《光伏电池工艺设备 原子层沉积(ALD)镀膜设备技术规范》征求意见稿编制说明_第1页
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（征求意见稿）I 2 2 2 2 2 3 3 3 4 4 4 4 4 5 6 6四、采用国际标准和国外先进标准的程度及理由，以及与国际、国外同类标准水平对比情况 6五、与现行法律法规、强制性国家标准及相关标 6 7 7 7 71一、工作简况（二）立项目的和意义制化学反应在基底表面逐层沉积材料，实现原子级别的薄膜厚度控制。ALD技术在微电子、光伏、光学、生物医学等领域展现出巨大的应用潜技术发展与市场需求：ALD技术以其高环境友好与可持续发展：在可持续发展的未来，AL2（三）起草单位（四）主要工作过程讨论会。会议决定以拉普拉斯新能源科技股份有限公司积《关于<光伏电池工艺设备低压扩散设备技术规范>等三项团体标准立3术指标等进行研讨，研讨会后编制组对标准草案进行了修改。2025年3二、标准化对象简要情况及制修订标准的原则（一）标准化对象简要情况以及低温沉积特性。ALD设备适用于多种（二）制定原则2.一致性原则。标准应符合现行法律法规、政策、规范性文件的规4.安全、可靠性原则。在工作环境和条件方面，在环境温度、相对4三、主要技术内容（一）标准名称和适用范围（二）技术要求5ALD工艺需要精确控制前驱体和反应气体的流量，以确保表面反应6四、采用国际标准和国外先进标准的程度及理由，以及与国际、国外同类标准水平对比情况，或与测试的国外样品的有关数据对五、与现行法律法规、强制性国家标准及相关标准协调配套情况7六、重大分歧意见的处理经过和依据七、贯彻标准的要求及建议订货合同及技术标准要求编制而成。标准全面

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