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  • 2017-12-01 颁布
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【正版授权-英语版】 ISO 20263:2017 EN Microbeam analysis - Analytical electron microscopy - Method for the determination of interface position in the cross-sectional image of the layered materi_第1页
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基本信息:

  • 标准号:ISO 20263:2017 EN
  • 标准名称:微束分析 分析电子显微镜 确定层状材料横截面图像中界面位置的方法
  • 英文名称:Microbeam analysis — Analytical electron microscopy — Method for the determination of interface position in the cross-sectional image of the layered materials
  • 标准状态:现行
  • 发布日期:2017-12-01

文档简介

ISO20263:2017EN标准中的微束分析-分析电子显微镜-层状材料层界面位置确定方法,是一个关于微束分析的详细标准。它涉及到使用电子显微镜技术来分析材料,特别是层状材料。这个标准详细说明了如何通过电子显微镜图像来确定层状材料的界面位置。

首先,这个标准定义了微束分析的基本原理和操作步骤。它强调了使用微束分析技术来研究材料微观结构和性能的重要性。

其次,该标准详细说明了如何使用电子显微镜进行层状材料的界面位置测定。它强调了收集高质量的电子显微镜图像的重要性,这些图像应该清晰地显示材料界面的位置和形态。同时,该标准还介绍了如何使用特定的算法和技术来识别和定位界面。

最后,该标准还强调了数据处理和分析的重要性。它描述了如何使用适当的软件工具对电子显微镜图像进行后处理和分析,以获得准确的界面位置信息。

ISO20263:2017EN标准提供了关于微束分析技术,特别是用于层状材料界面位置确定的方法的详细指南和要求。它强调了电子显微镜在材料科学研究中的重要性和应用,并提供了用于正确和准确地分析材料微观结构和性能的实用指南。

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