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文档简介
9.2半导体二极管
9.3稳压管9.4半导体三极管9.1半导体的导电特性第9章半导体二极管和三极管9.1半导体的导电特性9.1.1本征半导体完全纯净的、具有晶体结构的半导体,称为本征半导体。晶体中原子的排列方式硅单晶中的共价健结构共价健共价键中的两个电子,称为价电子。
Si
Si
Si
Si价电子
Si
Si
Si
Si价电子
价电子在获得一定能量(温度升高或受光照)后,即可挣脱原子核的束缚,成为自由电子(带负电),同时共价键中留下一个空位,称为空穴(带正电)。本征半导体的导电机理这一现象称为本征激发。空穴温度愈高,晶体中产生的自由电子便愈多。自由电子在外电场的作用下,空穴吸引相邻原子的价电子来填补,而在该原子中出现一个空穴,其结果相当于空穴的运动(相当于正电荷的移动)。9.1.2N型半导体和P型半导体
掺杂后自由电子数目大量增加,自由电子导电成为这种半导体的主要导电方式,称为电子半导体或N型半导体。掺入五价元素磷
Si
Si
Si
Sip+多余电子磷原子在常温下即可变为自由电子失去一个电子变为正离子在本征半导体中掺入微量的杂质(某种元素),形成杂质半导体。
在N
型半导体中自由电子是多数载流子,空穴是少数载流子。动画9.1.2N型半导体和P型半导体
掺杂后空穴数目大量增加,空穴导电成为这种半导体的主要导电方式,称为空穴半导体或P型半导体。掺入三价元素硼
Si
Si
Si
Si
在P型半导体中空穴是多数载流子,自由电子是少数载流子。B–硼原子接受一个电子变为负离子空穴动画无论N型或P型半导体都是中性的,对外不显电性。1.在杂质半导体中多子的数量与
(a.掺杂浓度、b.温度)有关。2.在杂质半导体中少子的数量与(a.掺杂浓度、b.温度)有关。3.当温度升高时,少子的数量(a.减少、b.不变、c.增多)。abc4.在外加电压的作用下,P型半导体中的电流主要是
,N型半导体中的电流主要是。(a.电子电流、b.空穴电流)ba2PN结的单向导电性PN结变窄P接正、N接负外电场IF内电场被削弱,多子的扩散加强,形成较大的扩散电流。
PN结加正向电压时,PN结变窄,正向电流较大,正向电阻较小,PN结处于导通状态。内电场PN------------------++++++++++++++++++动画+–1)PN结加正向电压(正向偏置)2)PN结加反向电压(反向偏置)外电场P接负、N接正内电场PN+++------+++++++++---------++++++---动画–+PN结变宽2)PN结加反向电压(反向偏置)外电场内电场被加强,少子的漂移加强,由于少子数量很少,形成很小的反向电流。IRP接负、N接正温度越高少子的数目越多,反向电流将随温度增加。动画–+PN结加反向电压时,PN结变宽,反向电流较小,反向电阻较大,PN结处于截止状态。内电场PN+++------+++++++++---------++++++---9.2.2伏安特性硅管0.5V锗管0.1V反向击穿电压U(BR)导通压降
外加电压大于死区电压二极管才能导通。外加电压大于反向击穿电压二极管被击穿,失去单向导电性。正向特性反向特性特点:非线性硅0.6~0.7V锗0.2~0.3VUI死区电压PN+–PN–+反向电流在一定电压范围内保持常数。
1.最大整流电流
IOM
最大整流电流是指二极管长时间使用时,允许流过二极管的最大正向平均电流。
2.反向工作峰值电压URWM
它是保证二极管不被击穿而给出的反向峰值电压,一般是反向击穿电压的一半或三分之二。3.反向峰值电流IRM它是指二极管上加反向工作峰值电压时的反向电流值。9.2.3主要参数二极管的应用范围很广,主要都是利用它的单向导电性。它可用与整流、检波、限幅、元件保护以及在数字电路中作为开关元件。二极管的单向导电性1.二极管加正向电压(正向偏置,阳极接正、阴极接负)时,二极管处于正向导通状态,二极管正向电阻较小,正向电流较大。2.二极管加反向电压(反向偏置,阳极接负、阴极接正)时,二极管处于反向截止状态,二极管反向电阻较大,反向电流很小。
3.外加电压大于反向击穿电压二极管被击穿,失去单向导电性。4.二极管的反向电流受温度的影响,温度愈高反向电流愈大。电路如图,求:UAB若忽略管压降,二极管可看作短路,UAB=-6V。否则,UAB低于-6V一个管压降,为-6.3V或-6.7V例1:解:取B点作参考点,断开二极管,分析二极管阳极和阴极的电位。在这里,二极管起钳位作用。D6V12V3kBAUAB+–V阳=-6VV阴=-12VV阳>V阴,二极管导通两个二极管的阴极接在一起取B点作参考点,断开二极管,分析二极管阳极和阴极的电位。V1阳=-6V,V2阳=0V,V1阴=V2阴=-12VUD1=6V,UD2=12V
∵
UD2>UD1
∴D2优先导通,D1截止。若忽略管压降,二极管可看作短路,UAB
=0V例2:D1承受反向电压为-6V流过D2
的电流为求:UAB在这里,D2起钳位作用,D1起隔离作用。BD16V12V3kAD2UAB+–ui>8V,二极管导通,可看作短路uo=8Vui<8V,二极管截止,可看作开路uo=ui已知:二极管是理想的,试画出uo
波形。8V例3:ui18V参考点二极管阴极电位为8VD8VRuoui++––3.主要参数(1)稳定电压UZ
稳压管正常工作(反向击穿)时管子两端的电压。(2)电压温度系数u环境温度每变化1C引起稳压值变化的百分数。(3)动态电阻(4)稳定电流IZ、最大稳定电流IZM(5)最大允许耗散功率PZM=UZIZMrZ愈小,曲线愈陡,稳压性能愈好。
[例1]图中通过稳压管的电流IZ等于多少?R是限流电阻,其值是否合适?IZDZ+20VR=1.6k
UZ=12V
IZM=18mAIZ例1的图IZ<IZM
,电阻值合适。[解]N型硅二氧化硅保护膜BECN型硅P型硅(a)平面型N型锗ECB铟球铟球PP(b)合金型9.4半导体三极管9.4.1基本结构集电区集电结基区发射结发射区N集电极C发射极E基极BNPPN2.PNP型三极管
CBET符号以下是说明晶体管的放大原理和其中的电流分配的实验电路.9.4.2电流分配和放大原理发射极是输入回路、输出回路的公共端共发射极电路ICEBmAAVUCEUBERBIBECV++––––++输入回路输出回路IB/mA00.020.040.060.080.10IC/mA<0.0010.701.502.303.103.95IE/mA<0.0010.721.542.363.184.05晶体管电流测量数据结论:(1)符合基尔霍夫定律(2)IC和IE比IB大得多。从第三列和第四列的数据可得这就是晶体管的电流放大作用。称为共发射极静态电流(直流)放大系数。电流放大作用还体现在基极电流的少量变化IB可以引起集电极电流较大的变化IC。
式中,称为动态电流(交流)放大系数特点:非线性死区电压:硅管0.5V,锗管0.1V。正常工作时发射结电压:NPN型硅管
UBE0.6~0.7VPNP型锗管
UBE0.2~0.3VIB(A)UBE(V)204060800.40.8UCE1VO9.4.3特性曲线1.输入特性曲线IB=020A40A60A80A100A36IC(mA)1234UCE(V)912O放大区输出特性曲线通常分三个工作区:(1)放大区在放大区有IC=IB
,也称为线性区,具有恒流特性。在放大区,发射结处于正向偏置、集电结处于反向偏置,晶体管工作于放大状态。2.输出特性曲线IB=020A40A60A80A100A36IC(mA)1234UCE(V)912O(2)截止区IB<0以下区域为截止区,有IC0
。在截止区发射结处于反向偏置,集电结处于反向偏置,晶体管工作于截止状态。饱和区截止区(3)饱和区
当UCEUBE时,晶体管工作于饱和状态。在饱和区,IBIC,发射结处于正向偏置,集电结也处于正偏。
深度饱和时,硅管UCES0.3V,
锗管UCES0.1V。当晶体管截止时,IC
0,发射极与集电极之间如同一个开关的断开,其间电阻很大;当晶体管饱和时,UCE
0,发射极与集电极之间如同一个开关的接通,其间电阻很小。可见,晶体管除了有放大作用外,还有开关作用。晶体管的三种工作状态如下图所示+
UBE>0
ICIB+UCE(a)放大
UBC<0+IC0IB=0+UCEUCC(b)截止
UBC<0++UBE
0
+UBE>
0
IB+UCE0
(c)饱和
UBC>0+
管型
工作状态
饱和
放大
截止UBE/VUCE/V
UBE/V
UBE/V开始截止可靠截止硅管(NPN)锗管(PNP)
0.7
0.3
0.30.1
0.6~0.70.2~0.30.5
0.1
0
0.1晶体管结电压的典型值当晶体管工作在动态(有输入信号)时,基极电流的变化量为IB,它引起集电极电流的变化量为IC。IC与IB的比值称为动态电流(交流)放大系数
在输出特性曲线近于平行等距并且ICEO较小的情况下,可近似认为,但二者含义不同。1.电流放大系数,当晶体管接成共发射极电路时,在静态(无输入信号)时集电极电流与基极电流的比值称为静态电流(直流)放大系数9.4.4主要参数2.集—基极反向截止电流ICBO3.集—射极反向截止电流ICEOICBO是当发射极开路时流经集电结的反向电流,其值很小。ICBOA+–ECICEO是当基极开路(IB=0)时的集电极电流,也称为穿透电流,其值越小越好。AICEOIB=0+–4.集电极最大允许电流ICM5.集-射极反向击穿电压U(BR)CEO集电极电流IC上升会导致三极管的值的下降,当值下降到正常值的三分之二时的集电极电流即为ICM。6.集电极最大允许耗散功耗PCMPCM取决于三极管允许的温升,消耗功率过大,温升过高会烧坏三极管。集电极所消耗的最大功率,称为集电极最
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