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文档简介
CCS
34 DB34/T
甜叶菊组培快繁技术规程
and
rapid
propagation
of
DB34/T
2022前言本文件按照
GB/T
DB34/T
2022
范围Stevia
rebaudiana
（Bertoni）
规范性引用文件JB/T
10594
术语和定义
组培设施
培养基应于
12
1.1
培养基应于
12
1.1
15
min～20
min，待
温室建造按
JB/T
的规定执行。可选择玻璃温室或薄膜温室，温度可控范围
培养基配制5.1.1
基本培养基MS培养基为基本培养基，成分见附录A。5.1.2
初代培养基mg/L
g/L。5.1.3
继代增殖培养基MS＋6-BA
5.5
g/L。5.1.4
生根培养基
MS
mg/L～0.5
g/L
g/L。
NY/T
2306
1.0
HCl
灭菌2
220
min～30
min，先启动风机，再关闭紫外灯。接种前，工作台面用
无菌苗初代培养DB34/T
2022选用生长健壮、无病虫害的甜叶菊植株，取顶端长
节的茎段为外植体备用。将选取的外植体用
10min～15min。
min～20
7.4.1
接种工具消毒7.4.2
外植体切取将已消毒的外植体切除下端部分及上端幼叶，留取长
1.5cm
接种将切取的茎段接种在诱导培养基上。每瓶培养基接种
培养温度为
12h/d。
d。
继代增殖培养
7.5。
d。
DB34/T
2022
生根培养
7.5。
d。10炼苗
培养瓶放置在遮光率为
70％～90％、温度为
炼苗
d～311组培苗清洗和移栽12档案管理
L
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