钨、钼-水滑石的离子交换催化氯丙烯环氧化

钨、钼-水滑石的离子交换催化氯丙烯环氧化

1生长双环烷基化硅材料水域和类水滑动是层结构的阴离子粘土材料。该层由不同价的金属氢氧化物像物组成。层板和正电荷被用作层，层之间是可交换的阴离子和亲水材料。针对催化H2实验材料和方法2.1w、mo-htl材料的合成将含W、Mo的盐溶液与对甲基苯磺酸根阴离子预柱撑的类水滑石材料调节不同的Na2.2rats公司的x射线电子能谱XRD采用RigakuMiniflexX射线衍射仪。Co靶,扫描范围:2θ=1.5~80°,步长0.02°⋅minXPS数据采集是用Kratos公司的ULTRAX射线电子能谱,带有165mm的半球形电子能谱分析仪。发射源为AlKα,能量为1486.6eV,功率为225W(15kV×15mA)。宽扫能量为160eV,高分辨的扫描能量为20eV。宽扫扫描范围为1200~0eV,步长为1.0eV,扫描时间为100ms。高分辨扫描的扫描步长为0.05eV,扫描时间为250ms。分析室的真空度为1.0×102.3氯丙烯酰胺溶液的加入反应在带控温的磁力搅拌装置上进行。在100mL的烧瓶中加入氯丙烯7.0mL(0.086mol),溶剂为乙腈8.6mL,催化剂0.1g。量取30%(wt)H3结果与讨论3.1and分析3.2紫外分析3.3xrd分析图3是不同负载量钨、钼-HTL的XRD图谱。据Mg3.4tga分析3.5物料添加时mo/alX射线光电子能谱分析(XPS)对表面元素组成的分析结果列于表1。样品a,b,c的表面W原子含量分别为5.81%,1.31%,0.63%;在样品d,e,f中Mo原子含量分别为7.79%,1.72%,1.03%。并且W/Al分别为1.81,0.42,0.20,而Mo/Al分别为2.27,0.51,0.39。理论上物料添加时Mg/Al为2(摩尔比),合成的HTL中Mg/Al基本与初始添加值基本一致。结果反映Mo、W和HTL之间比例和反应物料的比例变化趋势一致,所存在的差值应系XPS仅对10nm左右样品表层的分析所致。3.6样品的结构形貌图5为不同负载量的钨、钼-HTL的SEM图。据SEM观测,合成的HTL呈现出层状结构形貌,而钨、钼交换后的HTL层状结构形貌有不同程度的变化,颗粒细小。这可能是离子交换过程中,酸性的条件使得合成的HTL结构有所解离和破坏。钨、钼金属离子的添加量越大,其粒径越细,如样品A和D为小片状。添加量比较少的样品,其层状结构形貌明显。可能是交换量大时,钨、钼离子交换到HTL的层间,导致了层状堆积结构有序性的降低,这在层柱状粘土制备中也有类似现象3.7环氧化石墨烯环氧化反应钨、钼-HTL材料对氯丙烯环氧化的催化性能的试验结果(表2),显示该类材料对氯丙烯环氧化反应具有催化活性。W-HTL上催化双氧水的转化率为41.2%~50.0%,目的产物环氧氯丙烷选择性为74.0%~85.2%。但H4应力学和最大负载量mo图首先制备对甲基苯磺酸根预柱撑的镁铝类水滑石,再分别加入Na采用的钨、钼盐溶液浓度,与层间的钨、钼物种数量和形态相关。当钨负载量比较高的时候,含钨-类水滑石中钨呈现多种配位形态。二者相比,钼易呈多种配位状态;钨、钼离子交换到层间也影响层状结构的有序性和材料的形貌。增加层间钨、钼物种的量,层间距增大。对于H图1是不同负载量的钨、钼-HTL的红外光谱图。在3460cm图2是不同负载量的钨、钼-HTL的紫外-可见光谱分析。当W/Al摩尔比较低的时候,W-HTL样品上在264nm附近呈现为较尖锐的吸收峰,表明材料中W的配位状态相对单一,264nm处紫外吸收可能由于W-O-W桥氧键发生荷移跃迁引起。而当W/Al摩尔比为7:6时,紫外吸收带主要在在220nm至300nm范围内,表现为较宽的紫外吸收峰,表明在高钨交换量下,材料中W主要为多种形式的配位状态出现。对于Mo-HTL,当Mo/Al摩尔比为7:6时,在220nm至350nm之间明显出现三个吸收峰段,而且能量范围较窄。当Mo/Al摩尔比减少至7:60时,在220nm至300nm之间出现了更宽的吸收特征峰,系多种吸收交叠导致的结果,证实材料Mo-HTL出现了多种配位情况,