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文档简介

2.1真空烧结能够减少气氛中的有害成分(水、氧、氮及其他的杂质等)对物料剩余气体相当于纯度为99.99987%氧气)；金属中气体的脱除，使物料的致密性更高；2.4真空烧结能够使材料的耐磨性及强度更高；2.5真空烧结对降低产品成本也有显著效果；3、真空烧结炉的用途：真空烧结炉主要用于粉末冶金制品、金属注射成型制品、不锈钢基、硬质结炉的分类第一种是以温度分为普通烧结炉(1300c及以下)，中温烧结炉 (1300C〜1600C)、高温烧结炉(1600c〜2400C)。真空炉安装方式的选择：我公司研制的真空炉分为卧式及立式炉两种，立式炉又分为上出料及下出料结构。选择依据主要是烧结的产品类型、形状或摆以辐射传热为主。我公司生产的真空烧结炉的加热组件主要有锲铭、高温铝、石墨及石墨带(板)、鸨带及鸨网。锲铭主要应用在温度在1000c以下的真空炉，墨带(板)可以应用在2300c以下真空炉，鸨带及鸨网可以应用在2400C以下隔热屏的选择：隔热屏是真空烧结炉加热室的主要组成部分，其主要，同时也是固定加热器的结构基础。因止匕，隔热屏结构形式及材料的选择，对真空炉的功率及性能(如真空度、放气率等)有很大的影响。隔热屏基本上分为金属隔热屏和非金属隔热屏两类。其结构形式分为全金属隔热屏、夹层式隔热屏、石墨毡隔热屏和混合毡隔热屏。隔热屏的选择配置为机械泵(旋片泵或滑阀泵)，极限真空度可达10帕左右；第二种是中真冷却系统的选择：我公司设计制造的真空炉的冷却方式可分为自然冷却和强制冷却，强制冷却又分为内循环冷却和外循环冷却。充气介质一般为高纯氮气或多种测温方式(K,S,B,WRe等热偶，红外测温)或组合选择；成一拖二方式；VEP系列等静压烧结炉VMC系列多室连续真空烧结炉广泛应用于碳化硅(SiSIC)陶瓷的反应烧结工艺，也用于特种陶瓷材料，硬质合金，陶瓷金属复合材料以及难熔金属组成的合金材料的高温真空烧结。针对材料的高温烧结工艺保证耐热及绝缘性可靠性设计，新型电极结构杜绝了高温炉电极漏水现象，并且加热系统中的易损部件更便于维修和更换。高效的真空脱蜡/脱脂/除尘装置；多种测温方式(K,S,B,WRe等热偶，红外测温仪)或组合选择；高温金属(馍铭、铝、鸨)/石墨材料加热系统选择，方便不同温度或材料工艺需求；材料工艺如需高真空度，可以采用扩散泵机组(极限真空度可达1.5*10-3Pa);VHS7730与VHS7740两种真空炉可选择一拖二系统(真空系统、加热电源及装取料车共用)主要技术参数:有效加热区最高温度极限真空性率加热功率参考装料量(含度(Pa)VHS25200*200*50010.5VHS337300*300*70010.5VHS449400*400*90010.5VHS5511500*110010.5VHS5514560*140010.5VHS66180*180010.5VHS662

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