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文档简介

第一章单元测试1【判断题】如果电子从价带顶跃迁到导带底时波矢k不发生变化,则具有这种能带结构的半导体称为直接禁带半导体,否则称为间接禁带半导体。()A.错B.对2【单选题】(2分)以下4种半导体中最适合于制作高温器件的是()。A.GeB.GaAsC.GaND.Si3【单选题】(2分)半导体的晶格结构式多种多样的,常见的Ge和Si材料,其原子均通过共价键四面体相互结合,属于_____结构;与Ge和Si晶格结构类似,两种不同元素形成的化合物半导体通过共价键四面体还可以形成_____和_____等两种晶格结构。()A.纤锌矿,金刚石,闪锌矿B.黄铜矿,闪锌矿,纤锌矿C.金刚石,闪锌矿,纤锌矿D.黄铜矿,金刚石,纤锌矿4【判断题】间隙原子和空位成对出现的点缺陷称为肖特基缺陷;形成原子空位而无间隙原子的点缺陷称为弗仑克耳缺陷。()A.错B.对5【单选题】(2分)从能带角度来看,锗、硅属于_________半导体,而砷化稼属于_________半导体,后者有利于光子的吸收和发射。()A.直接带隙,间接带隙B.直接带隙,直接带隙C.间接带隙,直接带隙D.间接带隙,间接带隙第二章单元测试1【单选题】(2分)薛定谔波动方程()。A.是量子力学的一个基本假定B.是有数学严格推导而得C.可用来描述粒子的产生或湮灭现象D.对粒子运动过程的描述是不可逆的2【判断题】量子力学只是描述微观世界运动规律的科学。()A.错B.对3【判断题】量子力学仅讨论在经典物理中存在的力学量。()A.错B.对4【判断题】量子力学中,针对具体量子状态,不同力学量不能同时有确定值。()A.错B.对5【判断题】量子力学的建立始于人们对光的波粒二象性的认识。()A.错B.对第三章单元测试1【单选题】(2分)锗的晶格结构和能带结构分别是()。A.闪锌矿型和间接禁带型B.闪锌矿型和直接禁带型C.金刚石型和间接禁带型D.金刚石型和直接禁带型2【单选题】(2分)与半导体相比较.绝缘体的价带电子激发到导带所需的能量()。A.比半导体的小B.与半导体的相等C.不确定D.比半导体的大3.【多选题】正确答案:AB半导体导带中的电子浓度取决于导带的()。A.状态密度B.费米分布函数C.禁带宽度D.电子的有效质量4【判断题】与半导体相比,绝缘体的价带电子激发到导带所需要的能量比半导体的大。()A.错B.对5【判断题】砷化镓是直接能隙半导体,硅和锗是间接能隙半导体。()A.对B.错第四章单元测试1【单选题】(2分)如果一半导体的导带中发现电子的几率为零.那么该半导体必定()。A.不含任何杂质B.不含施主杂质C.处于绝对零度D.不含受主杂质2【单选题】(2分)对于只含一种杂质的非简并n型半导体.费米能级EF随温度上升而()。A.经过一个极大值趋近EiB.单调上升C.单调下降D.经过一个极小值趋近Ei3【单选题】(2分)把磷化镓在氮气氛中退火.会有氮取代部分的磷.这会在磷化镓中出现()。A.改变禁带宽度B.产生复合中心C.产生空穴陷阱D.产生等电子陷阱4【单选题】(2分)杂质对于半导体导电性能有很大影响.下面哪两种杂质分别掺杂在硅中能显著地提高硅的导电性能()。A.硼或磷B.金或银C.硼或铁D.铁或铜5【单选题】(2分)若某半导体导带中发现电子的几率为零,则该半导体必定()。A.不含受主杂质B.不含任何杂质C.不含施主杂质D.处于绝对零度第五章单元测试1【单选题】(2分)有效复合中心的能级必靠近()A.导带B.禁带中部C.费米能级D.价带2.【多选题】正确答案:ABCDEF半导体载流子在输运过程中,会受到各种散射机构的散射,主要散射机构有()。A.中性杂质散射B.位错散射C.等价能谷间散射D.晶格振动散射E.电离杂质散射F.载流子间的散射3【单选题】(2分)半导体中由于浓度差引起的载流子的运动为()。A.扩散运动B.共有化运动C.热运动D.漂移运动4【单选题】(2分)载流子在电场作用下的运动为()。A.热运动B.共有化运动C.漂移运动D.扩散运动5【单选题】(2分)半导体中载流子扩散系数的大小决定于其中的()。A.复合机构B.散射机构C.晶体结构D.能带结构第六章单元测试1【单选题】(2分)对于大注入下的直接辐射复合,非平衡载流子的寿命与()。A.平衡载流子浓度成正比B.非平衡载流子浓度成反比C.非平衡载流子浓度成正比D.平衡载流子浓度成反比2【判断题】一块半导体材料,光照在材料中会产生非平衡载流子,其中非平衡载流子的寿命为τ。若光照忽然停止,经过τ时间后,非平衡载流子全部消失。()A.错B.对3【判断题】在一定温度下,光照在半导体材料中会产生非平衡载流子,光照稳定后,由于电子空穴对的产生率与复合率相等,所以称为热平衡状态,有统一的费米能级。()A.对B.错4【单选题】(2分)电中性是内建电场产生的原因。只要破坏了电中性,就会产生扩散与漂移电流并存的情形,()会导致内建电场。A.载流子浓度不均匀B.半导体受外界的影响程度不均C.选项ABC都是D.非平衡载流子的注入第七章单元测试1【判断题】强电场效应会使半导体器件的载流子速度达到饱和,还可能使载流子成为热载流子,影响器件性能。半导体器件的热载流子由于具备高能量,常常会导致载流子进入介质层;热载流子可与晶格发生碰撞电离,利用这一原理可以制备雪崩二极管器件。()A.对B.错2【判断题】太阳能电池本身就是一个pn结。()A.对B.错3【单选题】(2分)影响pn结内建电势差的因素有__________等参数,在相同条件下半导体材料Si、Ge和GaAs中__________的内建电势差VD最大。()A.掺杂浓度、温度、材料,GaAsB.掺杂浓度、材料,SiC.掺杂浓度、温度、PN结的面积,GaAsD.掺杂浓度、温度,Ge4【单选题】(2分)太阳能电池工作在pn结电流电压特性曲线的第()象限。A.IB.IIC.IIID.IV5.【多选题】正确答案:BC反向偏置pn结,当电压升高到某值时,反向电流急剧增加,这种现象称为pn结击穿,主要的击穿机理有()。A.电击穿B.隧道击穿C.雪崩击穿D.热击穿第八章单元测试1【单选题】(2分)当pn结作为光电二极管使用时,经常加反向偏置作为电流源,这时它工作在I-V曲线的第__象限。()A.一B.四C.二D.三2【判断题】强电场效应会使半导体器件的载流子速度达到饱和,还可能使载流子成为热载流子,影响器件性能。半导体器件的热载流子由于具备高能量,常常会导致载流子进入介质层;热载流子可与晶格发生碰撞电离,利用这一原理可以制备雪崩二极管器件。()A.错B.对3【判断题】PIN光电二极管I区空间电荷区较大,瞬时光电流会比普通光电流大很多。()A.对B.错4【判断题】在pn结中,p区的多子是空穴,少子是电子。()A.错B.对5【判断题】光探测器在pn结电流电压特性曲线中的工作区间与太阳能电池相同。()A.错B.对第九章单元测试1【单选题】(2分)金属和半导体接触分为()。A.整流的肖特基接触和非整流的欧姆接触B.整流的肖特基接触和整流的欧姆接触C.非整流的肖特基接触和整流的欧姆接触D.非整流的肖特基接触和非整流的欧姆接触2【单选题】(2分)MIS结构发生多子积累时,表面的导电类型与体材料的类型()。A.不同B.相同C.无关3【单选题】(2分)如图所示的P型半导体MIS结构的C-V特性图中,AB段代表______,CD段代表______。()A.多子积累;多子耗尽;B.多子积累;少子反型;C.平带状态;多子耗尽;D.多子耗尽;多子积累;4【单选题】(2分)金属和半导体接触分为()。A.非整流的肖特基接触和非整流的欧姆接触B.整流的肖特基接触和非整流的欧姆接触C.整流的肖特基接触和整流的欧姆接触D.非整流的肖特基接触和整流的欧姆接触第十章单元测试1【判断题】增强型场效应晶体管在栅极不加偏压时,沟道处于导通状态。()A.对B.错2【单选题】(2分)制造晶体管一般是在高杂质浓度的n型衬底上外延一层n型的外延层,再在外延层中扩散硼、磷而成。n型硅单晶衬底是掺锑的,锑的电离能为0.039eV,室温下时的EF位于导带底下方0.026eV处,半导体的状态为()。A.非简并B.强简并C.简并D.弱简并3【单选题】(2分)结型场效应晶体管包括下面哪种器件()。A.T-FETB.Fin-FETC.MESFETD.IGBT4【单选题】(2分)MESFET场效应晶体管的M表示()。A.金属栅B.漏区C.源区D.半导体5.【多选题】正确答案:ABCD理想的晶体管特性有()。A.在放大区特性曲线间的间隔是均匀的B.零漏电流关断状态下阻断电压C.增益与正向电流和电压无关D.零压降下传导电流第十一章单元测试1【判断题】光电探测器的灵敏度主要取决于其暗电流大小。()A.错B.对2【单选题】(2分)一般半导体器件使用温度不能超过一定的温度.这是因为载流子浓度主要来源于_________,而将_________忽略不计。()A.杂质电离,本征激发B.本征激发,受主电离C.施主电离,本征激发D.本征激发,杂质电离3【单选题】(2分)在光电转换过程中,硅材料一般不如砷化镓量子效率高,因其()。A.禁带是间接跃迁型B.禁带是直接跃迁型C.禁带较宽D.禁带较窄4.【多选题】正确答

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