标准解读

《GB/T 15909-2017 电子工业用气体 硅烷》相比于《GB/T 15909-2009 电子工业用气体 硅烷(SiH4)》,主要在以下几个方面进行了调整和更新:

  1. 范围与适用性:2017版标准可能对硅烷的应用领域或适用条件进行了细化或扩展,以适应电子工业发展的新需求。

  2. 规范性引用文件:更新了引用的国家标准和国际标准清单,确保标准内容与当前的技术发展水平和安全环保要求保持一致。

  3. 术语和定义:可能新增或修订了部分专业术语的定义,以便更准确地描述硅烷的质量特性和检测方法。

  4. 技术要求:对硅烷的纯度、杂质含量、物理性质等关键指标进行了重新评估和设定,可能提高了某些参数的要求,以满足电子元件制造对材料质量的更高标准。

  5. 试验方法:改进或引入了新的检测技术和分析方法,提高了测试精度和效率,确保测试结果的可靠性和可重复性。

  6. 检验规则:对产品的抽样、检验流程及合格判定准则进行了优化,可能增强了对产品质量控制的严格性。

  7. 标志、标签、包装、运输和储存:这部分内容可能根据最新的安全规范和物流要求进行了调整,增加了对环境保护和操作安全性的指导。

  8. 资料性附录:可能加入了新的参考信息、数据表格或案例研究,为使用者提供更多实用指南和帮助。


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....

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  • 现行
  • 正在执行有效
  • 2017-05-31 颁布
  • 2017-12-01 实施
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GB/T 15909-2017电子工业用气体硅烷_第1页
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文档简介

ICS7110020

G86..

中华人民共和国国家标准

GB/T15909—2017

代替

GB/T15909—2009

电子工业用气体硅烷

Gasforelectronicindustry—Silane

2017-05-31发布2017-12-01实施

中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局发布

中国国家标准化管理委员会

GB/T15909—2017

前言

本标准按照给出的规则起草

GB/T1.1—2009。

本标准代替电子工业用气体硅烷与相比除编辑性

GB/T15909—2009《》。GB/T15909—2009,

修改外主要技术变化如下

:

修改了标准名称删除了标准名称中硅烷的分子式

———,(SiH4);

修改了范围增加了适用的制备方法修改了适用范围见第章年版的第章

———:,(1,20091);

修改了规范性引用文件删除增加

———:GB/T8984.3、GB/T11640,GB/T11446.1、GB15258、

见第章年版的第章

GB/T16804、GB/T26571、GB/T28726(2,20092);

修改了技术要求修改硅烷纯度为-2体积分数见第章年版的第章

———:99.9999×10()(3,20093);

删除了电性能规格见年版的

———(20093.3);

修改了硅烷纯度的计算见年版的

———(4.2,20094.2);

修改了氢氧氩氮甲烷烃一氧化碳二氧化碳乙硅烷含量的测定方法见年

———、+、、、、、、(4.4,2009

版的

4.4、4.6、4.7、4.9);

删除了测定氯化物总量测定方法见年版的

———(20094.5);

增加了氯硅烷含量的测定方法见

———(4.4);

修改了水含量测定方法的仪器检测限见年版的

———(4.5,20094.8);

增加了金属及其他元素含量的测定方法见

———(4.6);

修改了标志包装贮运及安全见第章年版的第章

———、、(5,20095)。

本标准由全国半导体设备和材料标准化技术委员会提出

(SAC/TC203)。

本标准由全国半导体设备和材料标准化技术委员会气体分技术委员会归口

(SAC/TC203/SC1)。

本标准起草单位西南化工研究设计院有限公司浙江赛林硅业有限公司广东华特气体股份有限

:、、

公司中昊光明化工研究设计院有限公司高麦仪器公司天津长芦华信化工股份有限公司大连大特气

、、、、

体有限公司上海华爱色谱分析技术有限公司上海计量测试研究院化工气体质检中心江苏中能硅业

、、、、

科技发展有限公司浙江中宁硅业有限公司南京亚格泰新能源材料有限公司浙江大学安徽省滁州市

、、、、

硅谷特种气体有限公司

本标准主要起草人余京松杨智敏傅铸红杜汉盛孙福楠牛艳东李长富周朋云曲庆方华

:、、、、、、、、、、

陈鹰常侠刘晓霞周延江高平洲徐昕

、、、、、。

本标准所代替标准的历次版本发布情况为

:

———GB/T15909—1995、GB/T15909—2009。

GB/T15909—2017

电子工业用气体硅烷

1范围

本标准规定了硅烷气体的技术要求试验方法标志包装贮运及安全的内容

、、、、。

本标准适用于硅化镁法氢化铝钠还原四氟化硅法氯硅烷歧化工艺法制备的电子工业用硅烷它

、、。

主要用于制作高纯多晶硅二氧化硅的低温化学气相淀积氮化硅化学气相淀积多晶硅隔离层多晶硅

、、、、

欧姆接触层和异质或同质硅外延生长原料以及离子注入源和激光介质等还可用于制作太阳能电池光

,、

导纤维和光电传感器等

分子式

:SiH4。

相对分子质量按年国际相对原子质量

:32.117(2011)。

2规范性引用文件

下列文件对于本文件的应用是必不可少的凡是注日期的引用文件仅注日期的版本适用于本文

。,

件凡是不注日期的引用文件其最新版本包括所有的修改单适用于本文件

。,()。

危险货物包装标志

GB190

工业用化学产品采样安全通则

GB/T3723

钢质无缝气瓶

GB/T5099

气体湿度的测定第部分电解法

GB/T5832.11:

气瓶颜色标志

GB/T7144

电子级水

GB/T11446.1

液化气体气瓶充装规定

GB/T14193

化学品安全标签编写规定

GB15258

气瓶警示标签

GB/T16804

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