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原文在“D:\PWC实用化技术\贴17--仿形设计的PWC方法\1-原态.ZMX”实体光在“D:\PWC实用化技术\贴17--仿形设计的PWC方法\1-例1\2-各单镜\架构.ZMX”架构光路如上文件是像差初步平衡好后的文操作集检见“D:\PWC实用化技术\贴17--仿形设计的PWC方法\1-例1\2-各单镜\3--ZEMAX中理想单镜PWC法求解检查.docx经过检查，该操作集与mathmeticaD:\PWC实用化技术\贴17--仿形设计的PWC方法\1-例1\2-各单镜透镜系 和.xlsx”得下表表1上表是全系统和分布，下表是只有单镜时的和值。由于全系统和很小，可以人为像差处于平衡好后的状态，那么只有单镜的系统，其像差只与”棱镜+保护玻璃”的像差相抵消，这样架构算出的初级像差和，其单色像差应等于下表最后一行数，其色差应等于下表最后一行数的相反数（理工的架构和数计算色差的结果，与ZEMAX计算结果像差一个负号据上表红色数据系统和设置在电子表格（即作为了像差校正的目标值D:\PWC实用化技术\贴17--仿形设计的PWC方法\1-例1\2-各单镜\6-架构优化1.ZMX透镜系--2.6E----由表可见透镜系统的初级像差基本上得到了校正单镜开方数，三Q选取原则见图 超半球检查与调先观察下表3，无超半球（半径<1.1*对应透镜口径高+0.5时超半球单镜实体据表3有各单镜口径，焦距。材料、半径（材料小数可取少些，因为，8-6.ZMX初步系统实体由表4可将6个单镜组合成实体初步实体化后得“9-合并单镜.ZMX这个系统像差较大，畸变达100%两镜产生位置，手动使其恰不。此时各镜焦距和材料并没改变，即系统架构是合理的，它是系统校像差潜力的主要表征。在ZEMAX中初步优化后得“10-ZEMAX中初步优化.ZMX上面的结果看焦距分配没变，材料分配没变，所改变的是弯曲形状，第镜的弯曲有利于减小轴外光线在其上的角度，倒数第2对称性，有利于轴外像差的平衡，这再一次验证了系统架构（包括材料分配决定了系统校像差的潜力。间隔，材料变动对校像差影响大，CODEV在平衡像差上比ZEMAX有优势即快又好CODEVZEMAX反复校像差，得“11ZEMAXCODEV反复优.zmx上面的远心角应校正到3°以内，可以再在CODEVZEMAX继续优化即原始系统有棱镜，系统各参数与原系统一样，但传函MTF提高了0.13单镜实体化操作集作由用单镜实体化操作集优化光学系统来看，没有要求原系统有光线，因此可对现场测绘系统（不必知到材料）进行优化设计可对网上无光线系统进行仿真设计当现场光学系统已进行批量生产后，可先求出系统原透镜PWC单镜实体化操作集与双胶镜实体化操作集结合使用，可适应任何经典透镜的光学设计（包括变焦系统。光路总长对系统象质的影图6光学系统总长=65.9，全部是球面，W0=20°，F#=1.7，MTF=0.62图7是贴15时，光学系统总长=21.5，最后是两面为非球面的单镜，系W0=20°，F#=1.

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