脑连续冠状mri的定位

脑连续冠状mri的定位

研究了大脑和回波段的定位，对ct、mri中确定的特定大脑病变进行了三维定位手术、x刀和一门刀治疗、脑功能断层成像和断层成像具有重要的理论意义和实用价值。然而以往对大脑沟、回的解剖学研究,多是探讨其整体形态,难以满足现代影像学的需要。为此,一些学者分别利用脑断层标本、CT、RI、fMRI(功能磁共振成像)和PET(正电子发射计算机断层显像)等方法对中央沟区域以及大脑皮质语言区等在断面上的定位进行了研究[1,2,3,4,5,6,7,8,9,10]。但由于大脑沟、回个体差异较大,故单纯的影像学或影像与功能相结合的方法可信度较差;横断面和矢状面研究较多,而冠状断面研究较少;又由于未采用统一的标准基线,故各家的结果也缺乏相互比较的基础。连合间线为前连合(anteriorcommissure,AC)后缘中点至后连合(posteriorcommissure,PC)前缘中点的连线(即AC-PC线),它较为稳定,且与许多脑部结构关系密切,是目前国内外普遍用来确定脑内结构立体定位和脑立体定位手术的基线,故利用该线进行大脑沟、回的断面定位更具实用价值。本文以AC-PC线为基线,采用MRI与相应脑断层标本对照的研究方法,系统探讨了大脑中央后沟及缘上回在冠状断面上的定位,为在MRI等断层图像上准确识别脑叶、脑回和定位脑内微小占位性病变提供形态学依据。1材料和方法1.1ac-pc机脑回射线检测大鼠脑中tg-ls-b-c随机取用成年男性头部标本30例,以经AC-PC线中点的垂线为基线,用Phillps1.5T超导全身MRI系统扫描,获得4mm层厚的颅脑连续冠状断层MRI图像。扫描条件:T1WI,TR4277ms,TE20ms,TI400ms,RFOV80%,FOV230cm×1.5cm。将扫描后的标本,开颅取脑,剥去脑膜及血管,沿正中矢状面切开。在大脑半球内侧面上,确定经AC-PC线中点的垂线,将重要脑回:额中回、额下回、中央前回、中央后回、缘上回、角回、中央旁小叶染不同颜色,涂以蛋清并用10%甲醛固定。然后将左、右大脑半球以25%明胶包埋,用自制脑切片仪切制成与MR扫描一致的脑连续冠状断层标本。1.2冠状图像的系统扫描选健康成年男性6例,经Phillips1.5T超导全身MRI系统扫描,获得扫描基线、层厚与上述标本相一致的冠状图像。扫描条件:T1WI,TR4026ms,TE20ms,TI400ms,RFOV80%,FOV230cm×1.3cm。1.3mri及脑冠状断层将取自同一个体的MRI和脑断层标本对照观察,发现MRI与标本所见基本吻合。把大脑连续冠状断层标本重合追踪观察并记录中央后沟和缘上回的变化。将6例活体MRI与30例标本MRI及脑冠状断层标本对照研究,对每个断面及相应图像上的结构分析描述,探讨在MRI上辨认大脑中央后沟和缘上回的最佳途径。对3个典型断面(中央后沟首次出现断面;丘脑枕断面;胼胝体压部断面)上脑部结构的出现率进行统计、分析,以寻找辨认中央后沟和缘上回的标志。2结果2.1缘上回的下辨识本断面的特征是出现锥体束。大脑半球上外侧面外侧沟以上部分可依三大髓突自上而下辨认额上回、中央前回和中央后回,中央后回后方首次出现中央后沟,缘上回范围很小不易辨认。背侧丘脑与侧脑室的外侧有内囊后肢,其纤维主要为锥体束。在本组30例标本上,于首次切及中央后沟断面上大脑结构的出现率见(表1)。2.2中央后回外侧沟上方为额叶和顶叶,依三大髓突并结合中央前沟、中央沟和中央后沟,自上而下区分出额上回、中央前回、中央后回和缘上回。于右侧半球,因中央后回的髓突分叉,而从上下方夹持缘上回(图1)。在MRI图像上,髓突和脑沟清晰可辨,其表现基本上同断层标本(图2、3)。2.3中央旁私家车组突变此断面的主要变化表现在:(1)丘脑枕出现。(2)左外侧沟由“Y”形变为“一”形。在本组左侧63%、右侧73%的标本中,当外侧沟由“Y”形变为“一”形时,缘上回出现。(3)首次出现中央旁小叶前部,额上回消失,中央前回髓突变得粗大饱满。在本组左侧70%、右侧80%的标本中,当首次出现中央旁小叶前部时,中央前回髓突变得粗大饱满。在本组30例标本上,于丘脑枕断面大脑结构的出现率见(表2)。2.4大髓突回归的顺序外侧沟已进入缘上回,完全由“Y”形变为“一”形。大脑半球上外侧面可见六大髓突,自上而下依次是中央前回、中央后回、缘上回、颞上回、颞中回和颞下回。中央后回与缘上回之间为中央后沟(图4～6)。在本组30例标本上,于胼胝体压部断面上大脑结构的出现率见(表3)。2.5脑球内扣带沟左中央沟位于半球上缘,界分内侧的额叶和外侧的顶叶。在大脑半球内侧面上,最深的脑沟为扣带沟,已移行为其缘支。于大脑半球上外侧面上,最深的脑沟为顶内沟,其上方依次为顶上小叶、中央后沟和中央后回,下方为缘上回(图7～9)。2.6叶哌叶中央后沟位四个断面上大脑半球上外侧面依顶颞线分开顶叶颞叶,中央后沟位近上缘,于断面27上消失。顶内沟是断面上最深的沟,界分上方的顶上小叶和下方的缘上回与角回(图10～12)。3讨论3.1脑连续簿层冠状断层与髓突在断面上的定位归纳起来,以往的研究主要采用3种方法在断面上定位大脑的沟、回:(1)寻找标志性脑沟的走行特点或与其它脑沟相连而形成的特征来辨认其邻近的沟、回,此法虽切实可行,但仅适用于少数沟、回;(2)通过辨认大脑白质形成的髓突来定位大脑的沟、回,但此法难以确定某一沟、回何时出现或何时消失,故容易在断面间造成错认;(3)使用功能影像学手段,通过运动手指、语言活动或给予各种感觉刺激来辨认相应的沟、回,此法基本上是借助于整体解剖学知识来在断面上定位大脑的沟、回,故欠精确。本文以经AC-PC线中点的垂线为基线,采用脑连续簿层冠状断层标本与相应MRI图像及活体脑MRI图像相互对照的方法进行研究,提出了以大脑沟、回与脑深部结构的对应关系并结合髓突在断面上定位大脑沟、回的方法。此方法简便、实用、准确,不但适用于脑断层标本,也适用于MRI图像,但在临床应用中,要求以经AC-PC线中点的垂线为基线进行扫描。3.2中央后沟的发现和鉴定中央后沟是大脑半球上外侧面顶叶较为恒定的脑沟,常分成上、下两部分,与中央沟大致平行,其上端多未达半球上缘,下端约半数抵达外侧沟,顶内沟通常起始于其中点或下部的上端。在横断面上,Iwasaki和刘丰春提出以髓突辨认中央后回的方法来确认中央后沟。在矢状断面上,Naidich和李振平等指出可借助前方的中央沟与后方的缘上回来辨认中央后沟。在本组大脑连续冠状断层标本及MRI图像上,经对中央后沟的追踪观察发现:多数标本中央后沟首次出现在锥体束消失而背侧丘脑仍然存在的断面上(见表1),于30例标本中未见中央后沟出现锥体束之前者;在丘脑枕断面上,中央前沟大多消失,中央前回髓突变得粗大,大脑半球上外侧面外侧沟以中央沟与中央后沟为界,区分中央前回、中央后回、缘上回;胼胝体压部消失以后,扣带沟缘支和顶内沟出现,中央后沟接近上缘。在切及侧脑室后角末端的断面上,中央后沟消失。3.3缘上回发现的意义大脑半球上外侧面顶下小叶前部围绕外侧沟后升支末端的部分称缘上回,在优势半球属于后说话区。在横断面上,刘丰春以髓突来辨认缘上回。在矢状断面上,Naidich指出围绕于外侧沟后升支上方的“马蹄”形脑回为缘上回。刘树伟等