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文档简介

微流控芯片的制作2心整理，用心做精品PDMS－玻璃杂合芯片快速制作方法详解(初稿)注意：进入芯片加工间需穿实验服，进行芯片制作时需带上无粉乳胶手套。3心整理，用心做精品硅片用玻璃棒隔开，将丙酮倒入烧杯，液面高于硅片顶端所在平面2cm左右，然后放入超声机，超声40分钟左右(对于旧硅片，可以升温超声，时间也可适当延长)；丙酮清洗后，将丙酮小心倒入装丙酮的空，合成间的通风厨，小心缓慢将浓硫酸倒入烧杯至目标体积，硫酸与双氧水反应基本结束，将烧杯移至超声机(注意作上浓硫酸的标4心整理，用心做精品将 20min。氮气枪：吹去基片表面水份和灰尘子：夹持基片成。5心整理，用心做精品eph物台上，让胶的中心位于载物台圆的中心，静置3min左右，让胶先自然辅制。通常情况下，初匀两次即可将胶铺满整块基片，终匀的时间为60s。程序可以如下设置：6心整理，用心做精品 三．SU-8基片前烘(注意区分胶是哪一种，时间温度不一样)有降至30℃，则7心整理，用心做精品前烘程序到前烘结束用，所用时间约为4.5h。。8心整理，用心做精品四．SU-8基片曝光(掩膜图形正面朝下)到稳定才可曝光。将要光刻的掩模取出，用氮气枪轻轻吹掉掩灰尘。将光刻机掩模架上的方块石英玻璃取下，用擦镜纸的光表面的不干净处，擦干净后，用氮气枪吹到石英玻璃表面的纤。将橡胶圈垫片放到石英玻璃块上，按上两边的固定架，将整个个9心整理，用心做精品将心整理，用心做精品Ⅲ：解释：。b热平板加温过程中，达到目标温度进入保持温度阶段时，温过目标温度属于正常现象，这是由于加温速度过快导心整理，用心做精品PGMEA最强二丙醇最弱异丙醇终止反应的图形决定，如果图形比较靠近硅片的边沿，则此高度需要小些)用于“滚车片放至第一个玻璃皿内浸泡，有胶的面朝上，轻轻摇晃玻璃皿，使然后在硅片背面放至一张滤纸以吸走多余的显影液，用氮气枪轻轻吹干表心整理，用心做精品Ⅳ：心整理，用心做精品拿出塑料杯后可用吸耳球将预聚体表面气泡吹破。心整理，用心做精品匀(一定要确认培养皿被吸紧后再开启匀胶机)，然后将加工有阳模的硅片放S针头，然后拔出。用镊子或者平头针或氮气枪推出孔所在位置的PDMS。心整理，用心做精品将清洗干净的载玻片(与硅片的清洗方式相同，一次可洗多个)，用氮气辉)，起辉后立即将清洗强度调至800V，氧气进气速度调至小于800ml/min V针小心旋动旋钮)，稍微打开进气阀，少键合方式分干键和湿键。心整理，用心做精品按压(注意赶走气泡)。然后放入65℃真空干燥箱中加热2h。取出芯片，冷却：心整理，用心做精品切胶(带有通道)—打孔—用无水乙醇清洗，氮气吹干，硅片(

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