标准解读
《GB/T 34697-2017 含氟蚀刻废液处理处置方法》是一项国家标准,主要针对电子工业中产生的含氟蚀刻废液的处理与处置提供指导。该标准适用于含有氟化物的蚀刻废液,其目的是为了确保这些废液能够被安全、有效地管理和处置,从而减少对环境的影响。
根据此标准,含氟蚀刻废液的处理处置过程包括但不限于以下几个方面:
- 分类收集:首先需要根据废液的具体成分和性质进行分类收集,这是保证后续处理效率和效果的基础。
- 预处理:对于收集来的废液,可能需要先经过一定的物理或化学方法预处理,如沉淀、过滤等步骤去除大颗粒杂质或其他非目标物质,为下一步更精细的处理做准备。
- 氟回收技术:标准推荐了几种从废液中回收氟的方法,比如使用化学沉淀法、膜分离技术或者是吸附剂来富集并提取出有用的氟资源,这样做不仅减少了环境污染,还实现了资源的循环利用。
- 最终处置:对于无法直接回用或者回收价值较低的部分,则需按照国家相关法律法规要求采取合适的最终处置方式,如固化/稳定化后填埋等,确保不会对土壤、水源造成污染。
如需获取更多详尽信息,请直接参考下方经官方授权发布的权威标准文档。
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- 现行
- 正在执行有效
- 2017-11-01 颁布
- 2018-05-01 实施
![GB/T 34697-2017含氟蚀刻废液处理处置方法_第1页](http://file4.renrendoc.com/view/aeb57e7aaabd939e547788731a848a3d/aeb57e7aaabd939e547788731a848a3d1.gif)
![GB/T 34697-2017含氟蚀刻废液处理处置方法_第2页](http://file4.renrendoc.com/view/aeb57e7aaabd939e547788731a848a3d/aeb57e7aaabd939e547788731a848a3d2.gif)
![GB/T 34697-2017含氟蚀刻废液处理处置方法_第3页](http://file4.renrendoc.com/view/aeb57e7aaabd939e547788731a848a3d/aeb57e7aaabd939e547788731a848a3d3.gif)
文档简介
ICS1303020
Z05..
中华人民共和国国家标准
GB/T34697—2017
含氟蚀刻废液处理处置方法
Treatmentanddisposalmethodforspentfluoricetchant
2017-11-01发布2018-05-01实施
中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局发布
中国国家标准化管理委员会
GB/T34697—2017
前言
本标准按照给出的规则起草
GB/T1.1—2009。
本标准由中国石油和化学工业联合会提出
。
本标准由全国废弃化学品处置标准化技术委员会归口
(SAC/TC294)。
本标准起草单位杭州格林达化学有限公司昆明培铭科技有限公司常州清流环保科技有限公司
:、、、
深圳市中润水工业技术发展有限公司四川省中明环境治理有限公司深圳慧欣环境技术有限公司重
、、、
庆蓝洁广顺净水材料有限公司蓝保厦门水处理科技有限公司江西核工业环境保护中心浙江海翔
、()、、
净水科技有限公司天津理工大学重庆大学重庆新申世纪化工有限公司中海油天津化工研究设计院
、、、、
有限公司
。
本标准主要起草人尹云舰赵红林韩晓刚李润生何中明黄崇坚谷飞陈嘉宾杜兴胜张怡
:、、、、、、、、、、
李梅彤陈玉英陈建敏郑怀礼申静弓创周
、、、、、。
Ⅰ
GB/T34697—2017
含氟蚀刻废液处理处置方法
1范围
本标准规定了含氟蚀刻废液组成处理处置方法及环境保护要求
、。
本标准适用于液晶显示屏玻璃蚀刻光伏行业蚀刻硅片蚀刻电极箔蚀刻及稀土蚀
TFT-LCD、、IC、
刻所产生含氟蚀刻废液的处理处置
。
2规范性引用文件
下列文件对于本文件的应用是必不可少的凡是注日期的引用文件仅注日期的版本适用于本文
。,
件凡是不注日期的引用文件其最新版本包括所有的修改单适用于本文件
。,()。
危险废物鉴别标准通则
GB5085.7
污水综合排放标准
GB8978
大气污染物综合排放标准
GB16297
一般工业固体废物贮存处置场污染控制标准
GB18599、
工业氟硅酸钠
GB/T23936
氟化钙
GB/T27804
工业氟化铵
GB/T28653
工业氟化氢铵
GB/T28655
工业氟硅酸铵
HG/T4692
工业氟硅酸钾
HG/T4693
氟化镁
YS/T691
3含氟蚀刻废液组成
含氟蚀刻废液主要组成见表
1。
表1主要组成
来源
项目液晶显示屏玻璃蚀刻
TFT-LCD、电极箔蚀刻废液稀土蚀刻废液
光伏行业蚀刻硅片蚀刻废液
、IC
氢氟酸w
(HF)/%1~101~105~15
氟硅酸w
(H2SiF6)/%5~15—3~10
盐酸w
(HCl)/%3~8—≤0.1
硫酸w
(H2SO4)/%1~31~3—
硝酸w
(HNO3)/%2~101~3
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