西电集成电路制造技术第八章 光刻与刻蚀工艺.ppt

1、第八章 光刻与刻蚀工艺,主 讲：毛 维 西安电子科技大学微电子学院,绪论,光刻：通过光化学反应，将光刻版（mask）上的图形 转移到光刻胶上。 刻蚀：通过腐蚀，将光刻胶上图形完整地转移到Si片上 光刻三要素： 光刻机 光刻版（掩膜版） 光刻胶 ULSI对光刻的要求： 高分辨率；高灵敏的光刻胶； 低缺陷；精密的套刻对准；,绪论,光刻胶三维图案,绪论,集成电路芯片的显微照片,绪论,接触型光刻机,步进型光刻机,绪论,掩膜版与投影掩膜版 投影掩膜版（reticle）是一个石英版，它包含了要在硅片上重复生成的图形。就像投影用的电影胶片的底片一样。这种图形可能仅包含一个管芯，也可能是几个。 光掩膜版（ph

2、otomask）常被称为掩膜版(mask)，它包含了对于整个硅片来说确定一工艺层所需的完整管芯阵列。,绪论,掩膜版的质量要求： 若每块掩膜版上图形成品率90，则 6块光刻版，其管芯图形成品率（90）653； 10块光刻版，其管芯图形成品率（90）1035； 15块光刻版，其管芯图形成品率（90）1521； 最后的管芯成品率当然比其图形成品率还要低。,绪论,特征尺寸（关键尺寸）关键尺寸常用做描述器件工艺技术的节点或称为某一代。0.25m以下工艺技术的节点是0.18m、0.15m、0.1m等。 套准精度 光刻要求硅片表面上存在的图案与掩膜版上的图形准确对准，一般而言，器件结构允许的套刻误差为器件特

3、征尺寸的三分之一左右，当图形形成要多次用到掩膜版时，任何套准误差都会影响硅片表面上不同图案间总的布局宽容度。而大的套准容差会减小电路密度， 即限制了器件的特征尺寸，从而降低 IC 性能。,绪论,Clean Room 洁净等级：尘埃数/m3；（尘埃尺寸为0.5m） 10万级：350万，单晶制备； 1万级：35万，封装、测试； 1000级：35000，扩散、CVD； 100级：3500，光刻、制版； 深亚微米器件（尘埃尺寸为0.1m） 10级：350，光刻、制版； 1级： 35，光刻、制版；,8.1 光刻工艺流程,主要步骤： 涂胶、前烘、曝光、显影、 坚膜、刻蚀、去胶。 两种基本工艺类型： 负性光

4、刻和正性光刻。,n-Si,负性光刻,n-Si,不透光,n-Si,n-Si,n-Si,负性光刻,n-Si,正性光刻,n-Si,不透光,n-Si,n-Si,n-Si,正性光刻,8.1 光刻工艺流程,8.1 光刻工艺流程,8.1.1 涂胶 1.涂胶前的Si片处理(以在SiO2表面光刻为例) SiO2:亲水性；光刻胶：疏水性； 脱水烘焙:去除水分 HMDS：增强附着力 HMDS：六甲基乙硅氮烷(CH3)6Si2NH 作用：去掉SiO2表面的-OH,HMDS热板脱水烘焙和气相成底膜,8.1 光刻工艺流程,8.1.1 涂胶 2.涂胶 对涂胶的要求：粘附良好，均匀，薄厚适当 胶膜太薄针孔多，抗蚀性差； 胶膜

5、太厚分辨率低（分辨率是膜厚的58倍） 涂胶方法：浸涂，喷涂，旋涂,8.1 光刻工艺流程,8.1.2 前烘 作用：促进胶膜内溶剂充分挥发，使胶膜干燥； 增加胶膜与SiO2 （Al膜等）的粘附性及耐磨性。 影响因素：温度，时间。 烘焙不足（温度太低或时间太短）显影时易浮胶， 图形易变形。 烘焙时间过长增感剂挥发，导致曝光时间增长， 甚至显不出图形。 烘焙温度过高光刻胶黏附性降低，光刻胶中的感光 剂发生反应（胶膜硬化），不易溶于 显影液，导致显影不干净。,在真空热板上软烘,8.1 光刻工艺流程,8.1.3 曝光： 光学曝光、X射线曝光、电子束曝光 光学曝光紫外，深紫外 ）光源： 高压汞灯：产生紫外(

6、UV）光， 光谱范围为350 450nm。 准分子激光器：产生深紫外(DUV）光， 光谱范围为180nm330nm。 KrF：= 248nm； ArF：= 193nm； F2：= 157nm。,8.1 光刻工艺流程,）曝光方式 a.接触式：硅片与光刻版紧密接触。 b.接近式：硅片与光刻版保持5-50m间距。 c.投影式：利用光学系统，将光刻版的图形投影在硅片上,8.1 光刻工艺流程,电子束曝光： 几十100； 优点： 分辨率高； 不需光刻版（直写式）； 缺点：产量低； X射线曝光 2 40 ，软X射线； X射线曝光的特点：分辨率高，产量大。,8.1 光刻工艺流程,8.1.4 显影 作用：将未感

7、光的负胶或感光的正胶溶解去除，显现 出所需的图形。 显影液：专用 正胶显影液：含水的碱性显影液，如KOH、 TMAH (四甲基氢氧化胺水溶液)，等。 负胶显影液：有机溶剂，如丙酮、甲苯等。 例，KPR（负胶）的显影液： 丁酮最理想； 甲苯图形清晰度稍差； 三氯乙烯毒性大。,8.1 光刻工艺流程,影响显影效果的主要因素： ）曝光时间； ）前烘的温度与时间； ）胶膜的厚度； ）显影液的浓度； ）显影液的温度； 显影时间适当 t太短：可能留下光刻胶薄层阻挡腐蚀SiO2(金属） 氧化层“小岛”。 t太长：光刻胶软化、膨胀、钻溶、浮胶 图形边缘破坏。,8.1 光刻工艺流程,8.1.5 坚膜 作用：使软化

8、、膨胀的胶膜与硅片粘附更牢； 增加胶膜的抗蚀能力。 方法 ）恒温烘箱：180200，30min； ）红外灯：照射10min，距离6cm。 温度与时间 ）坚膜不足：腐蚀时易浮胶，易侧蚀； ）坚膜过度：胶膜热膨胀翘曲、剥落 腐蚀时易浮胶或钻蚀。 若T300：光刻胶分解，失去抗蚀能力。,8.1 光刻工艺流程,8.1.6 腐蚀（刻蚀） 对腐蚀液（气体）的要求： 既能腐蚀掉裸露的SiO2（金属），又不损伤光刻胶。 腐蚀的方法 )湿法腐蚀：腐蚀剂是化学溶液。 特点：各向同性腐蚀。 )干法腐蚀：腐蚀剂是活性气体，如等离子体。 特点：分辨率高；各向异性强。 8.1.7 去胶 湿法去胶 无机溶液去胶：H2SO4

9、（负胶）； 有机溶液去胶：丙酮（正胶）； 干法去胶：O2等离子体；,8.2 分辨率,分辨率R表征光刻精度 光刻时所能得到的光刻图形的最小尺寸。 表示方法：每mm最多可容纳的线条数。 若可分辨的最小线宽为L（线条间隔也L）， 则 R1/(2L) (mm-1) 1.影响R的主要因素： 曝光系统（光刻机）： X射线（电子束）的R高于紫外光。 光刻胶：正胶的R高于负胶； 其他：掩模版、衬底、显影、工艺、操作者等。,8.2 分辨率,2.衍射对R的限制 设一任意粒子（光子、电子），根据不确定关系，有 Lph 粒子束动量的最大变化为p=2p，相应地 若L为线宽，即为最细线宽，则 最高分辨率, 对光子：p=h

10、/，故 。 上式物理含义：光的衍射限制了线宽 /2。 最高分辨率： 对电子、离子：具有波粒二象性（德布罗意波），则 ， 最细线宽： 结论： a. E给定：mLR，即R离子 R电子 b. m给定：ELR,8.3 光刻胶的基本属性,1.类型：正胶和负胶 正胶：显影时，感光部分 溶解，未感光部分 不溶解； 负胶：显影时，感光部分 不溶解，不感光部 分溶解。,8.3 光刻胶的基本属性,2. 组份：基体（树脂）材料、感光材料、溶剂； 例如：聚乙烯醇肉桂酸脂系（负胶） 基体、感光剂聚乙烯醇肉桂酸脂 浓度：5-10% 溶剂环己酮 浓度：9095 增感剂5-硝基苊 浓度：0.5-1%,聚乙烯醇肉桂酸脂（KPR

11、）的光聚合反应,8.3 光刻胶的基本属性,8.3.1 对比度 表征曝光量与光刻胶留膜率的关系； 以正胶为例 临界曝光量D0：使胶膜开始溶解所需最小曝光量； 阈值曝光量D100：使胶膜完全溶解所需最小曝光量；,8.3.1 对比度,直线斜率（对比度）： 对正胶 对负胶 越大，光刻胶线条边缘越陡。,8.3 光刻胶的基本属性,8.3.3 光敏度S 完成所需图形的最小曝光量； 表征： S=n/E， E-曝光量（lxs，勒克斯秒）；n-比例系数； 光敏度S是光刻胶对光的敏感程度的表征； 正胶的S大于负胶 8.3.4 抗蚀能力 表征光刻胶耐酸碱（或等离子体）腐蚀的程度。 对湿法腐蚀：抗蚀能力较强； 干法腐蚀

12、：抗蚀能力较差。 正胶抗蚀能力大于负胶； 抗蚀性与分辨率的矛盾：分辨率越高，抗蚀性越差；,8.3 光刻胶的基本属性,8.3.5 黏着力 表征光刻胶与衬底间粘附的牢固程度。 评价方法：光刻后的钻蚀程度，即钻蚀量越小，粘附性越好。 增强黏着力的方法：涂胶前的脱水； HMDS； 提高坚膜的温度。 8.3.6 溶解度和黏滞度 8.3.7 微粒数量和金属含量 8.3.8 存储寿命,8.5 抗反射涂层工艺,8.5.1 驻波效应 穿过光刻胶膜到达衬底表面，并在衬底表面被反射 又回到光刻胶中反射光波与光刻胶中的入射光波发生 干涉，形成驻波。 影响：导致曝光的线宽发生变化。 8.5.2 底层抗反射涂层 (BAR

13、C) 作用：利用 反射光波的干涉，减弱驻波效。 制作：PVD法、CVD法。,8.6 紫外光曝光,光源：紫外（UV）、深紫外（DUV）； 方法：接触式、接近式、投影式。 光谱能量紫外（UV）光一直是形成光刻图形常用的能量源，并会在接下来的一段时间内继续沿用（包括 0.1m 或者更小的工艺节点的器件制造中）。 大体上说，深紫外光 (DUV) 指的是波长在 300nm 以下的光。 8.6.1 水银弧光灯（高压汞灯）光源 波长：UV，350450nm， used for 0.5，0.35m； g线：=436nm， h线：=405nm， i线：=365nm。,对于光刻曝光的重要 UV 波长,部分电磁频谱

14、,8.6 紫外光曝光,8.6.3 准分子激光DUV光源 准分子：只在激发态下存在，基态下分离成原子。 波长：DUV，180nm 330nm。 KrF-= 248nm， for 0.25，0.18m，0.13m； ArF-= 193nm， for 3m）。,8.6.5 接触式曝光 硅片与光刻版紧密接触。 优点：光衍射效应小，分辨率高。 缺点：对准困难，掩膜图形易损伤，成品率低。 8.6.6 投影式曝光 利用光学系统，将光刻版的图形投影在硅片上。 优点：光刻版不受损伤，对准精度高。 缺点：光学系统复杂，对物镜成像要求高。 用于3m以下光刻。,投影式曝光原理：,两像点能够被分辨的最小间隔： y=1.

15、22f/D 引入数值孔径NA描述透镜性能： NA=nsin=D/2f n透镜到硅片间的介质折射率； 像点张角 故 y=0.61/NA 若NA=0.4, =400nm, y=0.61m. 若n增大，NA增大，则y减小，即分辨率提高。 传统式：n=1(空气），NA(最大）=0.93， 最小分辨率-52nm. 浸入式：n1(水），=193nm， NA(最大）=1.2， 最小分辨率-40nm.,分步重复投影光刻机-Stepper,采用折射式光学系统和4X5X的缩小透镜。 光刻版： 4X5X； 曝光场：一次曝光只有硅片的一部分； 采用了分步对准聚焦技术。,8.7 掩模版（光刻版）的制造,8.7.1 基版

16、材料：玻璃、石英。 要求：透光度高，热膨胀系数与掩膜材料匹配。 8.7.2 掩膜材料： 金属版（Cr版）：Cr2O3抗反射层/金属Cr / Cr2O3基层 特点：针孔少，强度高，分辨率高。 乳胶版卤化银乳胶 特点：分辨率低（2-3 m），易划伤。 8.7.4 移相掩模（PSM） PSM：Phase-Shift Mask 作用：消除干涉，提高分辨率； 原理：利用移相产生干涉，抵消图形边缘的光衍射效应。,8.8 X射线曝光,曝光方法：接近式曝光。 X射线光源：通过高能电子束轰击一个金属靶产生。 （波长为240埃） 优点：小尺寸曝光。 缺点：存在图形的畸变(半影畸变和几何畸变)。,半影畸变,几何畸变

17、,X射线曝光,8.9 电子束直写式曝光,曝光原理：电子与光刻胶碰撞作用，发生化学反应。 适用最小尺寸：0.10.25m 电子束曝光的分辨率主要取决于电子散射的作用范围。 (缺点)邻近效应由于背散射使大面积的光刻胶层发生程度不 同的曝光，导致大面积的图形模糊，造成曝 光图形出现畸变。 减小邻近效应的方法：减小入射电子束的能量，或采用低原子序 数的衬底与光刻胶。 SCALPEL技术： 采用原子序数低的SiNX薄膜和原子序数高的Cr/W制作的掩模版，产生散射式掩膜技术。 特点:结合了电子束曝光的高分 辨率和光学分步重复投影 曝光的高效率； 掩模版制备更加简单。,8.10 ULSI对图形转移的要求,8

18、.10.1 图形转移的保真度 (腐蚀的各向异性的程度：) 式中：V1测向腐蚀速率； VV纵向腐蚀速率； h腐蚀层的厚度； 图形测向展宽量。 若 A=1，表示图形转移过程产无失真； 若 A=0，表示图形失真严重(各向同性腐蚀) 8.10.2 选择比 两种不同材料在腐蚀的过程中被腐蚀的速率比。 作用：描述图形转移中各层材料的相互影响,8.11 湿法刻蚀,特点：各相同性腐蚀。 优点：工艺简单，腐蚀选择性好。 缺点：钻蚀严重（各向异性差），难于获得精细图形。 （刻蚀3m以上线条） 刻蚀的材料：Si、SiO2、Si3N4； 8.11.1 Si的湿法刻蚀 常用腐蚀剂 HNO3-HF-H2O(HAC)混合液

19、： HNO3：强氧化剂； HF：腐蚀SiO2； HAC：抑制HNO3的分解； Si+HNO3+HFH2SiF6+HNO2+H2O+H2 KOH-异丙醇,8.11.2 SiO2的湿法腐蚀 常用配方(KPR胶）：HF: NH4F: H2O=3ml:6g:10ml (HF溶液浓度为48) HF ：腐蚀剂， SiO2+HFH2SiF6+H2O NH4F ：缓冲剂， NH4FNH3+HF 8.11.3 Si3N4的湿法腐蚀 腐蚀液：热H3PO4(130150)。,8.12 干法腐蚀,优点： 各向异性腐蚀强； 分辨率高； 刻蚀3m以下线条。 类型： 等离子体刻蚀：化学性刻蚀； 溅射刻蚀：纯物理刻蚀； 反应

20、离子刻蚀（RIE）：结合 、；,ICP-98C型高密度等离子体刻蚀机,SLR 730 负荷锁定RIE反应离子刻蚀系统,8.12.1 干法刻蚀的原理,等离子体刻蚀原理 a.产生等离子体:刻蚀气体经辉光放电后，成为具有很强化学活性的离子及游离基-等离子体。 CF4 RF CF3*、CF2* 、CF* 、F* BCl3 RF BCl3* 、BCl2* 、Cl* b.等离子体活性基团与被刻蚀材料发生化学反应。 特点：选择性好； 各向异性差。 刻蚀气体： CF4 、BCl3、CCl4、CHCl3、SF6等。,8.12.1 干法刻蚀的原理,溅射刻蚀原理 a.形成能量很高的等离子体； b.等离子体轰击被刻蚀

21、的材料， 使其被撞原子飞溅出来，形成刻蚀。 特点：各向异性好；选择性差。 刻蚀气体：惰性气体； 反应离子刻蚀原理 同时利用了溅射刻蚀和等离子刻蚀机制； 特点：各向异性和选择性兼顾。 刻蚀气体：与等离子体刻蚀相同。,8.12.2 SiO2和Si的干法刻蚀,刻蚀剂：CF4、CHF3、C2F6、SF6、C3F8 ； 等离子体： CF4 CF3*、CF2* 、CF* 、F* 化学反应刻蚀： F*+SiSiF4 F*+SiO2 SiF4+O2 CF3*+SiO2 SiF4+CO+CO2 刻蚀总结： 湿法刻蚀（刻蚀3m以上线条） 优点：工艺简单，选择性好。 缺点：各向异性差，难于获得精细图形。 干法腐蚀（刻蚀3m以下线条） 优点：各向异性强；分辨率高。,实际工艺： CF4中加入O2 作用：调整选择比； 机理： CF4+O2F*+O*+COF*+COF2+CO+CO2 （初期： F*比例增加；后期：O2比例增加） O2吸附在Si表面，影响Si刻蚀； CF4中加H2 作用：调整选择比； 机理： F*+H*(H2)HF CFX*(x3)+SiSiF4+C(吸附在S