第二章电镀的基本原理与概论

其次章电镀根本原理与概念

1电镀之定义

2.2电镀之目的

2.3各种镀金的方法

2.4电镀的根本学问

2.5电镀根底

2.6镀有关之计算

2.1电镀之定义

电镀(electroplating)被定义为一种电沈积过程(electrodepos-itionprocess),是利

用电极(electrode)通过电流，使金属附着于物体外表上，其目的是在转变物体外表之特性

或尺寸。

回名目

2.2电镀之目的

电镀的目的是在基材上镀上金属镀层(deposit),转变基材外表性质或尺寸。例如赐

予金属光泽美观、物品的防锈、防止磨耗、提高导电度、润滑性、强度、耐热性、耐候性、

热处理之防止渗碳、氮化、尺寸错误或磨耗之另件之修补。

回名目

2.3各种镀金的方法

电镀法(electroplating)无电镀法(electrolessplating)

热浸法(hotdipplating)熔射喷镀法(sprayplating)

塑料电镀(plasticplating)浸渍电镀(immersionplating)

渗透镀金(diffusionplating)阴极溅镀(cathodesupptering)

真空蒸着镀金(vacuumplating)合金电镀(alloyplating)

复合电镀(compositeplating局部电镀(selectiveplating)

穿孔电镀(through-holeplating)笔电镀(penplating)

电铸(electroforming)

回名目

2.4电镀的根本学问

电镀大部份在液体(solution)下进展，又绝大部份是由水溶液(aqueoussolution)

中电镀，约有30种的金属可由水溶液进展电镀，由

水溶液电镀的金属有：铜Cu、银Ni、倍Cr、锌Zn、镉Cd"、铅Pb、金Au、银Ag、钳

Pt、钻Co、锦Mn、锚Sb、物Bi、汞Hg、像Ga、锢In、

铭、As、Se、Te、Pd、Mn、Re、Rh、Os、lr、Nb、W等。

有些必需由非水溶液电镀如锂、钠、钾、被、镁、钙、锢、领I、铝、La、Ti、Zr、

Ge、M。等。可油水溶液及非水溶液电镀者有铜、

银、锌、镉、锚、锈、镒、钻、银等金属。

电镀的根本学问包括以下几项：

溶液性质物质反响

电化学化学式

界面物理化学材料性质

2.4.1溶液(solution)

被溶解之物质称之为溶质(solute),使溶质溶解之液体称之溶剂(solute)。溶剂为水

之溶液称之水溶液(aqueoussolution)o

表示溶质溶解于溶液中之量为浓度(concentration)。在肯定量溶剂中，溶质能溶

解之最大量值称之溶解度(solubility)。

到达溶解度值之溶液称之为饱和溶液(saturatedsolution),反之为非饱和溶液

(unsaturatedsolution)o溶液之浓度，在工厂及作业现场，

使用易了解及便利的重量百分率浓度(weightpercentage)o另外常用的莫耳浓度(molal

concentration)o

2.4.2物质反响(reactionofmatter)

在电镀处理过程中，有物理变化及化学变化，例如研磨、枯燥等为物理反响，电解

过程有化学反响，我们必需充份了解在处里过程

中各种物理及化学反响及其相互间关系与影响。

2.4.3电镀常用之化(chemicalformula。

见附录一。

2.4.4电化学(electrochemistry)

电镀是一种电沉积(electrodeposition)过程，利用电解体electrolysis)在电极

(electrode)沉积金属,它是属于电化学之应用的一支。电化学是争辩

有关电能与化学能交互变化作用及转换过程。

电解质(electrolyte)例子NaCI,也就是其溶液具有电解性质之溶液

(electrolyticsolution)它含有部份之离子(ions),经由此等离子之移动(movement)

而能导电。带阴电荷朝向阳极(anode)移动称之为阴离子(anion),带正电荷朝向阴极

(cathode)移动(migrate)者称之为阴离子cations)o这些带电荷之

粒子(particles)称之为离子(ions)。放出电子产生氧化反响之电极称之为阳极(anode)得到电

子产生还元化应之电极称之为阴极(cathode)。整个反

应过程称之为电解(electrolysis)。

2.4.4.1电极电位(electrodepotentials)

电位(electrodepotential)为在电解池(electrolytic)中之导电体,电流经由它流入或流

出。电极电位(electrodepotential)是电极与电解液之间的电动

势差，单独电极电位不能测定需参考一些标准电极(standardelectrode)0

例如氢标准电极(hydrogenstandardelectrode)以其为基准电位为0

电极电位之大小可由Nernstequation表示之:

E=Eo+RT/nFInaMn+/aM

£=电极电位

Eo=电极标准状态电位(volt)

1^=气体常数(8.3143J.K-iMOL-1)

T=确定零度(K)

n二原子价之转变数(电子移转之数)

aMn+=金属离子之活度(activity),假设极淡薄之溶液，其活度就等于金

离子之浓度(8ncentration)C。

一般则活度为浓度乘上活度系数，即a=r*0«

金属电极之活度,假设为纯金属即为

法拉第常数

2.4.4.2标准电极电位(standardelectrodepotential)

标准电极电位(standardelectrodepotential)是指金属电极之活度为1(纯金属汲

在金属离子活度为1时之电极电位。

即E=Eo

E=Eo+RT/nFIn1/1

=Eo+O=Eo

氢之标准电位在任何温度下都定为0,做为其它电极之参考电极

(REFERENCEELECTRODE),以氢标准电极为基准0,各种金属之标准电位见表

排列在前头之金属如Li较易失去电子，易被氧化，易溶解,易腐蚀，称之为溅金属或金属

(basicmetal)o相反如Au金属不易失去电子.不易氧化.不易溶解.

简洁被还元称之为贵金属(noblemetal)o

电极电位电极电位

Li+-3.045Co?Co+2-0.277

Rb?Rb+-2.93Ni?Ni+2-0.250

K?K+-2.924Sn?Sn+2-0.136

Ba?Ba+2-2.90Pb?Pb+2-0.126

Sr?Sr+2-2.90Fe?Fe+3-0.04

Ca?Ca+2-2.87P1/H2?H+0.000

Na?Na+-2.715Sb?Sb+3+0.15

Mg?Mg+2-2.37Bi?Bi+3+0.20

Al?Al+3-L67As?As+3+3

Mn?Mn+2-1.18Cu?Cu+2+0.34

Zn?Zn+2-0.762PVOH-?02+0.40

Cr?Cr+3-0.74Cu?Cu++0.52

Cr?Cr+2-0.56Hg?Hg2+2+0.789

Fe?Fe+2-0.441Ag?Ag++0.799

Cd?Cd+3-0.402Pd?Pd+2+0.987

In?In+3-0.34Au?Au+3+0.150

Tl?Th-0.336Au?Au++1.68

表2.4.4.2

2.4.4.3Nern电位学说

金属含有该金属离子之溶液相接触，则在金属与溶液界面,会产生电荷移动现象，此

等电荷之移动，仍是由于金属与溶液的界面有电位势之差异称之为电位差所引起,此现象

Nernst讲解如下：

设驱使金属失去电子变为阳离子溶入溶液中之电离溶解液解压(electrolatic

solutionpressure)为p而使溶液中的阳离子得到电子还元成金属渗透压(osmotic

pressure)为

p,则有三种状况发生：

(1)P>P时，金属被氧化，失去电子，溶解成金属离子于溶液中，因此

金属电极本体接收电子而带负电。

(2)P<P时，金属阳离子得到电子被还元沉积于金属电极外表上，

金属电极本身供给电子,因此金属电极带正电

(3)P=P时，没有产生任何变化

设金属与溶液的界面所形成的电极电位为E,当1mole金属溶入于

溶液中，则界面所通过的电量为nF,n为金属阳离子之价数，即电子之

转移数,F为法拉第常数，此时所作功等于nFE,也等于下式：

nFE=?pPVdp=RT?pPdp/p=-RTInP/P

\E=RT/nFInP/P

即金属阳离子之活度(activity)为aMn+活度系数为K,则P=

KaMn+于是

E=-RT/nFInp/KaMn+

=-RT/nFInP/K+RT/nFInaMn+

E在标准状态时，即aMn+=i,称为标准电极电位E，即

Eo=-RT/nFInP/K+RT/nFIn1

=-RT/nFInP/R

所以纯金属的电极电位用上列式子表示：

非纯金属电位则为：

E=E0+RT/NfInaMn+/aM

式中为aM为不纯金属之活度

2.4.4.4电极电位在热力学的表示法

电极反响是由氧化反响及复原反响所组成.

例如Cu?Cu+++2e-复原状态氧化状态可用以下二式表示之：

。Cu(R)Cu+++2e-

o氧化反响

。Cu?Cu+++2e-

八复原反响

例1：氧电极反响之电位

1/2O2+H2O+2e-?2OH.

例2:氯化汞电极反响之电位

Hg2+2+2e-?2Hg

E=EO・RT/nFIn@Hg(s)/aHg2+2

例3:氢电极反响之电位

1/2H2(g)?H++e.

E=Eo-RT/FInaH+/aH2i/2(g)

2.4.4.5电极电位之意义

(1)电解电位分类为三种：

M/M+n即金属含有该金属离子的相接触有二种形式:？金属与溶液间之水大于金属阳

离子M+n与电子的结合力,则金属会溶解失去电子形式

金属阳离子与水结合成为M+n?xH2o,此时金属电极获得额外电子，故带负电这类金属电极称之阴电性，如Mg.Zn.

及Fe等浸入酸..盐类水溶液

时产生此种电极电位MtM/aa)+n+ne-•金属与溶液的水亲合力小于金属离子M+n与电

子结合力时,金属离子会游向金属电极得到电子而沉积

在金属电极上，于是金属电极带正电，溶液带负电。

(2)金属M与难溶性的盐MX相接触，同时MX又与阴离子之KX相接触，即(MxMX,KX)

如化汞电极(Hg2cl2)o

(3)不溶性金属，如Pt,与含有氧化或还元系离子的溶液相接触，例如PtxFe++.FE++或Ptx

Cr+2,Cr+3等0

2.4.4.6界面电性二重层

在金属与溶液的界面处带电粒子与外表电荷形成的吸附层，偶极子的排列层以及

集中层等三层所组合的区域称之为界面电性二重层。

2.4.4.7液间电位差(liquidjunctionpotential

又称之为集中电位差(diffusionpotential),系由阴离子与阳离子之移动度不同而形

成之电位差，通常溶液之浓度差愈大，阴阳离子移动度差愈大，则液间电位差愈大。

2.4.4.8过电压(overvoltage)

当电流通过时，由于电极的溶解、离子化、放电、及扩散等过程中有一些阻

碍，必需加额外的电压来抑制，这些阻碍使电流通过，这种额外电压消退阻碍者称之

为过电压。此种现象称之为极化(polarization)。此时阴极、阳极实际电位与平衡电位之

差即为阴极过电压、阳极过电压。

过电压可分以下四种：

1.活化能过电压(activiationovervoltage)

任何反响，不管吸热或放热反响皆有最低能障需抑制，此能障称为活化能，在电

解反响需要额外电压来抑制活化能阻碍，此额外电压之活化能过电压，可用Tafel公式

表示:

=a+b

gactlogi

b为系数，i为电流，gact为活化能过电压其电流i愈大gact愈大，电镀中gact

占很小一部份，几乎可以无视，除非电流密度很大。

氢过电压(hydrogenovervoltage),在酸性水溶液中阴极反响产生出气体，

此额外之电压称氢过电压，即gH2=Ei-Eeq=Ei-Eeq式中

g中一氢过电压

日=实际电压

£64=平衡电压

在电镀时由于氢过电压的缘由使氢气较少产生，而使很多金属

可以在水溶液中电镀。

例如锌、银、铝、铁、镉、锡、铅。

2.浓度过电压(concentrationovervoltage)

当电流变大，电极外表四周反响物质的补充速度及反响生成物逸散之速度不够

快，必需加上额外之电压，以消退此阻碍，此额外电压称浓度过电压。在电镀时可增

加温度即增加集中速率，增加浓度，搅拌或阴极移动可削减浓度过电压，电流密度因

而提高，电镀的速率也可增加。

3.溶液电阻过电压(solutionresistanceovervoltage)

溶液的电阻产生旧电压降，所以需要额外的电压IR来抑制此电阻使电流通过，此

额外电压IR称之溶液电阻过电压。在电镀时可增加溶液导电度，提高温度以削减此电阻

过电压，有时此IR形成热量太多会使镀液温度始终上升，造成镀液蒸发损失需冷却或补

充液。

4.电极钝态膜过电压(passivityovervoltage)

电解过程，在电极外表会形成一层钝态膜，如A1的氧化物膜，错离子形成之阻力

膜，此等膜具有电阻需要额外电压加以抑制，此种额外电压称之为钝态膜过电压。

2.4.4.9分解电压（decompositionpotential

电压愈大，电流愈大，反响速率也愈大，其电压与电流的关系如下图。

E点之电压称之分解电压，亦称之实际分解电压(praticalde8mpositionpotential),然而要

产生电流I所需之电压为:

E「E（）+gTOTAL

g=g+2+g・+IR

&TOTAL&c&a&cone

E=Ec-Ea

o

式中：

E=平衡电动势

o

Ec=阴极可逆电极电位

Ea=阳极可逆电极电位

g=阴极过电压

c

g=阳极过电压

a

=浓度过电压

dgcone.

仁电流强度

R=电阻

例1:使用铜做阳极，硫酸铜溶液镀铜，其欲产生电流I所需之电压为：

E产E°+gc+ga+gconc.+lR

E产gc+ga+g^IR

因Ec=EaEa=0

例2:硫酸锌镀锌使用锌做阳极，搅拌良好，则产生电流I所需之电压为

E产E0+ga+gc+gconc+IR

E产ga+gC+IR

因Ea=Ec?E0=0

又因搅拌良好？gc°nc=o

例3:镇盐水溶液使用银做阳极，电极面积10cm2,以10-2Amp/c近进展镀银。

gc=0.445+0.065loglga=0.375+0.045logl,内电阻R=300Q,搅拌良好

所需之电压为假设干？

解：

Ei=gc+ga+,R

=0.445+0.65log(0.01*10)+0.375+0.045log(0.01*10)+(0.01*10)*300=30.71volt

2.4.5界面物理化学

外表处理过程中，金属会与水或液体接触，例如水洗、酸浸、电镀、涂装、法琅等。

要使金属与液体作用，需金属外表完全浸湿接触，假设不能完全接触，则外表处理

将不完全，无法到达外表处理的目的。所以金属与液体接触以接口物理化学性质对外

表处理有格外重要的意义。

2.4.5.1外表张力及界面张力

液体外表的分子在外表上方没有引力，处于担忧定状态称之自由外表，故具有

力，此力称之为外表张力。液体之外表张力大小因液体的种类和温度而异，温度愈高

外表张力愈小，到沸点时因外表分子气化自由外表消逝，故张力变为零。液体和固体

与别的液体交接的面也有如表面张力之作用力，称之界面张力。

2.4.5.2界面活性剂

溶液中参加某种物质，能使其表回张力马上减小，具有此种性质的物质称之为界

面活性剂。外表处理过程如洗净、脱脂、酸洗等界面活性剂被广泛应用对外表处理之

光泽化、平滑化，均一化都有相当帮助。

2.4.6材料性质

外表处理工作人员必需对材料特性充份了解，外表处理的材料大多是金属，所以

首先要知道各种金属的一般性质。例如色泽、比重、比热、溶点、降伏点、抗拉强度

、延展性、硬度、导电度等。

回名目

2.5电镀根底

电镀的根本构成元素及工场设备电镀使用之电流

电镀溶液金属阳极与金属阴极

阳极袋电镀架

电镀前的处理电镀工场设备

电镀把握条件及影响因素镀浴净化

镀层要求工程镀层缺陷

电镀技艺金属腐蚀

2.5.1电镀的根本构成元素

外部电路，包含有沟通电源、整流器、导线、可变电阻、电流计、电压计。

阴极、或镀件(work)、挂具(rack)。

电镀液(bathsolution)o

阳极(anode)。

镀槽(platingtank)

加热或是冷却器(heatingorcollingcoil)。

2.5.1.1镀槽构造，其典型镀槽见图：

2.5.1.2电镀工场设备

一个电镀工场必需配备以下各项设备：

@防酸之地板及水沟。

@糟及预备糟。

@搅拌器。

@整流器或发电机。

@导电棒、阳极棒、阴极棒、挂具。

@安培表、伏特表、安培小时表、电阻表。

@泵、过滤器及橡皮管。

@电镀槽用之蒸气、电器或瓦斯之加热设备。

@操作用之上下架桌子。

@检验、包装、输送工件等各项设备、仪器。

@通风及排气设备。

2.5.2电镀使用之电流

在电镀中，一般都仅使用直流电流。沟通电流因在反向电流时金属沈积又再被

溶解所以沟通电流无法电沈积金属。直流电源是用直流发电机或沟通电源经整流器产

生。直流电流是电子向一个方向流通，所以可以电沈积金属。但在有些特别状况会使

用沟通电流或其它种特别电流，用来改善阳极溶解消退钝态膜、镀层光层、降低镀层

内应力、镀层分布、或是用于电解清洗等。

2.5.3电镀溶液，又称镀浴(platingbath)

电镀溶液是一种含有金属盐及其它化学物之导电溶液，用来电沈积金属。其主

要类别可分酸性、中性及咸性电镀溶液。强酸镀浴是pH值低于2的溶液，通常是金属

盐加酸之溶液，例如硫酸铜溶液。弱酸镀浴是pH值在2〜5.5之间镀浴，例如银镀浴。

咸性镀浴其pH值超过7之溶液，例如氧化物镀浴、锡酸盐之锡镀浴及各种焦磷酸盐镀

浴。

2.5.3.1镀浴的成份及其功能

1.金属盐：供给金属离子之来源如硫酸铜。可分单盐、盐，及错盐。

例如：单盐：CuSO4；NiSO4

复盐：NiSO4；(NHJSO4

醋盐：Na2Cu(CN)3

2.导电盐：供给导电度，如硫酸盐、氯盐，可降低能量花费、镀液热蒸发损失，尤其是

滚桶电镀更需优良导电溶液。

3.阳极溶解助剂。阳极有时会形成钝态膜，不易补充金属离，则需加阳极溶解助剂。例如

镀银时加氯盐。

4.缓冲剂，电镀条件通常有肯定pH值范围，防止pH值变动加缓冲剂，尤其是中性镀

浴(pH5〜8),pH值把握更为重要。

5.错合剂，很多状况，错盐的镀层比单盐的镀层优良，防止置换沈积，如铁上镀铜，则

需用错合剂，或是合金电镀用错合剂使不同之合金属电位拉近才能同时沈积得到合

金镀层。

6.安定剂，镀浴有些会因某些作用，产生金属盐沈淀，镀浴寿命减短，为使镀浴安定所加

之药品称之为安定剂。

7.镀层性质改进添加剂，例如小孔防止剂、硬度调整剂、泽剂等转变镀层的物理化学特

性之添加剂。

8.

9.润湿剂(wettingagent),一般为界面活性剂又称去孔剂。

2.5.3.2镀浴的预备

•@将所需的电镀化学品放入在预备糟内与水溶解。

@去除杂质。

@用过滤器去除浮悬固体，倒入一个清洁电镀槽内。

@镀浴调整，如pH值、温度、外表张力、光泽剂等。

@用低电流电解法去除杂质。

2.5.3.3镀浴的维持

•@定期的或经常的分析镀浴成份，用化学分析法或

Hull试验(Hullcelltest)o

@维持镀浴在操作范围成份，添加各种药品。

@去除镀浴可能被污染的来源。

@定期净化镀液，去除累积杂质。

@用低电流密度电解法间歇的或连续的减低无机物污染。

@间歇或连续的过滤镀浴浮悬杂质。

@经常检查镀件、查看缺点。

2.5.4金属阳极

金属阳极分为溶解性及不溶解性阳极，溶解性阳极用于电镀上是为补充溶液中电镀

所消耗的金属离子，是用一种金属或合金铸成、

滚成、或冲制成不同外形装入阳极篮(anodebasket)内。阳极电流密度必需适当，电流密度

太高会形成钝态膜，因而使阳极溶解太慢或停

止溶解，形成不溶解阳极，产生氧气，消耗镀液金属离子而必需补充金属盐。为了减小阳极

电流密度，可多放些阳极，或用波形阳极

增加面积，或降低电压。在酸性镀浴可以用增加搅拌、增高镀浴温度、增加氯离子浓度、

降低pH来提高阳极容许电流密度。

而碱性镀浴可用增加搅拌、增加自由氧化物(freecyanide)的浓度，上升镀浴温度

或上升pH值，也可将某种物质参加阳极内以削减因

高电流密度的阳极钝态形成。电镀使用不溶解阳极用来做传导电流，镀浴金属离子需用金

属盐来补充，如金镀浴中用不溶解之不锈钢作

为阳极，以金氧化钾来补充。在镀辂中用不溶解之铅阳极，以辂酸补充辂离子。不溶解阳

极有二个条件，一是良好的导电体，二是不受

镀液之化学作用污染镀浴及不受侵蚀。不溶性阳极可用在把握金属离子过度积集在镀糟

内，在贵金属电镀，如黄金电镀，用不锈钢做阳

极，可以代替金阳极，以减低投资本钱或避开偷窃的困扰。不溶解阳极将引起强力的氧

化，形成腐蚀问题及氧化镀槽内物质，所以不能

使用有机物添加剂。槽内之金属离子必需靠金属盐来补充。

2.5.5阳极袋(anodebag)

阳极袋是一种有多细孔薄膜袋子，用来收集阳极不溶解金属与杂质阳极泥，以防止污染

镀浴，阻挡粗糙镀层发生。阳极袋是用编织布

缝成阳极外形宽大适中，长度要比阳极稍长，材料需扎得紧，足够收集阳极泥，不阻碍镀

浴流通，将阳极袋包住阳极并缚在阳极挂钩上。

在放进电电镀浴之前，阳极袋要用热水含润湿剂中洗去浆水及其它污物，然后再用水清洗，

并浸泡与镀浴一样之pH的水溶液中，使用前需

再清洗。酸性镀浴的阳极袋可用棉织物，也可使用人造纤维。在高温操作咸性镀浴可用乙

稀隆材料阳极袋。

2.5.6金属阴极

金属阴极是镀浴中的负电极，金属离子还元成金属形成镀层及其它的还元反响，如

氢气之形成于金属阴极上。预备镀件做电镀需做下

面各种步骤：研磨、抛光、电解研磨、洗净、除锈等。

2.5.7电镀之前处理

电镀前之处理，称之前处理(pretreatment),包括以下过程：

1.洗净：去除金属外表之油质、脂肪、研磨剂，及污泥。可用喷射洗净、溶剂洗净、浸

没洗净或电解洗净。

2.清洗：用冷或热水洗净过程之残留洗净剂或污物。

3.酸浸：去除锈垢或其它氧化物膜，要留意防止基材被腐蚀或产生氢脆。可加抑制剂以避

开过度酸浸。酸浸完后要充份清洗。

4.活化：促进镀层附着性，可用各种酸溶液使金属外表活化。

5..漂清：电镀前马上去除酸膜，然后电镀。

2.5.8电镀挂架(rack)

电镀挂架是用在吊挂镀件及导引电流之挂架，其主要部份有:

1.钩，使电流接触导电棒。2.脊骨，支持镀件并传导电流。3.舌尖，使电流接触镀件。4.

挂架涂层，绝缘架框部份，限制及导引电流通向镀件。

电镀挂架需有足够的强度、尺寸、及导电性能通过的电流量足以维持电镀操作。其打算尺

寸的条件有1.镀件重量，2.电镀的面积，3.每个挂架

之镀件数，4.镀槽的尺寸，5.电镀操作所需之最大电流，镀架上之附属设备如绝缘罩或关

心电极，7.镀件及挂架最大重量。电镀挂架根本型式

有1.直脊骨型，是以垂直中心支持，用舌尖夹持镀件，适小镀件可用手来操作。2.混合脊

骨型，经常用在自动电镀上，是用方型框架联合平行

及垂直骨架所构成夹持小镀件。3.箱型，这种挂架可以处理很多镀件，需配备有自动输送

机、起重机、吊车等设备。4.T型，系垂直中心支持，

联结很多垂直的穿插棒，此种适合手动及自动操作。选择电镀挂架的打算因素有1.电流量，2.

强度，3.荷重限制，4.镀件位置安排，5.空间限制，

6.制造难易，7.维持费用及本钱。电镀挂架之电流总量为全部镀件的有效面积乘于操作过

程中之最大电流密度，有效面积系指要被电镀部份的

面积。镀件应在不重要的部份如反面、孔洞、幽蔽处联接电流。挂架之镀件数目应依据设

计的重量限制、镀槽尺寸、良好电流分布空间、直流

电源之电量等打算。一般人力操作之镀架安全限制重量是251b。由尺寸、外形、移动距离

可有所变动。舌尖必需具备足够的硬度、导电度、不

发生烧焦、孤光、过热等现象。镀件重量能维持地心引力良好的接触，否则用弹簧联接。

要能够简洁快速上下架，并确保电流接触。铜是最广

泛应用的挂架材料，因有好的导电性，简洁成型，有适当强度。钢与铜导电性比铜差，但

较廉价。铝挂架用在铝阳极处理(anod⑵ng),其优点是

轻。银镀架耐腐蚀，可做补助电极。磷铜因它具有良好导电性，易弯曲及易制造易焊接故

广泛用做舌尖。电镀挂架之脊骨用较坚强材料制成如

硬的拉铜。电镀架同时附带有补助阳极加强供给电流称之为双极镀架。除了补助阳极外，

还有补助阴极，漏电装置、绝缘罩等附加在电镀挂架

上以调整电流密度或引导电流进入低电流之隐蔽

区域。电镀挂架在某些地方加以涂层绝缘，其目的有以下几项：

1.削减电镀金属之铺张。

2.限制电流进入要被电镀之区域，削减电能损失。

3.削减镀浴污染。

4.改进金属披覆分布。

5.削减电镀时间。

6.延长镀架寿命，防止镀糟腐蚀。

镀架有以下涂层材料可应用：

1.压力胶带，简洁使用，易松脱损坏，适合短时应用或临时使用。

2.乙稀塑料，良好黏性，可用于酸咸各种镀液。尼奥普林，直接浸泡不需打底、热烘干、

黏性好可用

3.任何镀浴，尤其适合使用于将电镀。

4.空气枯燥塑料，不用涂底、浸泡或擦刷后空气枯燥、黏性优良，适宜各种电镀浴。

5.橡皮，除辂电镀外其它镀浴均可使用。

6.蜡，不能使用于强咸及热镀浴。

电镀操作过程镀架使用留意事项：

1.镀件需定位，与阳极保持一样距离，使电镀层均匀，防止镀液之带出(drag-out)损失

及带入(drag-in)污染镀液。

2.镀件安排要适当，要使气泡简洁逸出，稍倾斜放置镀件。

3.空间安排，避开镀件相互遮挡。

4.结实接触，防止发烧、孤光等现象发生。

5.防止高电流密度的形成，如尖、边缘、角等处必需适当应用绝缘罩或漏电装置。

6.使用阳极关心装置或双极镀架，应留神调整以确保适当电流分布。

7.镀架应经常清洗，维持良好电流接触，去除舌尖附着之金属，涂层有损坏需之即修理、操

作中随时留意漏电，镀浴带出损失及带入污染等现象。

2.5.9电镀把握条件及影响因素

1.镀液的组成。12.掩盖性。

2.电流密度。13.导电度。

3.镀液温度。14.电流效率。

4.搅拌。15.氢过电压。

5.电流波形。16.电流分布。

6.均一性。17.金属电位。

7.阳极外形成份。18.电极材质及外表状况。

8.过滤。19.浴电压。

9.pH值。

10.时间。

1.u.极化。

2.镀液的组成：对镀层构造影响最大，例如氧化物镀浴或复盐镀浴的镀层，要比酸性单盐

的镀层细致。其它如光泽剂等添加剂都影响很大。

3.电流密度：电流密度提高某一限度时，氢气会大量析出，电流效率低，产生阴极极化作

用，树枝状结晶将会形成。

4.镀浴温度：温度上升，极化作用下降，使镀层结晶粗大，可提高电流密度来抵消。

5.搅拌：可防足氢气停滞件外表形成针孔，一般搅拌可得到较细致镀层，但镀浴需过滤清

洁，否则杂质因搅拌而染镀件外表产生结瘤或麻点等缺点。

6.电流型式：应用交通电流，周期反向电流(PR)电流、脉冲电流等特别电流可改进阳极

溶解，移去极化作用的钝态膜，增加镀层光泽度、平滑度、降低镀层应力、或提高镀

层均一性。

7.均一性(throwingpower),或称之投掷力，好的均一性

是指镀层厚度分布均匀。均一性的影响因素有：

1.几何外形，主要是指镀槽、阳极、镀件的外形。分布位置空间、阴阳极的距离、尖端

放电、边缘效应等因素。

2.极化作用，提高极化作用可提高均一性。

3.电流密度，提高电流密度可改进均一性。

4.镀浴导电性，导电生提高而不降低阴极极化作用太多则可提高均一性。

5.电流效率，降低电流效率可提高均一性。

所以要得到均匀镀层的方法有：

1.良好的镀浴成份，改进配方有。

2.合理操作，外表活生化均匀。

3.合理镀装挂，以得到最正确电流均匀分布，防止析出气体累积于盲孔或低洼局部。

4.调整阴阳极间之距离及高度。

5.应用阳极外形善电流分布。

6.加设关心电极、输电装置、绝缘屏障等改进电流分布。

7.应用冲击电流、在电镀前用较大电流进展短时间电镀。

8.阴阳极外形、成份及外表状况影响很大，如铸铁和高硅钢的材料氢过电小，电镀时大量

氢气析出，造成掩盖性差、起泡、脱皮等缺陷，不锈钢材料，铝、镁及合金类易氧

化的材料，不易得附差性良好镀层。外表状况如有油污、锈皮等镀层不行能附着良好，外

表粗糙也难得到光泽镀层。阳极与阴极外形也会影响镀层。

9.过滤，如阳极泥、沈硝等杂质会影响镀层如麻点、结瘤、粗糙的外表，也会降低镀层

之防蚀力量，所以必需经常过虑或连续性过虑固体粒子。

10.pH值会影响镀浴性质，如氢气的析出、电流效率、镀层硬度及内应力，添加剂的吸

取，错合离子的浓度都有相当的影响。

11.时间为把握镀层厚度的主要因素，电流效率高，电流密度大所需电镀时间就少。

12.极化(polarization)电镀时电极电位发生变化产生一逆电动势，阻碍电流叫做极化作

用，抑制极化作用的逆电动势所需增加电压称之过电压。

极化作用对电镀的影响：

1.有利于镀层细致化。

2.有利于改进均匀性，使镀层厚度均匀分布。

3.氢气析出增加，降低电流效率和镀层之附着力，会产生起泡、脱皮现象。

4.不利阳极溶解，消耗电力、浴温增高、镀浴担忧定。

影响极化作用的因素有：

1.电镀浴组成，如氟化物镀浴之极化作用大，低浓度之镀浴极化作用较大。

2.电流密度，电流密度愈大极化作用愈大。

3.温度愈高，极化作用愈小。

4.搅拌使离子活性增大而降低极化作用。

5.掩盖性是指在低电流密度下仍能镀上之力量，好的掩盖性，在镀件低凹处仍能镀上金属。

它与均一性意义不同，但一般好的均一性则也有好的掩盖性，而掩盖性不好的则均一性

肯定也不好。

6.导电度，提高镀浴导电度有利于均一性，镀液的电流系由带电离子输送，金属导体是由

自由电子输送电流，二者方式不一样，电解液的导电性比金属导体差，其影响因素有：

7.电解质的电离度、离子之活度，电离度愈大其导电性愈好，强酸强咸电离度都大；

所以导电性好，简洁离子如盐梭根离子较简单离子如磷酸根离子活度大，所以导电性较

佳。

8.电解液浓度，电解质浓度低于电离度时，浓度增加可提高导电度，如浓度已大于电离度

时，浓度增加反而导电性会降低。例如硫酸之水溶液在15〜30%时导电度最高。

9.温度，金属的导电度与温度成反比，但是电解液的导电度与温度成正比，因温度上升了

离子的活度使导电性变好，同时温度也可提高电离度，因可提高导电度，所以电镀时常

提高温度来增加镀浴的导电度以增高电流效率。

10.电流效率，电镀时实际溶解或析出的重量与理论上应浴解或析出的重量的百分比数为电

流效率。可分为阳极电流效率及阴极电流效率。电流密度太高，阳极产生极化，使阳极

电流效率降低。假设阴极电流密度太大也会产出氢气减低电流效率。氢过电压，电镀金

属中，锌、银、辂、铁、镉、锡、铅的电位都比氢的电位要负，因此在电镀时,

氢气会优先析出而无法电镀出这些金属，但由于氢过电压很大，所以才能电镀这些金

属。然而某些基材如铸铁或高硅钢等之氢过电压很小，也就较难镀上，需先用铜镀层打

底而后再镀上这些金属。氢气的产生也会造成氢脆的危害，同时电流效率也较差，氢

气也会形成针孔，所以氢气的析出对电镀都是不利的，应设法提高氢过电压。

11.电流分布，为了提高均一性，电流分布将设法改善。如用相像阴极外形的阳极，管子的

中间插入阳极，将阳极伸入电流不易到达的地方，使用双极(bipolar)电极将电流分布

到死角深凹处，使难镀到地方也能镀上。在高电流密度区如尖角、边缘则可用遮板，输电

装置避开镀得太厚铺张或烧焦镀层缺陷。

12.金属电位；通常电位越负则化学活性愈大，电位负的金属可把电位正的金属置换析出，如

铁、锌可以把铜从硫酸铜液液析出置换出来产生没有附差性的沈积层。在电镀浴中假设

同时有几种金属离子，则电位正的金属离子先被还元析出。相反地电位负的金属先溶解。

电极材质及外表状况对氢过电压影响很大，光滑外表的过电压较大，不同材质有不同氢

过电压，金属钳的氢过电压最小。

13.浴电压，依镀浴组成，极面积及外形、极距、搅拌、温度、电流浓度等而不同。一般

在9〜12V,有高到15VO

2.5.10镀浴净化

由于杂质污染，操作过久杂质累积，故必需经常净化镀浴，

其主要的方法有：

1.利用过滤材去除固体杂质。

2.应用活性炭去除有机物。

3.用弱电解方法去除金属杂质。

4.可用置换、沈淀、pH调整等化学方法去除特别杂质。

2.5.11镀层要求工程

依电镀的目的镀层必需具备某些特定的性质，镀层的根本

要求有以下几项：

1.密着性(adhesion),系指镀层与基材之间结合力，密着性不佳则镀层会

有脱离现象，其缘由有：

(1)外表前处理不良，有油污、镀层无法与基材结合。

(2)底材外表结晶构造不良。

(3)底材外表产生置换反响如铜在锌或铁外表析出。

2.致密性(cohesion),系指镀层金属本身间之结合力，晶粒细小，

无杂质则有很好的致密性。其影响的因素有：(1)镀浴成份，

2.电流密度，(3)杂质，一般低浓度浴，低电流密度可得到

晶粒细而致密。

3.连续性(continuity),系指镀层有否孔隙(pore),对美观及腐蚀

影响很大。虽镀层均厚可削减孔隙，但不经济，镀层要连续

,孔率要小。

4.均一性(uniformity),是指电镀浴能使镀件外表沈积均匀厚度的

镀层之力量。好的均一性可在凹处难镀到地方亦能镀上，对美

观、耐腐蚀性很重要。试验镀浴之均一性有Haring电解槽试验

法、阴极弯曲试验法、Hull槽试验法。

5.美观性(appearence),镀件要具有美感，必需无斑点，气胀缺陷

,外表需保持光泽、光滑。可应用操作条件或光泽剂改进光泽度

及粗糙度，也有由后处理之磨光加工到达镀件物品之美观提高产

品附加价值。

6.应力(stress),镀层形成过程会残留应力，会引起镀层裂开或剥离

,应力形成的缘由有：

(1)晶体生长不正常，(2)杂质混入，(3)前处理使基材外表变质妨

砖结晶生长。

7.物理、化学机械特性如硬度、延性、强度、导电性、传热性、

反射性、耐腐蚀性、颜色等。

2.5.12镀层缺陷

镀层的缺陷主要有：

（1）密着性不好，（2）光泽和平滑性不佳，（3）均一性不良，（4）变色，（5）斑点，（6）粗糙，（7）

小孔。

缺陷产生的豫由有：

（1）材质不良，（2）电镀治理不好，（3）电镀工程不完全，（4）电镀过程之水洗、枯燥不良，（5）

前处理不完善。

2.5.13电镀技艺

电镀技艺，必需具备化学、物理、电化、电机、机械的相关技能，要能了解材料性质，表

面性质与状况，生疏电镀操作标准，对日常

作业发生的现象及对策详加整理牢记在心，以便快速正确地做特别处理。寻常要留意电镀

工场治理规章，尤其前后处理工程的每一步

骤都不能疏忽，否则前功尽弃。

2.5.14金属腐蚀

金属腐蚀，是由于化学及电化学作用的结果，可分为化学腐蚀与电化学腐蚀，按腐蚀还境

可分为高温气体腐蚀、土壤腐蚀等。又依腐蚀

破坏情形可分为全面腐蚀及局部腐蚀。局部腐蚀又可分为斑状腐蚀、陷坏腐蚀、晶间腐蚀、穿

晶腐蚀、外表下腐蚀、和选择性腐蚀，如

黄铜脆锌。影响腐蚀的因素有：（1）金属的本性，（2）温度，（3）腐蚀介质。防止金属腐蚀的

方法有：（1）正确选用材料，（2）合理设计金属构造，

（3）耐蚀合金，（4）临时油封包装，（5）去除腐蚀介质，（6）电化保护，（7）覆层保护。

2.6电镀有关之计算

电镀有关之计算，兹用一些范例或公式表示之：

1.温度之换算：

0C=5/9*（0F-32）

0F=1.80C+32

0K=0C+273

2.密度：

D=M/VM=质量，V=体积

⑶比重：

5©=物质密度/水在4oC时密度

4.波美（baume"）

Be'=145-145/比重

比重=145/145-Be'

例20%H2sO4的溶液，在20c时其Be”值为17,求比重多少？

比重二145/145-17=145/128=1.13

(5)合成物之水分比

例NiSCU,7H2。中含水多少？

解NiSCU,7H2O=280.87

7H2O=126

H2O%=126/280.87*100%=44.9%

(6)比率

例将镀槽有400加仑的溶液含500磅铝酸，问同样的浓度

100加仑镀槽需含多少倍酸？

400/500=100/X

x=125

・•・需1251b倍酸

(7)溶液的重量换成容积

例96%的H2SO4,比重1.854求制配1公升标准硫酸溶液

需多少ml96%H2SO4?

一公升之标准酸液之硫酸铜重量=98/2=49克

49克/((1.8354克)/(ml*0.96))=27.82ml

，需要27.82ml之96%H2SO4

(8)中和

例1用14.4ml的1N的HC1溶液中和310ml的NaOH溶液，

求NaOH溶液之当量浓度

解14.4mlxlN=10mlxxN

x=1.44

・•・比N.OH之当量浓度为1.44N

例21.1738N的HC1溶液来中和10mlZl.1034NNaOH溶液,

求需HC1溶液多少ml?

解xmix1.1788N=10mlx1.1034N

x=9.4

・•・需9.4ml之1.1738NHC1溶液

(9)法拉第定律(Faraday”sLaw)

例1计算以5安培电流经过5小时，铜沈积重量，其

电流放率为100%

沉积重量=(原子量/(原子价*96500))*(电流*时间*电流效应)

W=(A/(n*96500))*(l*T*CE)

=(63.54/(2*96500))*(5*5*60*60*100%)=31.8(g)

，可沉积31.8g的铜

例2要在10分钟镀2.5g的银在NiSO镀浴需多大电流?

电流效率100%。

l=((n*96500)/(A))*((W)/(t*CE))

=((2*96500)/(58.69))*((2.5)/(10*60*100%))=13.7

；・需电流13.7安培

例3镀件的外表积为1000cm2,在硫酸铜镀液中通过15

安培电流，电流效率