有关PCB曝光机之专利

1、1有關PCB曝光機之專利 技術功效分類g9734538 林韋志2技術功效研究流程n瞭解PCB製程n專利檢索並定義出相關技術與功效再繪製魚骨圖n針對所搜尋到的專利MAPPING到各個技術與功效n將各專利所對應的技術與功效輸入到專利分析平台上作進一步的分析3自動曝光機動作流程4專利檢索結果專利檢索結果1.曝光機檢索: 1610(篇)2.人工篩選: 100(篇)3.FINAL篩選: 50(篇)針對第三步之50篇專利進行精讀並定義相關技術與功效4.FINAL MAPPING: 100(篇)5技術分類魚骨圖技術分類曝光吸真空對位移載結構改良設計密接曝光設計光學元件設計對位系統設計定位系統設計機構調整設計

2、光學系統設計平台模組設計搬運裝置感光物改進6功效分類魚骨圖功效分類效率提昇精準度提昇干擾改善密合度提昇提昇投射影像精準度改善曝光精度提高位置對準精度提升燈源使用效率提升光罩交換效率改善生產效率改善過熱問題改善對位易受干擾提昇投射影像精準度改善染塵率功能強化提升基板與光罩密接性改善曝光機的全面性於不同區塊進行曝光7專利技術分析技術魚骨圖MAPPING專利文件8專利技術組合分析技術分類一階AllB01密接曝光設計5B02光學系統設計15B03感光物改進7B04光學元件設計25B05機構調整設計24B06對位系統設計17B07定位系統設計7B08平台模組設計8B09結構改良設計21B10搬運裝置79

3、技術發展關聯圖(時間VS技術)102006年光學元件設計(可提供RD人員技術傳承)11專利功效分析功效魚骨圖MAPPING專利文件12專利功效組合分析技術分類一階AllC01提昇投射影像精準度8C02提高位置對準精度26C03改善曝光精度12C04提升燈源使用效率8C05提升光罩交換效率5C06改善生產效率19C07提昇投射影像精準度1C08改善染塵率14C09改善過熱問題10C10改善對位易受干擾3C11提升基板與光罩密接性10C12改善曝光機的全面性15C13於不同區塊進行曝光813功效發展關聯圖(時間VS功效)142008年提高位置對準精度功效(可供新進人員快速了解特定功效之專利組合)1

4、5專利佈局分析16歷年專利數量分析表17公司專利數量統計公司數量所佔百分比志聖工業股份有限公司1212.24%張鴻明88.16%奧克製作所股份有限公司77.14%亞多特克工程股份有限公司77.14%川寶科技股份有限公司77.14%三榮技研股份有限公司44.08%日本美可多龍股份有限公司33.06%尼康股份有限公司33.06%奇美實業股份有限公司33.06%東京威力科創股份有限公司33.06%財團法人工業技術研究院33.06%南亞科技股份有限公司22.04%陳花國,陳花明22.04%18志聖工業股份有限公司 技術功效矩陣圖 19技術功效矩陣圖 志聖v.s.張鴻明20原公司與競爭公司之技術比較21原公司與競爭公司之專利技術雷達圖比較機構調整設計光學元件設計光學系統設計平台模組設計結構改良設計定位系統設計22技術功效矩陣圖23聚焦分析(對位系統設計