• 现行
  • 正在执行有效
  • 2018-10-31 颁布
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【正版授权】 ISO 14701:2018 EN Surface chemical analysis - X-ray photoelectron spectroscopy - Measurement of silicon oxide thickness_第1页
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基本信息：

  • 标准号：ISO 14701:2018 EN
  • 标准名称：表面化学分析 X 射线光电子能谱 测量氧化硅厚度
  • 英文名称：Surface chemical analysis — X-ray photoelectron spectroscopy — Measurement of silicon oxide thickness
  • 标准状态：现行
  • 发布日期：2018-10-31

文档简介

X射线光电子光谱（X-rayphotoelectronspectroscopy，XPS）是一种表面分析技术，可用于研究物质表面的化学成分和电子结构。该技术通过测量被分析材料的光电子发射特性，以揭示表面元素的化学态和浓度。

硅氧化物厚度测量是XPS应用的一个重要方面。硅氧化物是指表面硅元素的氧化物厚度，它可以反映材料在环境中的暴露时间和条件。通过测量硅氧化物厚度，可以了解材料在环境中的保护性能和老化程度。

要测量硅氧化物厚度，通常需要采用XPS的定量分析方法。这种方法基于对发射的特定能量光电子的计数和强度测量，以确定表面元素及其化学态的浓度。在ISO14701:2018标准中，规定了硅氧化物厚度测量的具体步骤和方法，包括样品准备、测量条件、数据分析和结果报告等。

在进行硅氧化物厚度测量时，需要注意选择适当的测量条件，如入射光电子能量、扫描速度和分辨率等，以确保测量的准确性和可靠性。此外，还需要考虑样品的表面状态、污染程度和元素组成等因素，以避免对测量结果产生干扰。

ISO14701:2018标准中规定了XPS硅氧化物厚度测量的方法和步骤，为相关研究和应用提供了指导和支持。通过正确使用该标准，可以获得更准确、可靠的硅氧化

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