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文档简介

ICS17.180

CCSN30

中华人民共和国国家标准

GB/T26332.1—XXXX

代替GB/T26332.1—2018

光学和光子学光学薄膜

第1部分:术语

Opticsandphotonics-Opticalcoatings-

Part1:Vocabulary

(ISO9211-1:2018,MOD)

(征求意见稿)

XXXX-XX-XX发布XXXX-XX-XX实施

GB/T26332.1-××××

前言

本文件按照GB/T1.1-2020《标准化工作导则第1部分:标准化文件的结构和起草规则》的规定起

草。

本文件是GB/T26332《光学和光子学光学薄膜》的第1部分。GB/T26332已经发布了以下部分:

——第1部分:术语;

——第2部分:光学特性;

——第3部分:环境适应性;

——第4部分:规定的试验方法;

——第5部分:减反射膜基本要求;

——第6部分:反射膜基本要求;

——第7部分:中性分束膜基本要求;

——第8部分:激光光学薄膜基本要求。

本文件代替GB/T26332.1—2018《光学和光子学光学薄膜第1部分:定义》,除结构调整和编辑性

修改外,主要技术变化如下:

——更改了“光谱透射比”(见3.1.2.1)、“光谱反射比”(见3.1.2.2)、“光谱吸收比”(见

3.1.2.3)、“椭圆偏振光”(见3.1.3.2)、“圆偏振光”(见3.1.3.3)、“随机偏振光”

(见3.1.3.4)、“长波通分色膜”(见3.2.6.2)、“短波通分色膜”(见3.2.6.3)等术语

的定义表述;

——为术语“入射角”(见3.1.2.6)增加了表述符号Θ;

——增加了“高反射膜”(见3.2.1.2)、“部分反射膜”等术语;

本文件修改采用ISO9211-1:2018《光学和光子学光学薄膜第1部分:术语》。

本文件与ISO9211-1:2018的技术差异及其原因如下:

——在“范围”中,将术语分类由4类更正为3类(见第1章);

——在“术语和定义”的引导语中删除了关于维护ISO和IEC的“标准化术语数据库”内容(见第3

章),因为我国的国家标准中不涉及维护ISO和IEC的“标准化术语数据库”内容;

——将“元件和基底的表面镀膜”(见3.1.1.1)对应英文名称中的“treatment”更改为“coating”,

以贴合语境、避免引起理解歧义;

——对“光谱透射比”的“注2”(见3.1.2.1)、“光谱反射比”的“注”(见3.1.2.2)和“光谱吸

收比”的“注”(见3.1.2.3)进行了重新编辑,以适应行业应用习惯;

——增加了“补充说明”条文(见3.2.11),以阐明光学薄膜“主要功能”和“次要功能”的标示

关系,同时明确提及“表1”;

——增加了“薄膜缺陷示例”条文(见3.3.5),以明确薄膜缺陷测试方法,同时明确提及“附录A”。

本文件做了下列编辑性改动:

——在“椭圆偏振光”(见3.1.3.2)、“圆偏振光”(见3.1.3.3)、“随机偏振光”(见3.1.3.4)

对应英文名称中增加“radiation”字样,以修正ISO标准中的错误;

——在附录A中,去除了“针孔”缺陷图片(见图A.1)中疑似“节瘤”缺陷的部分,避免引起理解

歧义;

——在附录A中,将代表“喷溅点”的缺陷图片(见图A.2)与代表“微粒”的缺陷图片(见图A.3)

进行了互换,以更正它们之间的对应关系;

本文件由中国机械工业联合会提出。

II

GB/T26332.1-××××

本文件由全国光学和光子学标准化技术委员会(SAC/TC103)归口。

本文件起草单位:沈阳仪表科学研究院有限公司、……

本文件主要起草人:XXXX……

本文件所替代文件的历次版本发布情况为:

——GB/T26332.1—2010、GB/T26332.1—2018;

——本次为第三次修订。

III

GB/T26332.1-××××

引言

光学薄膜元件广泛地应用于与光学和光子学相关的各类科学技术领域中,用于实现反射、分束、滤

光等不同的光学功能,是光学系统中不可替代的重要组成部分。随着科技的不断进步,光学薄膜元件向

着性能要求更高、需求种类更加多样化的方向发展。因此有必要针对光学薄膜技术,专门制定一套技术

内容与国际接轨的国家标准。这既有利于推动我国光学薄膜行业规范有序发展,又能更好地促进相关领

域的贸易、交流和技术合作。GB/T26332《光学和光子学光学薄膜》就是在这种背景下起草制定的。

GB/T26332采标ISO9211系列,拟由八个部分构成:

——第1部分:术语。目的在于规范与光学薄膜相关的通用术语的技术表述。

——第2部分:光学特性。目的在于规范光学薄膜各类光谱特性的描述方式。

——第3部分:环境适应性。目的在于确立考察光学薄膜元件环境适应性所适用的环境试验方法。

——第4部分:规定的试验方法。目的在于补充规定几种环境试验方法的详细技术要求,第3部分中

引用了其中的试验方法。

——第5部分:减反射膜基本要求。目的在于规定常用减反射膜的基本要求。

——第6部分:反射膜基本要求。目的在于规定常用金属反射膜的基本要求。

——第7部分:中性分束膜基本要求。目的在于规定常用中性分束膜的基本要求。

——第8部分:激光光学薄膜基本要求。目的在于规定常用激光光学薄膜的基本要求。

本文件规定的术语是GB/T26332系列标准的基础,在使用和参考本文件时,请注意阅读以下说明:

a)镀膜表面的光学特性可以用分光光度值来描述,这些特性与电磁波传播的能量(辐射或发光)

相关,并为波长、入射角和偏振态的函数。另外,散射也是影响镀膜表面光学特性的因素。

注1:在表述与光谱相关的函数时,通常将波长λ写入圆括号内作为符号的一部分来表示。

注2:波长(휆)可用波数(𝜎)或光子能量(ℎ휈)来代替。ℎ=普朗克常数;휈=频率。建议波长的单位为纳米(nm)或微米(μm),

波数的单位为厘米的倒数(cm-1),光子能量的单位为电子伏特(eV)。

b)当入射角不为零时,薄膜的光学特性与入射光的偏振态有关,并且会影响出射光的偏振态。如

有必要,可说明电矢量的方向与入射面之间的关系。

c)应用于视觉领域的光学表面可用色度参数来表征。这些参数取决于参考的照明源、观测者以及

表面的光学特性。色度参数不属于本文件。

IV

GB/T26332.1-××××

光学和光子学光学薄膜

第1部分:术语

1范围

本文件界定了光学薄膜相关术语。术语分为3类:基本术语和定义、按功能定义薄膜、常见的薄膜

缺陷定义。

本文件适用于光学元器件及基底的表面镀膜,给出了光学薄膜技术指标的标准表述形式,定义了通

用特性和必要的测试和测量方法,但不拟用于规定镀制方法。

本文件不适用于眼科光学(眼镜)的表面镀膜。

2规范性引用文件

下列文件中的内容通过文中的规范性引用而构成本文件必不可少的条款。其中,注日期的引用文件,

仅该日期对应的版本适用于本文件;不注日期的引用文件,其最新版本(包括所有的修改单)适用于本

文件。

ISO11145,光学和光子学—激光器和与激光有关的设备—词汇和符号(Opticsandphotonics–Lasers

andlaser-relatedequipment–Vocabularyandsymbols)

ISO80000-7,量和单位—第7部分:光和辐射(Quantitiesandunits–Part7:Lightandradiation)

3术语和定义

ISO11145和ISO80000-7中界定的以及下列术语和定义适用于本文件。

3.1基本术语和定义

3.1.1通用术语

3.1.1.1

元件和基底的表面镀膜surfacecoatingofcomponentsandsubstrates

使用一种或多种材料,在元件表面镀膜,用以改变元件原表面的光学、物理或化学性质。

注:基底被视为是几何完美和光学均质的。在实际操作中,将基底和表面的薄膜作为一个整体进行检验测量。

3.1.1.2

入射介质incidentmedium

光射入薄膜前经过的介质。

3.1.1.3

出射介质emergentmedium

光射出薄膜后进入的介质。

注:基底除了作为薄膜的机械支撑基底,也是薄膜的出射介质和(或)入射介质。

3.1.1.4

通光孔径clearaperture

符合要求的表面区域。

3.1.1.5

边缘rim

通光孔径之外的区域。

3.1.1.6

1

GB/T26332.1-××××

测试样品witnesssample

代表实际镀膜元件,用于光谱检测和环境试验的样品。

注:测试样品的采样细则(例如:材料、表面质地、尺寸、每批的数量、在镀膜室的位置等)以供求双方的协议

为准。

3.1.2镀膜表面的光学特性类术语

3.1.2.1

光谱透射比spectraltransmittance

휏(휆)

透射的与入射的辐射通量或光通量之比。

注1:光谱透射比与光谱光密度퐷(휆)的关系式为:휏(휆)=10−퐷(휆)。

注2:光谱透射比的百分比表述形式称为光谱透射率,可简称为透射率,用符号푇(휆)表示。(此处考虑行业习惯

等,修改了翻译)

[来源:ISO80000‑7,7-31.5,有修改]

3.1.2.2

光谱反射比spectralreflectance

𝜌(휆)

反射的与入射的辐射通量或光通量之比。

注:光谱反射比的百分比表述形式称为光谱反射率,可简称为反射率,用符号푅(휆)表示。(此处考虑行业习惯等,修

改了翻译)

[来源:ISO80000‑7,7-31.3,有修改]

3.1.2.3

光谱吸收比spectralabsorptance

훼(휆)

吸收的与入射的辐射通量或光通量之比。

注:光谱吸收比的百分比表述形式称为光谱吸收率,可简称为吸收率,用符号퐴(휆)表示。(此处考虑行业习惯等,

修改了翻译)

[来源:ISO80000‑7,7-31.1,有修改]

3.1.2.4

光谱散射spectralscattering

在某一表面或某一介质的作用下,一束光的传播由一个方向变为多个方向,光的空间分布发生了变

化,而组成这束光的任一单色光频率不发生改变。

注1:3.1.2.1~3.1.2.4中定义的物理量之间的关系见公式(1)~(3):

1=휏(휆)+𝜌(휆)+훼(휆)……………(1)

其中:

휏(휆)=휏푟(휆)+휏푑(휆)……………(2)

𝜌(휆)=𝜌푟(휆)+𝜌푑(휆)……………(3)

式中:

휏푟(휆)——理想镜面条件下,透射方向上的光谱透射比;

𝜌푟(휆)——理想镜面条件下,反射方向上的光谱反射比;

휏푑(휆)——正向散射的光谱透射比;

𝜌푑(휆)——反向散射的光谱反射比。

注2:上述值也可表示为在波长范围휆1~휆2内的平均值,下式以光谱透射比的平均值휏푎푣푒为例进行说明:

∫2휏(휆)푑휆푚푚

휆1∑푖=1휏(휆푖)훥휆∑푖=1휏(휆푖)

휏푎푣푒(휆1~휆2)=≈=…………………(4)

휆2−휆1휆2−휆1푚

2

GB/T26332.1-××××

式中,Δ휆见公式(5):

Δ휆=(휆2−휆1)/푚…………………(5)

3.1.2.5

折射率refractiveindex

푛(휆)

光在真空中的传播速率与在介质中的传播速率之比。

3.1.2.6

入射角angleofincidence

Θ

入射光线与入射表面法线的夹角。

3.1.2.7

入射面planeofincidence

入射光线与入射表面法线所构成的平面。

3.1.3偏振术语

3.1.3.1

线偏振光linearlypolarizedradiation

电矢量振动方向保持恒定的偏振光。

注1:s-偏振是指电矢量与入射面垂直的线偏振光。

注2:p-偏振是指电矢量与入射面平行的线偏振光。

3.1.3.2

椭圆偏振光ellipticalpolarizationradiation

在均匀光学介质中,具有以下电磁辐射特性的偏振光:电矢量以与电磁辐射相同的频率围绕传播方

向旋转,且电矢量的振幅呈周期性振荡。

注:电矢量的末端轨迹为一个椭圆。

[来源:ISO11145:2018,3.12.3]

3.1.3.3

圆偏振光circularpolarizationradiation

在均匀光学介质中,具有以下电磁辐射特性的偏振光:电矢量以与电磁辐射相同的频率围绕传播方

向旋转,且电矢量的振幅保持恒定。

[来源:ISO11145:2018,3.12.2]

3.1.3.4

随机偏振光randompolarizationradiation

一束偏振光是由两种线偏振光构成的,这两种线偏振光的偏振方向正交且振幅随时间彼此随机变

化。

[来源:ISO11145:2018,3.12.7]

3.1.3.5

非偏振光unpolarizedradiation

具有以下电磁辐射特性的光:其电矢量可分解成为相互垂直的具有不同相位差的任意两个电矢量,

这两个电矢量的平均振幅相同,但其相位差是完全随机变化的。

3.1.4相位相关术语

3.1.4.1

相移phasechange

3

GB/T26332.1-××××

d훷

某一电磁波和参考电磁波之间相位变化对应的角度差:d훷=훷−훷0。

电磁波的电矢量可用公式(6)表示:

2휋휈푡

퐸=퐴푐표푠(−훷)…………………(6)

式中:

퐸——电矢量;

퐴——振幅;

휈——在介质中的传播速率;

푡——时间;

휆——在介质中的波长;

훷——相位。

电磁波在空间中某一点的电矢量可用公式(7)来表示:

2휋휈푡

퐸=퐴푐표푠(−훷)…………………(7)

0휆0

3.1.4.2

相位延迟phaseretardation

Δ훷

电矢量的p分量和s分量的相位差:Δ훷=d훷푝−d훷푠。

其中:

d훷푝——p分量的相位延迟;

d훷푠——s分量的相位延迟。

3.2按主要功能命名薄膜

3.2.1反射功能

3.2.1.1

反射膜RE

在指定波长范围内,能增加光学表面反射率的薄膜。

3.2.1.2

高反射膜HR

在指定波长范围内,能使光学表面产生高反射率而不限定透射率的薄膜。

3.2.1.3

部分反射膜PR

在指定波长范围内,能使光学表面产生规定(部分)的反射率和透射率的薄膜。

3.2.2减反射功能Antireflectingfunction

3.2.2.1

减反射膜AR

在指定波长范围内,能减小光学表面的反射率且通常增加透射率的薄膜。

3.2.3分束功能

3.2.3.1

分束膜BS

把入射光分成两束光的薄膜,一束透射,另一束反射,在指定波长范围内能量分配无波长选择性。

3.2.4衰减功能

4

GB/T26332.1-××××

3.2.4.1

衰减膜AT

在指定波长范围内,无波长选择性地减小透射率的薄膜。

3.2.5带通或带阻滤光功能

3.2.5.1

滤光膜FI

在指定波长范围内,对各波长实现选择性透射的薄膜。

3.2.5.2

带通滤光膜FI-BP

改变透射性能,允许指定波长范围的光透过的薄膜。

注:如果没有歧义,可以使用代号“BP”。

3.2.5.3

带阻滤光膜FI-BR

改变透射性能,阻止指定波长范围的光透射的薄膜。

注:如果没有歧义,可以使用代号“BR”。

3.2.6分色或合色功能

3.2.6.1

分色膜SC

通过透射或反射,将入射光分为两束或多束的薄膜,每束光覆盖一个特定的光谱区域。

注:逆向光路可把不同光谱区域的光合并。

3.2.6.2

长波通分色膜SC-LP(Longpass)

长波区域为光谱透射区域,短波区域为光谱截止区域的分色膜。

注:如果没有歧义,可以使用代号“LP”。

3.2.6.3

短波通分色膜SC-SP(Shortpass)

短波区域为光谱透射区域,长波区域为光谱截止区域的分色膜。

注:如果没有歧义,可以使用代号“SP”。

3.2.7偏振功能

3.2.7.1

偏振膜PO

在指定波长范围内,能确定出射光偏振态的薄膜。

3.2.8相移功能

3.2.8.1

相位改变膜PC

在指定波长范围内,能改变出射光相对入射光的相移,和(或)能改变电矢量s和p分量之间相位

延迟的薄膜。

3.2.9吸收功能

3.2.9.1

吸收膜AB

在指定波长范围内,对入射光具有特定吸收率的薄膜。

5

GB/T26332.1-××××

3.2.10附属功能

3.2.10.1

附属功能膜SU

提供非光学特性的薄膜。

注:这种功能通常与光学功能结合使用。

3.2.11补充说明

按功能定义薄膜,即按薄膜对基底表面特性所实现的主要调制功能来定义薄膜。表1汇总了薄膜能

够实现的各类主要功能。某种薄膜在实现一种主要功能的同时,也可能具有其他一种或几种次要功能,

这些次要功能相对主要功能的重要性也应当标明。

表1按功能定义薄膜

主要功能代号定义应用举例

在指定波长范围内,能增加光学表面反

RE金属反射镜

射率的薄膜

在指定波长范围内,能使光学表面产生

HR激光反射镜

反射reflecting高反射率而不限定透射率的薄膜

在指定波长范围内,能使光学表面产生

PR外耦合器,光腔衰荡反射镜

规定(部分)的反射率和透射率的薄膜

在指定波长范围内,能减小光学表面的

减反射antireflectingAR镀减反射膜的镜头

反射率且通常增加透射率的薄膜

把入射光分成两束光的薄膜,一束透

分束beamsplittingBS射,另一束反射,在指定波长范围内能中性分束镜

量分配无波长选择性

在指定波长范围内,无波长选择性地减

衰减attenuatingAT中性密度滤光片

小透射率的薄膜

滤光filtering

FI在指定波长范围内,对各波长实现选择激光线滤光片

a)带通BandpassFI-BP

性透射的薄膜拉曼陷波滤光片

b)带阻BandrejectionFI-BRa

分色或合色SC通过透射或反射,将入射光分为两束或二向分色镜

selectingorcombining多束的薄膜,每束光覆盖一个特定的光合色镜

a)长波通LongpassSC-LP谱区域。逆向光路可把不同光谱区域的冷光镜

b)短波通ShortpassSC-SPb光合并近红外截止滤光片

在指定波长范围内,能确定出射光偏振偏振片

偏振polarizingPO

态的薄膜消偏振分光镜

在指定波长范围内,能改变出射光相对

相移phasechangingPC入射光的相移,和(或者)能改变电矢相位延迟器

量s和p分量之间相位延迟的薄膜

在指定波长范围内,对入射光具有特定光陷阱

吸收absorbingAB

吸收率的薄膜紫外线吸收器

6

GB/T26332.1-××××

主要功能代号定义应用举例

附属功能提供非光学特性的薄膜。这种功能通常电导体

SU

supplementaryfunction与光学功能结合使用化学或机械防护

a如果没有歧义,可以使用代号“BP”或“BR”。

b如果没有歧义,可以使用代号“LP”或“SP”。

3.3常见薄膜缺陷相关术语

3.3.1点缺陷

3.3.1.1

针孔pinhole

薄膜内部非常小的孔洞。

3.3.1.2

喷溅点spatter

在镀膜过程中,小块薄膜材料飞溅到基底表面并附着在基底上所造成的缺陷。

3.3.1.3

微粒particle

薄膜表面或内部的小碎块物质。

3.3.1.4

细微灰尘finedust

薄膜表面或内部的若干(通常是许多)微小物质。

3.3.1.5

节瘤nodule

薄膜内微小的结节状缺陷(通常是薄膜材料)。

3.3.2线缺陷

3.3.2.1

划痕scratch

表面像被利器或粗糙器械所伤的斑痕或裂痕。

注:各种意外原因都可能使光学表面产生不同程度的划痕。

3.3.2.2

发状划痕hairlinescratch

非常细且光滑的划痕,通常是直的。

注:发状划痕的特征:形状为直的,单个分布。其它类划痕可呈曲线或直线曲线复合形,各划痕间可相连或不相连。

3.3.2.3

断裂crack

薄膜内出现的断裂状缺陷。

3.3.2.4

裂纹crazing

薄膜内部的裂纹状缺陷(通常是由于薄膜材料热应力不同造成的)。

3.3.3面缺陷

3.3.3.1

7

GB/T26332.1-××××

色斑stain

表面上局部颜色不一致的补丁状斑点(例如由化学反应引起的变色)。

3.3.3.2

磨损abrasion

与另一表面摩擦引起的表面损伤。

3.3.3.3

纤维纹lintmark

残留在光学表面的织物纤维或纸纤维。

3.3.3.4

薄膜空缺void

在镀膜区域内存在的小块未镀膜区域。

3.3.4体缺陷

3.3.4.1

起皮peeling

源自镀膜区域外围,薄膜发生的局部分离。

3.3.4.2

剥落flaking

源自镀膜区域内部,薄膜发生的局部分离。

3.3.4.3

起泡blister;bubble

薄膜局部凸起,形同薄膜底部或内部含有包含物将薄膜顶起。

3.3.5薄膜缺陷示例

薄膜缺陷的示例见附录A。ISO14997中规定了表面缺陷的测试方法。

8

GB/T26332.1-××××

附录A

(资料性)

常见薄膜缺陷的显微照片

本附录给出了常见薄膜缺陷的显微照片(见图A.1~图A.16)。

图A.1针孔

9

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图A.2喷溅点

图A.3微粒

10

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图A.4细微灰尘

图A.5节瘤

11

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图A.6划痕

图A.7发状划痕

12

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图A.8断裂

图A.9裂纹

13

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图A.10色斑

图A.11磨损

14

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图A.12纤维纹

图A.13薄膜空缺

15

GB/T26332.1-××××

图A.14起皮

图A.15剥落

16

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图A.16起泡

17

GB/T26332.1-××××

参考文献

[1]ISO6286,Molecularabsorptionspectrometry-Vocabulary-General-Apparatus

[2]ISO11145:2018,Opticsandphotonics–Lasersandlaser-relatedequipment–Vocabularyand

symbols

[3]ISO14997,Opticsandphotonics-Testmethodsforsurfaceimperfectionsofopticalelements

18

GB/T26332.1-××××

索引

汉语拼音索引

M

B磨损3.3.3.2

薄膜空缺3.3.3.4P

边缘3.1.1.5喷溅点3.3.1.2

剥落3.3.4.2偏振膜3.2.7.1

部分反射膜3.2.1.3Q

C起泡3.3.4.3

测试样品3.1.1.6起皮3.3.4.1

出射介质3.1.1.3R

长波通分色膜3.2.6.2入射角3.1.2.6

D入射介质3.1.1.2

带通滤光膜3.2.5.2入射面3.1.2.7

带阻滤光膜3.2.5.3S

短波通分色膜3.2.6.3色斑3.3.3.1

断裂3.3.2.3衰减膜3.2.4.1

F随机偏振光3.1.3.4

发状划痕3.3.2.2T

反射膜3.2.1.1通光孔径3.1.1.4

非偏振光3.1.3.5椭圆偏振光3.1.3.2

分色膜3.2.6.1W

分束膜3.2.3.1微粒3.3.1.3

附属功能膜3.2.10.1X

吸收膜

G3.2.9.1

高反射膜3.2.1.2细微灰尘3.3.1.4

光谱反射比3.1.2.2纤维纹3.3.3.3

光谱散射3.1.2.4线偏振光3.1.3.1

光谱透射比3.1.2.1相位改变膜3.2.8.1

光谱吸收比3.1.2.3相位延迟3.1.4.2

H相移3.1.4.1

划痕3.3.2.1Y

J元件和基底的表面镀膜3.1.1.1

减反射膜3.2.2.1圆偏振光3.1.3.3

节瘤3.3.1.5Z

L折射率3.1.2.5

裂纹3.3.2.4针孔3.3.1.1

滤光膜3.2.5.1

19

GB/T26332.1-××××

英文对应词索引

A

AB3.2.9.1

abrasion3.3.3.2

angleofincidence3.1.2.6

AR3.2.2.1

AT3.2.4.1

B

blister;bubble3.3.4.3

BS3.2.3.1

C

circularpolarizationradiation3.1.3.3

clearaperture3.1.1.4

crack3.3.2.3

crazing3.3.2.4

E

ellipticalpolarizationradiation3.1.3.2

emergentmedium3.1.1.3

F

FI3.2.5.1

FI-BP3.2.5.2

FI-BR3.2.5.3

finedust3.3.1.4

flaking3.3.4.2

H

hairlinescratch3.3.2.2

HR3.2.1.2

I

incidentmedium3.1.1.2

linearlypolarizedradiation3.1.3.1

lintmark3.3.3.3

N

nodule3.3.1.5

P

particle3.3.1.3

PC3.2.8.1

peeling3.3.4.1

phasechange3.1.4.1

phaseretardation3.1.4.2

pinhole3.3.1.1

planeofincidence3.1.2.7

PO3.2.7.1

PR3.2.1.3

R

2

GB/T26332.1-××××

randompolarizationradiation3.1.3.4

RE3.2.1.1

refractiveindex3.1.2.5

rim3.1.1.5

S

SC3.2.6.1

SC-LP(Longpass)3.2.6.2

scratch3.3.2.1

SC-SP(Shortpass)3.2.6.3

spatter3.3.1.2

spectralabsorptance3.1.2.3

spectralreflectance3.1.2.2

spectralscattering3.1.2.4

spectraltransmittance3.1.2.1

stain3.3.3.1

SU3.2.10.1

surfacecoatingofcomponentsandsubstrates3.1.1.1

U

unpolarizedradiation3.1.3.5

V

void3.3.3.4

W

witnesssample3.1.1.6

3

GB/T26332.1-××××

目次

前言..............................................................................II

引言..............................................................................IV

1范围..............................................................................1

2规范性引用文件....................................................................1

3术语和定义........................................................................1

附录A(资料性)常见薄膜缺陷的显微照片..............................................9

参考文献............................................................................18

索引..............................................................................19

I

GB/T26332.1-××××

光学和光子学光学薄膜

第1部分:术语

1范围

本文件界定了光学薄膜相关术语。术语分为3类:基本术语和定义、按功能定义薄膜、常见的薄膜

缺陷定义。

本文件适用于光学元器件及基底的表面镀膜,给出了光学薄膜技术指标的标准表述形式,定义了通

用特性和必要的测试和测量方法,但不拟用于规定镀制方法。

本文件不适用于眼科光学(眼镜)的表面镀膜。

2规范性引用文件

下列文件中的内容通过文中的规范性引用而构成本文件必不可少的条款。其中,注日期的引用文件,

仅该日期对应的版本适用于本文件;不注日期的引用文件,其最新版本(包括所有的修改单)适用于本

文件。

ISO11145,光学和光子学—激光器和与激光有关的设备—词汇和符号(Opticsandphotonics–Lasers

andlaser-relatedequipment–Vocabularyandsymbols)

ISO80000-7,量和单位—第7部分:光和辐射(Quantitiesandunits–Part7:Lightandradiation)

3术语和定义

ISO11145和ISO80000-7中界定的以及下列术语和定义适用于本文件。

3.1基本术语和定义

3.1.1通用术语

3.1.1.1

元件和基底的表面镀膜surfacecoatingofcomponentsandsubstrates

使用一种或多种材料,在元件表面镀膜,用以改变元件原表面的光学、物理或化学性质。

注:基底被视为是几何完美和光学均质的。在实际操作中,将基底和表面的薄膜作为一个整体进行检验测量。

3.1.1.2

入射介质incidentmedium

光射入薄膜前经过的介质。

3.1.1.3

出射介质emergentmedium

光射出薄膜后进入的介质。

注:基底除了作为薄膜的机械支撑基底,也是薄膜的出射介质和(或)入射介质。

3.1.1.4

通光孔径clearaperture

符合要求的表面区域。

3.1.1.5

边缘rim

通光孔径之外的区域。

3.1.1.6

1

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