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文档简介

71.100.40CCS

G73 T/QGCML

277—2022氢氰酸聚合物的清洗试剂及方法Cleaning

acid

全国城市工业品贸易中心联合会 发

布T/QGCML

—2022 前言

.................................................................................

II1

...............................................................................

12 规范性引用文件

.....................................................................

13 术语和定义

.........................................................................

14 清洗机理

...........................................................................

15 清洗剂成分及要求

...................................................................

16

...............................................................................

17 清洗一般流程

.......................................................................

28 清洗剂清洗应用

.....................................................................

2T/QGCML

—2022 本文件按照GB/T

—《标准化工作导则 第1部分:标准化文件的结构和起草规则》的规定起草。请注意本文件的某些内容可能涉及专利。本文件的发布机构不承担识别专利的责任。本文件由全国城市工业品贸易中心联合会提出并归口。本文件主要起草单位:华阳集团碳基合成材料研发中心、华阳新材料科技集团有限公司。本文件参与起草单位:华阳集团(山西)碳基合成新材料有限责任公司。谷成锡、姚俊杰、童明全、袁秋华、韩艳辉、蔺玄敏、王晓亮、伊帆、侯晓东、王雪芹。IIT/QGCML

—20221 范围清洗一般流程、清洗剂清洗应用。本文件适用于氢氰酸聚合物的清洗试剂的配制及使用。2 规范性引用文件文件。GB

8978-1996

污水综合排放标准GB/T

仪器分析用高纯水规格及试验方法HG/T

2387-2007

工业设备化学清洗质量标准3 术语和定义HG/T

2387-2007界定的以及下列术语和定义适用于本文件。3.1氢氰酸聚合物

acid

polymer氢氰酸发生聚合后产生的黑色粘稠物。4 清洗机理物。5 清洗剂成分及要求以表面活性剂为主剂,辅以碱助剂和分散剂,由以下浓度的组分构成,其中去离子水符合GB/T

要求:——烷基酚聚氧乙烯醚

;——十二醇聚氧乙烯醚硫酸钠:1.6%;——脂肪醇聚氧乙烯醚

;——碱助剂

1.0~2.0%;2:1NaOHNa2CO31.5%——硅酸钠

0.4%;——余量为去离子水。6 检验6.1 除垢率检验设备除垢率检验方法符合HG/T

2387-2007规定。6.2 腐蚀率测定T/QGCML

—2022设备腐蚀率检验方法符合HG/T

2387-2007规定。7 清洗一般流程使用清洗试剂清洗氢氰酸聚合物的一般流程见图1。图1 清洗一般流程8 清洗剂清洗应用8.1 清洗要求——清洗剂按

5

中配方配制;——清洗温度:清洗温度为

℃~70℃;——废液排放:清洗过程中的废液不允许直接排入水体中,应处理后排入污水处理系统,具体指标符合

GB

8978-1996

的要求。8.2 清洗程序以精馏塔清洗为例,清洗流程如图2所示:T/QGCML

—2022图2 清洗流程图a)

需关闭物料进入精馏塔的管路阀门,隔离精馏塔后将清洗系统通过管线接入设备;b)

将清洗剂置于储液槽内,通过循环泵输送至精馏塔内,直至充满冷凝器;c)

利用塔釜蒸汽将清洗剂加热至

70℃,浸泡

1~3

小时,利用循环泵进行反复循环冲洗;d)

每隔

1

小时从取样口取样并化验浊度;e)

清洗

5

小时后停止循环,停止加热;f)

将清洗液排放至废

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