标准解读
《GB/T 34893-2017 微机电系统(MEMS)技术 基于光学干涉的MEMS微结构面内长度测量方法》是一项国家标准,它规定了使用光学干涉技术对MEMS(微机电系统)中微结构在平面内的长度进行精确测量的方法。该标准适用于MEMS器件制造过程中或成品测试阶段,对于需要高精度尺寸控制的应用场景尤为重要。
标准详细描述了采用光学干涉法进行测量时所需设备的基本要求、环境条件以及操作流程。首先,介绍了适用于此类测量的干涉仪类型,包括但不限于白光干涉仪和激光干涉仪,并指出这些仪器应具备足够的分辨率以满足MEMS微结构尺寸的测量需求。接着,指定了测量过程中的关键参数设置,如光源波长选择、参考镜与样品间距离调整等,确保能够获得清晰稳定的干涉条纹图像。
此外,还讨论了如何通过分析干涉图样来计算出待测微结构的实际长度值。这涉及到从获取到的原始数据中提取有效信息,利用特定算法处理后得到最终结果。整个过程强调了重复性和准确性的重要性,建议实施多次测量取平均值以减少随机误差的影响。
该标准也涵盖了实验前后的准备事项及注意事项,比如清洁样品表面防止污染影响测量精度,以及合理安排实验室温湿度控制避免外部因素干扰。同时,提供了关于数据记录、报告撰写等方面的指导性意见,帮助使用者更好地完成测量任务并保证结果的有效性和可追溯性。
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....
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- 现行
- 正在执行有效
- 2017-11-01 颁布
- 2018-05-01 实施
文档简介
ICS31200
L55.
中华人民共和国国家标准
GB/T34893—2017
微机电系统MEMS技术
()
基于光学干涉的MEMS微结构
面内长度测量方法
Micro-electromechanicalsystemtechnology—
Measuringmethodforin-planelengthmeasurementsofMEMSmicrostructures
usinganopticalinterferometer
2017-11-01发布2018-05-01实施
中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局发布
中国国家标准化管理委员会
GB/T34893—2017
目次
前言
…………………………Ⅰ
范围
1………………………1
规范性引用文件
2…………………………1
术语和定义
3………………1
测量方法
4…………………1
影响测量不确定度的主要因素
5…………4
附录资料性附录光学干涉显微镜的典型形式和主要技术特点
A()…………………5
GB/T34893—2017
前言
本标准按照给出的规则起草
GB/T1.1—2009。
本标准由全国微机电技术标准化技术委员会提出并归口
(SAC/TC336)。
本标准主要起草单位天津大学中机生产力促进中心国家仪器仪表元器件质量监督检验中心南
:、、、
京理工大学中国电子科技集团公司第十三研究所
。
本标准主要起草人胡晓东郭彤于振毅李海斌程红兵裘安萍崔波朱悦
:、、、、、、、。
Ⅰ
GB/T34893—2017
微机电系统MEMS技术
()
基于光学干涉的MEMS微结构
面内长度测量方法
1范围
本标准规定了基于光学干涉显微镜获取微结构表面形貌进行面内长度测量的方法
MEMS。
本标准适用于表面反射率不低于宽深比不低于且使用光学干涉显微镜能够获取形貌
4%,1∶10,
的微结构
MEMS。
2规范性引用文件
下列文件对于本文件的应用是必不可少的凡是注日期的引用文件仅注日期的版本适用于本文
。,
件凡是不注日期的引用文件其最新版本包括所有的修改单适用于本文件
。,()。
产品几何技术规范表面结构轮廓法术语定义及表面结构参数
GB/T3505(GPS)、
微机电系统技术术语
GB/T26111(MEMS)
微机电系统技术微几何量评定总则
GB/T26113(MEMS)
3术语和定义
和界定的以及下列术语和定义适用于本文件
GB/T3505GB/T26111。
31
.
表面形貌surfacetopography
表面结构的宏观和微观几何特性
。
注一般包括表面几何形状表面波纹度表面粗糙度及表面缺陷等
:、、。
32
.
面内长度in-planelength
表面有边缘结构特征的两点点与线或两条线之间的距离
、。
4测量方法
41总则
.
411实施面内长度测量前提是结构具备阶梯型边缘结构两边缘结构端面和端面之间
..MEMS
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