溅射靶材产业链概括及下游应用领域发展情况分析

溅射靶材产业链概括及下游应用领域发展情况分析

一、溅射靶材产业链概括

溅射工艺是制备电子薄膜的主要技术之一，它利用离子源产生的离子，在高真空中经过加速聚集，而形成高速度能的离子束流，轰击固体表面，离子和固体表面原子发生动能交换，使固体表面的原子离开固体并沉积在基底表面，被轰击的固体是用溅射法沉积薄膜的原材料，称为溅射靶材。主要应用场景包括超大规模集成电路制造等。溅射靶材工作原理

靶材产业链主要分金属提纯、靶材制造、溅射镀膜、终端应用四个环节。其中溅射镀膜是整个产业链中技术要求最高的环节。溅射薄膜的品质对下游产品的质量具有重要影响。溅射靶材产业链

二、溅射靶材产业下游应用领域发展情况

在PVD两大系列镀膜产品中，溅射镀膜已成为最主要的薄膜材料制备方法，溅射靶材也是目前市场应用量最大的PVD镀膜材料。随着消费类电子产品等终端应用市场的快速发展，溅射靶材市场规模也日益扩大。根据数据，2016年全球高纯溅射靶材市场规模约113.6亿美元，其中平板显示、记录媒体、太阳能电池和半导体分别占34%、29%、21%、10%。预计到2019年全球溅射靶材市场规模将超过163亿美元，增幅43%，年复合增长率13%。全球溅射靶材市场规模（亿美元）

1.半导体：中国市场增速更加稳定，国产替代前景可期

半导体集成电路的每个单元器件内部由衬底、绝缘层、介质层、导体层及保护层等组成，其中介质层、导体层、保护层均需用到溅射镀膜工艺。而集成电路领域镀膜用靶材主要则包括铝靶、钛靶、铜靶、钽靶、钨钛靶等，一般来说，110nm晶圆技术节点以上使用铝导线，配合钛材料做阻挡层，而110nm晶圆技术节点以下使用铜导线，配合钽材料做阻挡层。此外，随着技术进步，14nm晶圆技术节点中还大量使用钛材作为高介电常数的介质金属栅极技术的主要材料。

近年来半导体市场稳步发展，2018年全球半导体材料销售额519亿美元，其中晶圆制造材料销售322亿美元，封装材料销售197亿美元，总销售额同比增长10.65%，增速较2017年继续增加。数据显示，溅射靶材市场约占晶圆制造材料的2.6%，约占封装材料的2.7%，2018年全球半导体用靶材市场规模约13.69亿美元。全球半导体材料销售额及增长率

2006-2018年中国半导体材料销售额稳步增长，销售额从2006年的23.8亿美元上升至2018年的84.4亿美元，从增长率角度来看增速稳定性也大于全球。2018年中国半导体用靶材市场规模约19.48亿元，同比增长为11.64%，增速略高于全球均值。

预期2019年全球半导体材料市场将增长2%，则2019年全球半导体用靶材市场规模约在13.96亿美元，中国半导体用靶材市场规模约在19.87亿元。半导体用靶材市场规模及增长率

2.平板显示：维持平稳增长态势

平板显示器种类繁多，包括液晶显示器（LCD）、等离子显示器（PDP）、有机发光二极管显示器（OLED）以及在LCD基础上发展起来的触控（TP）显示产品等。溅射靶材主要用于镀膜，是平板显示产业基础环节主要材料。

平板显示用溅射靶材的主要品种包括铌、硅、钼、铝、铝合金、铜、铜合金和氧化铟锡（ITO）等，靶材纯度需达99.999%（5N）以上，工艺难度仅次于半导体靶材。全球液晶电视面板出货量及同比增速

全球移动PC面板出货量及同比增速

全球液晶电视面板出货量在2018年达到2.89亿片，同比增长9.1%；2019年1-8月出货量1.91亿片，增速有所放缓，但仍维持1.81%的正增长。全球移动PC消费有所放缓，2018年面板出货量2.84亿片，同比增长4.49%；2019年1-8月出货量为1.78亿片，同比减少3.05%。

3.太阳能电池：2019年有望迎来复苏

太阳能电池用的溅射靶材包括铝靶、铜靶、钼靶、铬靶以及ITO靶、AZO靶等，纯度一般要求在99.99%以上。从分类来看，铝靶、铜靶用于导电层薄膜，钼靶、铬靶用于阻挡层薄膜，ITO靶、AZO靶用于透明导电层薄膜。

全球光伏市场有望在2019年迎来复苏，