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文档简介

理解开关过程第一页,共十页,编辑于2023年,星期一1.认识MOSFET中的寄生电容2.MOSFET栅极特性与开关过程3.MOSFET漏极导通特性与开关过程第二页,共十页,编辑于2023年,星期一1.认识MOSFET中的寄生电容-----Cgd(米勒电容)-----Cgd+Cgs=Ciss(输入电容)-----Cds=Coss(输出电容)注:Cgs>>Cgd??为什么Datasheet中只给出Ciss和Coss,而不是Cgd和Cgs和Coss??图1MOSFET的寄生电容第三页,共十页,编辑于2023年,星期一2.MOSFET栅极特性与开关过程(1)-----VTH:开启阈值电压-----VGP:米勒平台电压-----VCC:驱动电路的电源的电压图2MOSFET开关过程中栅极电荷特性

当驱动开通脉冲加到MOSFET的G和S极时,输入电容Ciss充电直到MOSFET开启为止。开启时Vgs=VTH。栅电压达到VTH前MOSFET一直处于关断状态,只有很小的电流流过MOSFET。Vds的电压保持VDD不变。(t1阶段)-----VDD:MOSFET关断时D和S极间施加的电压

当Vgs到达VTH时,漏极开始流过电流iD,然后Vgs继续上升,iD也逐渐上升,Vds仍然保持VDD。当Vgs到达米勒平台电压VGP时,iD也上升到负载电流最大值ID,Vds的电压开始从VDD下降。(t2阶段)

米勒平台期间,iD电流维持ID,Vds电压不断降低。

米勒平台结束时刻,iD电流仍维持ID,Vds电压降低到一个较低的值。(t3阶段)第四页,共十页,编辑于2023年,星期一2.MOSFET栅极特性与开关过程(2)图2MOSFET开关过程中栅极电荷特性

米勒平台结束后,iD电流仍维持ID,Vds电压继续降低,但此时降低的斜率很小,因此降低的幅度也很小,最后稳定在Vds=Id*Rds(on)。因此通常可以认为米勒平台结束后MOSFET基本上已经导通。(t4阶段)米勒平台的高度受负载电流的影响,负载电流越大,则Id达到此电流的时间就越长,从而导致更高的VGP。

米勒平台持续的时间TGP=QGD/Ig。QGD不仅和器件有关还和漏极VDD电压有关。一般,VDD越高,电荷量越大。哪些因素影响米勒平台的高度和米勒平台持续的时间??第五页,共十页,编辑于2023年,星期一2.MOSFET栅极特性与开关过程(3)图2MOSFET开关过程中栅极电荷特性t1和t2阶段,因为Cgs>>Cgd,所以驱动电流主要是为Cgs充电

(QGS)。t3阶段,因为VDS从VDD开始下降,Cgd放电,米勒电流Igd分流了绝大部分的驱动电流(QGD)。使得MOSFET的栅电压基本维持不变。t4阶段,驱动电流主要是为Cgs充电(QGS)。Qg=QGS(t1,t2)+QGD)+QGS(t4)第六页,共十页,编辑于2023年,星期一3.MOSFET漏极导通特性与开关过程(1)栅极电荷特性对于形象的理解MOSFET的开通过程并不直观。因此,下面将基于漏极导通特性理解MOSFET开通过程。图3MOSFET漏极导通特性有时又称饱和区或放大区

在恒流区,MOSFET栅极电压Vgs、漏极电流Id和跨导gFS之间的关系是:gFS=Id/Vgs第七页,共十页,编辑于2023年,星期一3.MOSFET漏极导通特性与开关过程(2)以AOT460为例图4AOT460的开通轨迹

开通前,MOSFET的起始工作点位于图3的右下角A点,AOT460的VDD电压为48V,Vgs的电压逐渐升高,Id电流为0,Vgs的电压达到Vgs(th),Id电流从0开始逐渐增大。图2中t2阶段对应A->B过程,此过程工作于MOSFET的恒流区,也就是Vgs电压和Id电流自动找平衡的过程,即Vgs电压的变化伴随着Id电流相应的变化,其关系就是MOSFET的跨导:gFS=Id/Vgs,跨导可以再MOSFET数据手册中查到。

图2中t3阶段对应B->C过程,此阶段Id电流已经恒定在负载最大允许电流ID,因此栅极Vgs电压也恒定在VGP(VGP=Id/gFS),此阶段工作于相对稳定的恒流区。图2MOSFET开关过程中栅极电荷特性第八页,共十页,编辑于2023年,星期一3.MOSFET漏极导通特性与开关过程(3)以AOT460为例图4AOT460的开通轨迹图2中t4阶段对应C->D过程。在C点,米勒电容上的电荷基本上被扫除,C->D的过程栅极电压在驱动电流的充电下又开始升高,MOSFET进一步完全导通。C->D为可变电阻区,相应的Vgs电压对应着一定的Vds电压。Vgs电压达到最大值,Vds电压达到最小值,由于Id电流为ID恒定,因此Vds的电压即为ID和MOSFET的导通电阻的乘积。图2MOSFET开关过程中栅极电荷特性

小结:基于MOSFET的漏极导通特性可

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