括但不限于扫描型和非扫描型设备。
本文件详细规定了对俄歇电子能谱仪进行检测时需要考虑的关键参数及其相应的测量方法,如能量分辨率、空间分辨率、稳定性等,并明确了每项指标的具体要求。通过这些规定的执行,可以确保仪器在不同实验室之间具有可比性,从而提高科学研究的质量与可靠性。
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....
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- 现行
- 正在执行有效
- 2017-12-29 颁布
- 2018-11-01 实施
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文档简介
ICS7104040
G04..
中华人民共和国国家标准
GB/T35158—2017
俄歇电子能谱仪检定方法
VerificationmethodforAugerelectronspectrometers
2017-12-29发布2018-11-01实施
中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局发布
中国国家标准化管理委员会
GB/T35158—2017
目次
前言
…………………………Ⅲ
引言
…………………………Ⅳ
范围
1………………………1
规范性引用文件
2…………………………1
缩略语和符号
3……………1
缩略语
3.1………………1
符号
3.2…………………1
方法原理与系统构成
4……………………4
方法原理
4.1……………4
系统构成
4.2……………4
计量单位与技术指标
5……………………4
计量单位
5.1……………4
技术指标
5.2……………5
检定环境
6…………………6
外观要求
6.1……………6
安装场所要求
6.2………………………6
电源
6.3…………………6
环境温度与湿度
6.4……………………6
检定项目与方法
7…………………………6
能量标检定
7.1…………………………6
强度标检定
7.2…………………………24
横向分辨率检定
7.3……………………31
离子枪检定
7.4…………………………40
荷电控制与校正检定
7.5………………50
报告检定结果
8……………55
检定周期
9…………………55
参考文献
……………………56
Ⅰ
GB/T35158—2017
前言
本标准按照给出的规则起草
GB/T1.1—2009。
本标准由全国微束分析标准化技术委员会提出并归口
(SAC/TC38)。
本标准起草单位厦门大学清华大学
:、。
本标准起草人姚文清岑丹霞张增明徐建刘芬王水菊
:、、、、、。
Ⅲ
GB/T35158—2017
引言
俄歇电子能谱仪广泛用于材料的实验性和常规性表面与界面分析为纳米尺度的表面分析
(AES),
仪器我国目前有多家公司几十台不同型号的该类仪器由于没有合适的检定方法的综合性国家标
。。
准仪器的能量标强度标溅射速率横向分辨率等各项性能标准不统一因此需要制定检定方法的国
,、,、,
家标准以实现获取的谱图数据的科学性和可比性这对于促进我国光电信息能源及新材料等相关领
,,、
域的科技与产业的发展很有意义
。
Ⅳ
GB/T35158—2017
俄歇电子能谱仪检定方法
1范围
本标准规定了俄歇电子能谱仪的检定方法
(Augerelectronspectrometer)。
本标准适用于激发源为电子束且带有溅射清洁用离子枪的俄歇电子能谱仪
,。
2规范性引用文件
下列文件对于本文件的应用是必不可少的凡是注日期的引用文件仅注日期的版本适用于本文
。,
件凡是不注日期的引用文件其最新版本包括所有的修改单适用于本文件
。,()。
表面化学分析溅射深度剖析用层状膜系为参考物质的优化方法
GB/T20175—2006
表面化学分析射线光电子能谱仪和俄歇电子能谱仪强度标的线性
GB/T21006—2007X
表面化学分析俄歇电子能谱和射线光电子能谱横向分辨率的测定
GB/T28632—2012X
表面化学分析俄歇电子能谱谱仪强度标的重复性和一致性
GB/T29558—2013
表面化学分析高分辨俄歇电子能谱仪元素和化学态分析的能量标校准
GB/T29731—2013
表面化学分析中等分辨率俄歇电子能谱仪元素分析的能量标校准
GB/T29732—2013
表面化学分析俄歇电子能谱荷电控制与校正方法报告的规范要求
GB/T32998—2016
表面化学分析深度剖析和深度剖析时离子束对准方法及相应的
ISO16531:2013AESXPS
电流或电流密度测量
(Surfacechemicalanalysis—Depthprofiling—Methodsforionbeamalignment
andtheassociatedmeasurementofcurrentorcurrentdensityfordepthprofilinginAESandXPS)
表面化学分析深度剖析溅射深度剖析时使用多层薄膜测定射线光电子能
ISO17109:2015X
谱俄歇电子能谱和二次离子质谱溅射速率的方法
、(Surfacechemicalanalysis—Depthprofiling—Methodfor
sputterratedeterminationinX-rayphotoelectronspectroscopy,Augerelectronspectroscopyandsecondary-io
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