光学零件磁流变抛光磁流变抛光液材料去除率表面粗糙度去除深度硕士论文

1、高效率磁流变抛光技术的研究与应用【摘要】 随着激光核聚变、航空、航天、宇宙探测、军事侦察等高科技领域的发展,人们对光学零件的表面精度要求越来越高。在常规光学玻璃加工中,研磨、抛光是最常用的制造光滑镜面的方法,但是传统的抛光技术存在着效率低、精度不能满足现代光电技术发展的要求的问题。在过去的几十年里,磁流变液已被广泛的应用于各种工程领域,其性能也逐步提高。磁流变抛光技术(MRF)正是在磁流变液发展的基础上被提出的,是一种新兴的光学表面精密加工技术。随着人们对超精密抛光技术的深入研究和超光滑检测技术水平的提高,磁流变抛光技术以其优越的性能越来越受到广泛重视。本文主要做了以下几个方面的研究工作：1.

2、研制磁流变抛光液。根据磁流变抛光的机理和特点,提出了适用于K9光学玻璃抛光的磁流变液的要求。根据这一标准,分析了磁流变抛光液各组成成分的作用原理及特性要求,由此确定了磁流变抛光液的各组成成分和配置工艺路线,成功研制了性能良好的磁流变抛光液。2.材料去除率实验研究。利用制备的磁流变抛光液进行材料去除实验,根据正交实验法以及单因素法的补充,得到了各因素对材料去除率的影响主次关系和影响规律,为材料去除的定量控制和磁流变抛光液的性能改良打下了基础.更多还原【Abstract】 With the laser fusion, aviation, aerospace, space exploration,

3、military reconnaissance and other high-tech developments in the field, requirements of people on the surface of precision optical components increasing. In conventional optical glass machining, grinding and polishing are most commonly used method of manufacturing smooth mirror. However, there are is

4、sues that the traditional low efficiency polishing technology, accuracy can not meet the requirements of modern optical technology.In the.更多还原 【关键词】 光学零件； 磁流变抛光； 磁流变抛光液； 材料去除率； 表面粗糙度； 去除深度； 【Key words】 Optical Components； Magnetorheological Finishing； MR Fluids for Finishing； Material Removal Rate；

5、Surface Roughness； Removal Depth； 摘要 5-7 ABSTRACT 7-8 目录 9-11 第一章 绪论 11-17 1.1 前言 11-12 1.2 磁流变抛光技术国内外发展及研究现状 12-15 1.3 高效率磁流变抛光技术的研究背景及意义 15 1.4 论文的主要研究内容及章节安排 15-17 第二章 磁流变抛光机理分析及其装置实现 17-24 2.1 光学零件的传统加工方法 17-19 2.2 磁流变抛光机理 19-21 2.3 磁流变抛光装置实现 21-23 2.4 本章小结 23-24 第三章 磁流变抛光液的研究 24-38 3.1 磁流变液的研究与

6、发展 24-26 3.2 磁流变抛光液的性能要求 26-27 3.3 磁流变抛光液的组成选取 27-33 3.3.1 磁敏微粒选取 27-29 3.3.2 基载液选取 29-31 3.3.3 添加剂选取 31-32 3.3.4 抛光磨粒选取 32-33 3.4 磁流变抛光液的制备工艺路线 33-34 3.5 磁流变液本构模型比较 34-37 3.5.1 Bingham粘塑性模型 34-35 3.5.2 双粘度模型 35 3.5.3 Herschel-Bulkley模型 35-36 3.5.4 其他模型研究 36-37 3.6 本章小结 37-38 第四章 磁流变抛光液的初步应用及实验 38-6

7、3 4.1 磁流变抛光的实验目的及实验条件 38-39 4.2 实验工艺参数的选定 39-40 4.3 材料去除实验及结果分析 40-57 4.3.1 实验方案设计及结果 40-42 4.3.2 对材料去除率影响的显著性水平分析 42-44 4.3.3 抛光磨粒浓度对材料去除率的影响规律分析 44-46 4.3.4 抛光磨粒粒径对材料去除率的影响规律分析 46-48 4.3.5 磁敏微粒含量对材料去除率的影响规律分析 48-50 4.3.6 材料去除深度微观形貌的初步研究 50-57 4.4 表面粗糙度实验及结果分析 57-61 4.4.1 实验方案设计及结果 57-60 4.4.2 对表面粗糙度影响的显著性水平分析 60-61 4.5 本章小结 61-63 第五章 总结与展望 63-66 5.1 研究工作总结 63-64 5.2 进一步的展望 64-66 参考文献【索购全文】Q联系Q：138113721 1030850491