标准解读
《YS/T 871-2013 高纯铝化学分析方法 痕量杂质元素的测定 辉光放电质谱法》是一项针对高纯铝中痕量杂质元素进行检测的标准。该标准详细规定了利用辉光放电质谱(GDMS)技术来分析高纯度铝材料中的微量杂质成分的方法流程,适用于99.99%及以上纯度级别的铝样品。
标准首先明确了适用范围,指出其主要用于评价和控制生产过程中或成品阶段高纯铝的质量,尤其是对于那些对材料纯净度有严格要求的应用场景而言尤为重要。接着,在术语与定义部分,给出了本文件所使用的关键词汇的确切含义,确保所有读者都能准确理解后续内容。
在原理方面,《YS/T 871-2013》解释了如何通过辉光放电将固体样品表面原子化,并利用质谱仪实现不同元素离子的分离及定量测量。这种方法能够有效识别并测定出包括铁、铜、镁等在内的多种潜在污染物。
实验步骤被细分为样品准备、仪器设置、测试条件选择等多个环节,每一步都给出了具体的操作指南以及可能影响结果准确性的因素说明。例如,在样品制备时需注意避免外界污染;而关于设备参数的选择,则强调根据实际样品特性和所需检测精度灵活调整。
此外,该标准还特别强调了质量控制的重要性,提出了定期校准仪器、参与实验室间比对试验等多项措施以保证数据可靠性。同时,也提供了处理异常情况的方法建议,比如当发现背景信号过强或者目标峰形不理想时应采取的应对策略。
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- 废止
- 已被废除、停止使用,并不再更新
- 2013-04-25 颁布
- 2013-09-01 实施
![YS/T 871-2013高纯铝化学分析方法痕量杂质元素的测定辉光放电质谱法_第1页](http://file4.renrendoc.com/view/d7864aceade899784b564806f04da345/d7864aceade899784b564806f04da3451.gif)
![YS/T 871-2013高纯铝化学分析方法痕量杂质元素的测定辉光放电质谱法_第2页](http://file4.renrendoc.com/view/d7864aceade899784b564806f04da345/d7864aceade899784b564806f04da3452.gif)
![YS/T 871-2013高纯铝化学分析方法痕量杂质元素的测定辉光放电质谱法_第3页](http://file4.renrendoc.com/view/d7864aceade899784b564806f04da345/d7864aceade899784b564806f04da3453.gif)
文档简介
ICS7712040
H13..
中华人民共和国有色金属行业标准
YS/T871—2013
高纯铝化学分析方法
痕量杂质元素的测定
辉光放电质谱法
Chemicalanalysisofhighpurityaluminium—
Determinationoftraceimpurities—
Glowdischargemassspectrometry
2013-04-25发布2013-09-01实施
中华人民共和国工业和信息化部发布
YS/T871—2013
前言
本标准按照给出的规则起草
GB/T1.1—2009。
本标准由全国有色金属标准化技术委员会归口
(SAC/TC243)。
本标准起草单位北京有色金属研究总院新疆众和股份有限公司金川新材料科技股份有限公司
:、、、
山东兖矿轻合金有限公司
。
本标准主要起草人李爱嫦刘红李继东孙泽明刘英洪涛肖丽梅周维宋玉萍戴珍珍
:、、、、、、、、、、
秦芳林邱平
、。
Ⅰ
YS/T871—2013
高纯铝化学分析方法
痕量杂质元素的测定
辉光放电质谱法
1范围
本标准规定了采用高质量分辨率辉光放电质谱法测定高纯铝中痕量元素的测试方法
。
本标准适用于高纯铝中痕量元素含量的测定各元素测定范围为-7-3
。5.0×10%~1.0×10%
ω
(%)。
2方法提要
将一个作为阴极的试样安装到等离子体放电室利用惰性气体氩气在高压条件下电离产生的离
,()
子撞击样品表面使之发生溅射从试样表面溅射出来的原子被离子化通过双聚焦扇形磁场质量分析仪
,,
聚焦为离子束进而被质谱分析器收集检测在每一元素质量数处以预设的扫描点数和积分时间对相
,。
应谱峰积分所得面积即为谱峰强度依据式由仪器软件计算出杂质元素的含量
,。(1)。
3试剂与材料
31乙醇ρ优级纯
.(=0.789g/mL),。
32盐酸ρ优级纯
.(=1.19g/mL),。
33盐酸
.(1+1)。
34氮气ω
.[(N2)]≥99.99%。
35氩气ω
.[(Ar)]≥99.99%。
36去离子水电阻率要求达到
.:18.2MΩ·cm。
37高纯铝标准物质条件允许的情况下利用高纯铝标准物质生成待测元素的相对灵敏度因子RSFx
.:,。
4仪器
41高分辨率辉光放电质谱仪质量分辨率可达到
.(GDMS):9000。
42机械加工设备能够使样品和参比样品制成所需的几何形状并得到光滑的表面
.,。
5试样
51试样具有均匀性和代表性
.。
52试样不应采取母材的表面将试样制备成为块状要求至少有一个用于辉光放电的光滑平面试样
.,,;
大小要求能放入辉光放电样品夹空腔内并且其光滑平面能覆盖住样品夹上的放电孔试样的厚度要求
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