多晶硅精馏车间培训资料

多晶硅精馏车间培训资料培训内容精馏简介物料介绍原理及设备塔器及工艺流程操作安全1、精馏简介1.1精馏技术是现代传质理论在化学、化工过程工业分离领域中的一项关键共性技术，广泛应用于石油炼制、石油化工、化学工业、精细化学品、化肥工业、空气分离、原子能化工、环境保护、中药现代化和天然产物分离等产品和工业过程。在提高产品的纯度和收益率、降低生产过程的能耗和控制环境污染方面具有重要作用。对显著提升传统化工装置技术水平、推动行业科技进步具有重要意义。1.2精馏单元简介多晶硅生产的工艺过程：多晶硅生产的工艺过程简单概括为：三个化学反应，一系列的分馏提纯，使冶金硅成为高纯度多晶硅的除杂过程。在半导体硅的生产中，三氯氢硅或四氯化硅提纯是一个关键工序。TCS合成工序产品有SiHCl3（TCS），SiCl4（STC），SiH2Cl2（DCS），CH3SiHCl2（MDCS），BCl3，PCl3，PCl5，AlCl3，FeCl2，其中的杂质（如硼），在物理提纯过程中很难除掉，对于其他杂质，物理提纯也要耗费更多的时间和费用方能除去。其中有：精馏、萃取、固体吸附、部分水解、络合等。但在工业生产中，目前应用最为广泛的是精馏提纯，下图是工艺技术路线图。高纯概念多晶硅生产是一个由SiSi99.5Si成六到十个“9”的过程。产品纯度高，生产所用原、副材料要求纯度高，生产工艺过程中的设备、管道等给介质带入的杂质量要少，安装、清洗要求相应要严格得多，目的都是为了追求一个“纯”字。通常用百分比含量来表示物质的纯度，半导体行业常用“PPm”“PPb”“PPt”表示物质的纯度，其换算关系为：PPm10-6；99.9999%6“9”PPb——杂质含10-9；99.9999999%9“9”PPt——99.9999999999%11“9”2.0物料介绍精馏工序主要涉及到的物料有SiHCl3（TCS），SiCl4（STC），SiH2Cl2（DCS），CH3SiHCl2（MDCS），BCl3，PCl3和聚氯硅烷等。-7057.6无色透明液体。有窒息气味，对皮肤有腐蚀。潮湿受气中水解而成硅酸和氯化氢，同时产生白烟。溶于四氯化碳、四氯化钛、四氯化锡及有机溶剂。能与水发生激烈水解作用，也能与醇类起作用。干燥空气中加热生成氧氯化硅。与氢及其他还原剂作用生成三氯甲硅烷和其他氯代硅烷，与胺、氨迅速反应生成氮化硅聚合物，与醇反应生成硅酸酯类，与有机金属化合物(如锌、汞、钠)反应生成有机硅烷，有毒性（见安全部分）。应用领域有机工业主要用于合成有机桂化合物．如有机硅树脂、有机硅橡胶、耐热垫衬材料、有机硅油、有机硅单体、硅酸酯类等。电子工业用于制取半导体材料硅。冶金工业用于制造耐腐蚀硅铁。军事工业用于制造烟幕剂。涂料工业用于制造高温绝缘漆。铸造工业用作说模剂。另外，还用于制造各种无机进化合物和用作分析试剂等。2.3SiH2Cl2理化性质在室温和大气压力下是一种高可燃、腐蚀性有毒气体。于21.1℃和=1)3.484.228kg/m3；液体密1235kg/m3(21.1℃)，1188kg/m3(40.6℃)8.2℃122℃4.1％～98.858℃触迅速水解产生二氧化硅和盐酸，有毒性（见安全部分）2.4MDCS分子式CH3Cl2SiH115.04，无色液体，具有刺鼻气味，易潮解53.32kPa(23.7℃)；-90.6℃；41.9℃；溶解性：溶于苯=1)1.10；相对密度(空气=1)4.0定；危险标记10,7,202.5聚硅烷：分子式：[SiR2]n性质：主链为直接互相连接的Si-SiRSi-Si400℃高温下加B(OSiCl3)3硅烷共聚的聚硅烷可以生成可溶可熔的聚硅烷，故可纺丝和成膜。2.6BCL3117.19无色发烟液体或气体，有强烈臭味，易潮解；蒸汽压101.32kPa(12.5℃)；熔点107.3℃；沸点12.5℃；溶解性:溶于苯、二硫化碳;密度:相对密度(水=1)1.43；相对密度(空气=1)4.03途:用作半导体硅的掺杂源或有机合成催化剂，还用于高纯硼或有机硼的制取。有毒性（见安全部分）。2.7PCl3分子量137.33无色澄清易流动的发烟液体。密度1．574g／cm3。熔点-112℃。沸点75．5℃。有毒。易燃。有腐蚀胜，易刺激粘膜。潮湿空气中或水中能迅速分解。如混有微量游离黄磷存在时，则颜色带黄而且混蚀。可与醚、四氯甲烷、苯和二硫化碳以任何比例混合，遇乙醇和水均能水解成亚磷酸和氯化氢，发生白烟。与氧作用能生成氧氯化磷，与硫作用能生成硫氯化磷，与氯作用能生成五氯化磷，与有机物接触会着火燃烧。应用主要用于制造敌百虫、甲胺磷、稻瘟净等有机农药原料。医药工(S．D)及二氯二砜。染料工业用于生产色酚类的缩合还用作珠光金属的垫层、氯化剂、催化剂及磷的溶剂。有毒性（见安全部分）3.03.1（1）双组分理想物系的汽