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实验二铝的阳极氧化和电解40~50A薄的氧化膜。后者虽然能5-20微米之间,硬度较高,孔隙率 2H++2e→H2↑阳极 Al-3e→6OH-→2Al33O2Al2O3399卡Al、Al2O32Al+2H2SO4→Al2(SO4)3+3H2↑Al2O3+H2SO4→AL2(SO4)3+3H3O数秒钟首先生成无孔的致密层(叫无孔层,或阻挡层),它虽只有0.01~0.015m,具有必须注意,氧化膜的生成和成长过程是由于氧离子穿过无孔层与铝离子结氧化膜A10秒钟内曲线直线上升,电压激剧增高,说明生成了无孔层电阻增大,这时成B1.1―铝;2―无孔层;3―
2.―C等目的。常用的封有沸水法和常温法两类。30Al2O3H2O,体积95~100oC下进行。3. 10~20 10~20 10~20 OP-10 1~3温 60~ 时 5~10分图4.电解装置H3PO4(d=1.70) 温 90~H2SO4(d=1.34) 时 20~30HNO3(d=1.46)200g/LH2SO4取两块铝试片,计算面积,挂入阳极。一定要夹紧,通电后始终保持1A/dm2黄0.3g/L,红0.5g/L,温度50~70oC,时间为1~3分,随后冷水冲洗,在煮沸的蒸馏水中封闭5~1
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