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文档简介

1、掩膜版是对匀胶铬版经过光绘加工后的产品。由玻璃基片、铬层、氧化铬层和光刻胶层构成的。当有效波长作用到光刻胶上，发生化学反应，再经过显影之后，曝光部分的光刻胶层会被分解、脱掉、直接显露出下层的铬层（阻挡光层） ，形成具体图形。3) 掩膜的应用目前掩膜版在电子行业中主要应用于 STN- LCD、TFT -LCD、PDP、以及 PCB 产业BGA、FPC、HDI 等产品。4) 多晶硅刻蚀1) STI刻蚀2) P阱注入3) N阱注入8) 金属刻蚀5) N+ S/D 注入6) P+ S/D 注入7) 氧化层接触刻蚀顶视图12345768剖面图最终层投影掩膜版的材料： 最主要的用于亚微米光刻的投影掩膜版衬

2、底材料是烧融石英。这种材料始终用在深紫外光刻中，因为它在深紫外光谱部分（248nm和193nm）有高光学透射。用做投影掩膜版的烧融石英是最贵的材料并且有非常低的温度膨胀。低膨胀意味着投影掩膜版在温度改变时尺寸是相对稳定的。掩膜版材料应具有的其它性能是高光学透射和在材料表面或内部没有缺陷。保护膜上的颗粒在光学焦距范围之外.抗反射涂层保护膜铬图形焦深掩膜版材料投影掩膜版保护膜框架铬图形在投影掩膜版上的视场尺寸投影透镜硅片上的曝光视场设计掩膜板总图制备初缩掩膜板精缩与分步重复复印生产用套版刻掩膜红膜分图按比例放大总图CPU磁盘机绘图机控制台打印机图形字符终端图形输入端数字化仪绘图数据生成程序图形发生器数据生成程序数据库及图形

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