• 现行
  • 正在执行有效
  • 2017-11-01 颁布
  • 2018-05-01 实施
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GB/T 34893-2017微机电系统(MEMS)技术基于光学干涉的MEMS微结构面内长度测量方法_第1页
GB/T 34893-2017微机电系统(MEMS)技术基于光学干涉的MEMS微结构面内长度测量方法_第2页
GB/T 34893-2017微机电系统(MEMS)技术基于光学干涉的MEMS微结构面内长度测量方法_第3页
GB/T 34893-2017微机电系统(MEMS)技术基于光学干涉的MEMS微结构面内长度测量方法_第4页
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文档简介

ICS31200

L55.

中华人民共和国国家标准

GB/T34893—2017

微机电系统MEMS技术

()

基于光学干涉的MEMS微结构

面内长度测量方法

Micro-electromechanicalsystemtechnology—

Measuringmethodforin-planelengthmeasurementsofMEMSmicrostructures

usinganopticalinterferometer

2017-11-01发布2018-05-01实施

中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局发布

中国国家标准化管理委员会

GB/T34893—2017

目次

前言

…………………………Ⅰ

范围

1………………………1

规范性引用文件

2…………………………1

术语和定义

3………………1

测量方法

4…………………1

影响测量不确定度的主要因素

5…………4

附录资料性附录光学干涉显微镜的典型形式和主要技术特点

A()…………………5

GB/T34893—2017

前言

本标准按照给出的规则起草

GB/T1.1—2009。

本标准由全国微机电技术标准化技术委员会提出并归口

(SAC/TC336)。

本标准主要起草单位天津大学中机生产力促进中心国家仪器仪表元器件质量监督检验中心南

:、、、

京理工大学中国电子科技集团公司第十三研究所

。

本标准主要起草人胡晓东郭彤于振毅李海斌程红兵裘安萍崔波朱悦

:、、、、、、、。

Ⅰ

GB/T34893—2017

微机电系统MEMS技术

()

基于光学干涉的MEMS微结构

面内长度测量方法

1范围

本标准规定了基于光学干涉显微镜获取微结构表面形貌进行面内长度测量的方法

MEMS。

本标准适用于表面反射率不低于宽深比不低于且使用光学干涉显微镜能够获取形貌

4%,1∶10,

的微结构

MEMS。

2规范性引用文件

下列文件对于本文件的应用是必不可少的凡是注日期的引用文件仅注日期的版本适用于本文

。,

件凡是不注日期的引用文件其最新版本包括所有的修改单适用于本文件

。,()。

产品几何技术规范表面结构轮廓法术语定义及表面结构参数

GB/T3505(GPS)、

微机电系统技术术语

GB/T26111(MEMS)

微机电系统技术微几何量评定总则

GB/T26113(MEMS)

3术语和定义

和界定的以及下列术语和定义适用于本文件

GB/T3505GB/T26111。

31

.

表面形貌surfacetopography

表面结构的宏观和微观几何特性

。

注一般包括表面几何形状表面波纹度表面粗糙度及表面缺陷等

:、、。

32

.

面内长度in-planelength

表面有边缘结构特征的两点点与线或两条线之间的距离

、。

4测量方法

41总则

.

411实施面内长度测量前提是结构具备阶梯型边缘结构两边缘结构端面和端面之间

..MEMS

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