标准解读

《GB/T 15909-1995 电子工业用气体 硅烷(SiH4)》这一标准详细规定了电子工业中所使用的硅烷(SiH4)气体的技术要求、试验方法、检验规则以及包装、标志、运输和储存要求，旨在确保硅烷气体的质量满足电子工业生产过程中的特定需求。以下是对该标准主要内容的展开说明：

  1. 范围：明确了本标准适用于以硅烷为主要成分，用于电子器件制造过程中的高纯度硅烷气体。规定了其适用的纯度等级、杂质含量限制及其它关键质量指标。

  2. 规范性引用文件：列出了执行本标准时需要参考的其他相关国家标准或规范文件，这些文件对于理解及实施具体测试和评判标准至关重要。

  3. 术语和定义：对硅烷及其相关专业术语进行定义，帮助读者准确理解标准内容。

  4. 要求：

    • 纯度：规定了硅烷气体的最低纯度要求，通常要求极高纯度以避免杂质对半导体器件性能的影响。
    • 杂质含量：详细列出了可能存在的杂质元素（如氧、氮、碳氢化合物等）及其最大允许含量，确保这些杂质不会对最终产品的性能造成不良影响。
    • 物理性质：虽不直接作为质量控制指标，但可能提供了关于气体存储和运输条件的信息。

  5. 试验方法：描述了如何通过化学分析、气相色谱法等手段来测定硅烷的纯度及杂质含量，确保测试结果的准确性和可重复性。

  6. 检验规则：包括了产品出厂前的检验项目、抽样方法、合格判定准则等，确保每批次硅烷气体均符合标准要求。

  7. 包装、标志、运输和储存：

    • 包装：规定了硅烷气体应采用的容器材质、密封要求，以防止气体泄漏和外界污染。
    • 标志：要求在包装上明确标注产品名称、批号、纯度等级、生产日期、有效期及安全警示等信息。
    • 运输：提供了运输过程中应遵循的安全措施和注意事项，以防止事故和保持气体品质。
    • 储存：指明了硅烷气体的理想储存条件，如温度、压力、避光及远离火源等，以维持其稳定性和纯度。

该标准为电子工业领域内硅烷气体的生产、检测、销售及使用提供了一套全面而严格的质量控制框架，保障了半导体制造业原材料的质量安全与可靠性。


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  • 被代替
  • 已被新标准代替，建议下载现行标准GB/T 15909-2009
  • 1995-12-20 颁布
  • 1996-08-01 实施
©正版授权
GB/T 15909-1995电子工业用气体硅烷(SiH4)_第1页
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1CS71.100.20G86中华人民共和国国家标准CB/T15909一1995电子工业用气体硅烷(SiH4)Gasforelectronicindustry-Silane1995-12-20发布1996-08-01实施国家技术监督局发布

中华人民共和国国家标准cB/T15909-1995电子工业用气体硅烷（SiHI）Gasforelectronicindustry-Silane1主题内客与适用范围本标准规定了电子工业用硅烷气体的技术要求、检验方法、检验规则、包装、标志、运输、财存和安全要求等。本标准主要用于电子工业中多品硅和单品硅外延淀积、二氧化硅的低温化学汽相淀积、非品硅薄膜淀积等。分子式：SiH相对分子质量：32.117(按1991年国际相对原子质量)。101.3kPa下的沸点：一112C。20℃和101.3kPa下气体密度：1.342kg/m²。-185C下液体密度：711kg/m²。2引用标准GB190危险货物包装标志！无机化工产品中氯化物含量测定的通用方法GB/T3051量法GB/T5274体分析枚准用混和气体的制备·称量法GB/T5832.1气体中微量水分的测定电解法GB7144气瓶颜色标记3技术要求3.1质量指标硅烷的质量应符合下表的要求。对硅烧中重金属和颗粒的要求由供方与用户商定。纯度：10-一氧化碳和二氧化碳(CO+CO.),10°氯化物总量（包括氯硅烧.HCI等可离子化的氯化物),10-100烃(C～C,）,10-氢(H.),10-。9001复（N.）,10-氧(0.）,10-水（H.O)

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