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文档简介
晶体管原理BJT的学习教案第1页/共17页
美国贝尔实验室发明的世界上第一支锗点接触式双极型晶体管。随后出现了结型双极型晶体管。第2页/共17页
双极型晶体管有两种基本结构:PNP型和
NPN型,其结构示意图和在电路图中的符号如下。NNNPPPEEEEBBBBCCCC3.1.1双极结型晶体管的结构
双极结型晶体管(BipolarJunctionTransistor)简称为双极型晶体管,或晶体管。第3页/共17页
均匀基区晶体管:基区掺杂为均匀分布。少子在基区主要作扩散运动,又称为
扩散晶体管。
缓变基区晶体管:基区掺杂近似为指数分布,少子在基区主要作漂移运动,又称为
漂移晶体管。PN+N0xjcxjeNE(x)NB(x)NCx0xjcxje第4页/共17页
加在各PN
结上的电压为PNP
管,NPN
管,
根据两个结上电压的正负,晶体管有4种工作状态,E结++--
工作状态放大状态,用于模拟电路饱和状态,用于数字电路截止状态,用于数字电路倒向放大状态C结-+-+3.1.2偏压与工作状态
第5页/共17页
均匀基区晶体管在4种工作状态下的少子分布图放大状态:饱和状态:截止状态:倒向放大状态:3.1.3少子浓度分布与能带图
第6页/共17页
均匀基区
NPN
晶体管在平衡状态下的能带图ECEFEVNNP第7页/共17页
均匀基区
NPN
晶体管在4种工作状态下的能带图放大状态:饱和状态:截止状态:倒向放大状态:第8页/共17页3.1.4晶体管的放大作用
晶体管放大电路有两种基本类型:共基极接法
与
共发射极接法。BECBPNPNENBNCIEIBICECBNPIEIBPENENBNCIC第9页/共17页
为了理解晶体管中的电流变化情况,先复习一下PN
结中的正向电流。VP区N区0第10页/共17页
以
PNP
管为例。忽略势垒区产生复合电流,处于放大状态的晶体管内部的各电流成分如下图所示,第11页/共17页
从IE
到IC
,发生了两部分亏损:InE与Inr
。
要减小InE
,就应使NE
>>NB
;
要减小Inr
,就应使WB<<LB
。第12页/共17页
定义:发射结正偏,集电结零偏时的IC
与IE
之比,称为共基极直流短路电流放大系数,记为,即:
定义:发射结正偏,集电结反偏时的IC
与IE
之比,称为共基极静态电流放大系数,记为
hFB
,即:第13页/共17页
定义:发射结正偏,集电结零偏时的IC
与IB
之比,称为共发射极直流短路电流放大系数,记为
,即:
定义:发射结正偏,集电结反偏时的IC
与IB
之比,称为共发射极静态电流放大系数,记为hFE
,即:第14页/共17页
α与
hFB以及
β与
hFE在数值上几乎没有什么区别,但是若采用
α与
β
的定义,则无论对
α与
β本身的推导还是对晶体管直流电流电压方程的推导,都要更方便一些,所以本书只讨论
α与
β
。
根据晶体管端电流之间的关系:IB=IE
-
IC
,及
α与
β的定义,可得
α与
β之间的关系为
对于一般的晶体管,α=0.950~0.995,β=20~200。第15页/共17页
除了上面两种直流电流放大系
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