薄膜物理与技术

1、薄膜物理与技术Physics and Technology of Thin Films课程编号：07370110学 分：2学 时 ： 30（其中：讲课学时：30 实验学时： 0 上机学时：0）先修课程：大学物理，普通化学适用专业：无机非金属材料工程（光电材料与器件）教 材 ： 薄膜物理与技术 ，杨邦朝，王文生主编，电子科技大学出版社， 1994年 1 月第 1 版开课学院 ： 材料科学与工程学院一课程的性质与任务薄膜科学是现代材料科学中及其重要且发展非常迅速的一个分支，已成为微电子学、固体发光、光电子学等新兴交叉学科的材料基础，同时薄膜科学研究成果转化为生产力的速度愈来愈快， 国内外对从事薄膜

2、研发和生产的人才需求也日益强劲。本门课程就是为适应学科发展，学生适应市场需求而设置的专业课程。课程的基本任务是：基本掌握各种成膜技术的基本原理和方法；了解并初步掌握薄膜的形成、结构与缺陷，薄膜的电学、力学、半导体、磁学等物理性质。二课程的基本内容及要求第一章 真空技术基础1、教学内容（ 1）真空的基本知识（ 2）稀薄气体的基本性质（ 3）真空的获得及测量2、教学要求理解真空的基本知识和稀薄气体的基本性质，掌握真空的获得、主要手段和真空度策略方法，了解实用真空系统。第二章 真空蒸发镀膜1、教学内容（ 1）真空蒸发原理（ 2）蒸发源的蒸发特性及膜厚分布（ 3）蒸发源的类型（ 4）合金及化合物的蒸发

3、（ 5）膜厚和沉积速率的测量与监控2、教学要求掌握真空蒸发原理，掌握真空镀膜的特点和蒸发过程，理解饱和蒸汽压和蒸发源的发射特性，熟练掌握蒸发速率、薄膜厚度的测量和控制，了解蒸发镀膜的常用方法（电阻加热和电子束加热） ，了解合金膜及化合物摸的蒸镀。第三章 溅射镀膜1、教学内容（ 1）溅射镀膜的特点和基本原理（ 2）溅射镀膜的类型2、教学要求掌握溅射镀膜的基本原理和特点，理解表征溅射特性的参量及其影响因素，了解溅射机理及溅射镀膜的各种类型第四章 离子镀膜1、教学内容（ 1）离子镀的原理和特点（ 2）离子轰击的作用（ 3）离子镀的类型2、教学要求掌握离子镀的基本原理和特点，理解离子轰击的作用，了解离

4、子镀的类型。第五章 化学气相沉积1、教学内容（ 1）化学气相沉积的基本原理和特点（ 2）化学气相沉积工艺简介（ 3）化学气相沉积的类型（低压、等离子体及其他）2、教学要求掌握化学气相沉积（CVD的原理、特点和应用，理解化学气相反应的热力学和动力学过程及影响因素，了解CVD 方法的基本反应类型，了解低压化学气相沉积（ LPCVD） 、有机金属化合物化学气相沉积（MOCV）D。第六章 溶液镀膜法1、教学内容1）化学反应沉积2）阳极氧化法3）电镀法4）溶胶凝胶法5） LB膜的制备2、教学要求了解化学反应沉积、 阳极氧化法、 电镀法镀膜的原理及特点， 了解溶胶凝胶法的工艺过程，了解LB膜的分类及制备方

5、法。第七章 薄膜的形成1、教学内容1）凝结过程2）核形成与生长3）薄膜形成过程与生长模式4）溅射薄膜的形成过程，薄膜的外延生长5）薄膜形成过程的计算机模拟2、教学要求理解表面吸附和脱附， 熟练掌握薄膜的成核及生长过程， 掌握薄膜生长过程中的热力学行为，了解薄膜生长的三种常见方式，了解各种模拟薄膜生长的计算机模型。第八章 薄膜的结构与缺陷1、教学内容1）薄膜的结构2）薄膜的缺陷3）薄膜结构与组分的分析方法2、教学要求掌握晶体的表面结构、 理解薄膜的外延生长及界面结构， 理解薄膜制备过程与薄膜晶体结构之间的关系，掌握薄膜的几种主要缺陷（点缺陷、线缺陷和面缺陷） ，了解薄膜结构与组分的表征方法。第九

6、章 薄膜的性质1、教学内容1）薄膜的力学性质2）金属薄膜的电学性质3）介质薄膜的电学性质（ 4）半导体薄膜的性质2、教学要求掌握薄膜的力学性质及影响因素，掌握金属薄膜和介质薄膜的电学性质，了解半 导体薄膜的性质，了解薄膜的其他性质（超导、磁性、超硬）。三.课程学时分配早1讲课实验上机第一章真空技术 基础2第F真空蒸发 镀膜4第三章溅射镀膜4第四章离子镀膜2第五章化学气相 沉积6第六章溶液镀膜 法2第七章薄膜的形 成4第八章薄膜的结 构与缺陷2第九章薄膜的性 质4四.大纲说明1、薄膜科学在现代材料科学中发展极为迅速，教师应关注较新的研究进展，适当介绍些新的制备技术及应用情况；2、每章内容结束后布

7、置几道相应的思考题，加强学生对教学内容的掌握。五.参考书目及学习资料1、薄膜制备原理、技术及应用第二版，唐伟忠著，冶金工业出版社，1998年5月第1版。2、薄膜物理，薛增泉著，电子工业出版社，1991年9月第1版。制定人：姜燕审定人：李浩华批准人：2013年6月 日课程简介课程编码： 07370110课程名称：薄膜物理与技术英文名称：Physics andTechology of Thin Films学分：2学时：30 （其中：讲课学时： 30 实验学时： 0 上机学时： 0）课程内容：本课程薄膜物理与技术的主要内容包括有真空技术基础，真空蒸发镀膜，溅射镀膜，离子镀膜，化学气相沉积，溶液镀膜，薄膜的形成，薄膜的结