标准解读

《GB/T 34649-2017 磁控溅射用钌靶》是一项国家标准，旨在规范用于磁控溅射工艺中的钌靶材料。该标准涵盖了钌靶的基本要求、技术指标、试验方法、检验规则以及包装、标志、运输和贮存等方面的内容。

首先，在基本要求部分，标准规定了钌靶应具备良好的物理性能与化学纯度，以确保在溅射过程中能够稳定工作，并且所沉积薄膜的质量符合预期。此外，还对钌靶的外观质量提出了具体要求，如表面不得有裂纹、夹杂物等缺陷。

接着，在技术指标方面，《GB/T 34649-2017》详细列出了钌靶的主要成分含量范围、密度、电阻率等关键参数。这些参数对于保证溅射过程的有效性至关重要，同时也为用户提供了选择合适产品时的重要参考依据。

试验方法章节则介绍了如何通过科学合理的手段来测定上述各项技术指标的具体步骤，包括但不限于化学分析法、物理测试法等。这部分内容为生产企业及第三方检测机构提供了统一的操作指南，有助于提高数据的一致性和可比性。

检验规则明确了不同批次或同一批次内样品抽取数量的要求，以及不合格品处理方式等内容。这有利于保障市场上流通产品的整体质量水平。


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....

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  • 现行
  • 正在执行有效
  • 2017-09-29 颁布
  • 2018-04-01 实施
©正版授权
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文档简介

ICS7715099

H68..

中华人民共和国国家标准

GB/T34649—2017

磁控溅射用钌靶

Magnetronsputteringrutheniumtarget

2017-09-29发布2018-04-01实施

中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局发布

中国国家标准化管理委员会

GB/T34649—2017

前言

本标准按照给出的规则起草

GB/T1.1—2009。

本标准由中国有色金属工业协会提出

。

本标准由全国有色金属标准化技术委员会归口

(SAC/TC243)。

本标准负责起草单位有研亿金新材料有限公司有色金属技术经济研究院

:、。

本标准起草人罗俊锋丁照崇李勇军向磊万小勇刘书芹熊晓东王庄贺昕滕海涛高岩

:、、、、、、、、、、。

Ⅰ

GB/T34649—2017

磁控溅射用钌靶

1范围

本标准规定了磁控溅射用钌靶的要求试验方法检验规则及标志包装运输贮存质量证明书和

、、、、、、

订货单或合同内容

()。

本标准适用于微电子领域镀膜用磁控溅射钌靶以下简称钌靶

()。

2规范性引用文件

下列文件对于本文件的应用是必不可少的凡是注日期的引用文件仅注日期的版本适用于本文

。,

件凡是不注日期的引用文件其最新版本包括所有的修改单适用于本文件

。,()。

一般公差未注公差的线性和角度尺寸的公差

GB/T1804

烧结金属材料不包括硬质合金可渗性烧结金属材料密度含油率和开孔率的

GB/T5163()、

测定

金属平均晶粒度测定方法

GB/T6394

金属材料中氢氧氮碳和硫分析方法通则

GB/T14265、、、

钌粉化学分析方法铅铁镍铝铜银金铂铱钯铑硅量的测定辉光放电

GB/T23275、、、、、、、、、、、

质谱法

溅射靶材背板结合质量超声波检验方法

YS/T837-

3术语和定义

下列术语和定义适用于本文件

。

31

.

磁控溅射physicalvapordepositionPVD

;

物理气相沉积镀膜的一种方法通过在靶材表面引入电场和磁场利用磁场对带电粒子的约束来提

:,

高等离子体密度并利用电场对惰性气体通常为气粒子加速轰击靶表面从而溅射出材料原子或

,(Ar),

原子团最后沉积形成膜镀层

,。

32

.

磁控溅射用钌靶magnetronsputteringrutheniumtarget

用金属钌制备的用于磁控溅射的钯材用于制备钌膜镀层

,。

4要求

41产品分类

.

411钌靶按化学成分分为四个牌号

..Ru-99.95、Ru-99.99、Ru-99.995、Ru-99.999。

412按靶材焊接方式可分为单体型和焊接型背板材料包括铝合金铜及铜合金

..,、。

413钌靶按截面形状可分为圆形

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