标准解读
《GB/T 4060-2007 硅多晶真空区熔基硼检验方法》相较于《GB/T 4060-1983 硅多晶真空区熔基硼检验方法》,在内容上进行了更新与完善。首先,在术语和定义部分,2007版对一些关键术语进行了更为明确的界定,确保了标准使用者能够更加准确地理解相关概念。其次,对于样品准备环节,新版本细化了取样要求以及样品处理的具体步骤,比如规定了更严格的尺寸控制和清洁度要求,这有助于提高测试结果的一致性和准确性。
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文档简介
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中华人民共和国国家标准
犌犅/犜4060—2007
代替GB/T4060—1983
硅多晶真空区熔基硼检验方法
犘狅犾狔犮狉狔狊狋犪犾犾犻狀犲狊犻犾犻犮狅狀—犈狓犪犿犻狀犪狋犻狅狀犿犲狋犺狅犱—
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20070911发布20080201实施
中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局
发布
中国国家标准化管理委员会
书
中华人民共和国
国家标准
硅多晶真空区熔基硼检验方法
GB/T4060—2007
中国标准出版社出版发行
北京西城区复兴门外三里河北街16号
邮政编码:100045
http://www.spc.net.cn
http://www.gb168.cn
电话:(010)51299090、68522006
2008年2月第一版
书号:155066·130535
版权专有侵权必究
举报电话:(010)68522006
书
犌犅/犜4060—2007
前言
本标准是对国家标准GB/T4060—1983《硅多晶真空区熔基硼检验方法》的修订。
本标准与GB/T4060—1983相比,主要变动如下:
———检测杂质浓度范围扩大为0.002×10-9~100×10-9;
———增加了“规范性引用文件”、“术语”、“允许差”、“计算”;
———将原标准中的第5章“检验条件”修订为“干扰因素”;
———将原标准中的取样位置修订为距多晶硅棒表面不低于5mm,距多晶硅棒底部不低于50mm;
———将原标准中的试样尺寸范围修订为直径15mm~20mm,长度为180mm。
本标准自实施之日起,同时代替GB/T4060—1983。
本标准由中国有色金属工业协会提出。
本标准由全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会归口。
本标准起草单位:峨眉半导体材料厂。
本标准主要起草人:罗莉萍、梁洪、覃锐兵、王炎、王向东。
本标准所代替标准的历次版本发布情况为:
———GB/T4060—1983。
Ⅰ
书
犌犅/犜4060—2007
硅多晶真空区熔基硼检验方法
1范围
本标准适用于多晶硅沉积在硅芯上生长的多晶硅棒基硼的检验。
本标准检测杂质浓度有效范围:0.002×10-9~100×10-9。
2规范性引用文件
下列文件中的条款通过本标准的引用而成为本标准的条款。凡是注日期的引用文件,其随后所有
的修改单(不包括勘误的内容)或修订版均不适用于本标准,然而,鼓励根据本标准达成协议的各方研究
是否可使用这些文件的最新版本。凡是不注日期的引用文件,其最新版本适用于本标准。
GB/T1551硅、锗单晶电阻率测定直流两探针法
GB/T1554硅晶体完整性化学择优腐蚀检验方法
GB/T1555半导体单晶晶向测定方法
GB/T13389掺硼掺磷硅单晶电阻率与掺杂剂浓度换算规程
GB/T14264半导体材料术语
3术语和定义
GB/T14264确立的下列术语和定义适用于本标准。
3.1
硅芯狊犾犻犿狉狅犱
小直径硅棒,用以提供多晶沉积的基体。
3.2
生长层犵狉狅狑狋犺犾犪狔犲狉
在硅芯上沉积生长的多晶硅层。
3.3
样芯狊犪犿狆犾犲犮狅狉犲
用空心钻头,从多晶棒上钻取的圆柱体。
3.4
控制棒犮狅狀狋狉狅犾狉狅犱
从有均匀沉积生长层的已知其硼含量的多晶棒上取得的多晶硅圆柱体。
4方法提要
在真空度不低于1.33×10-2Pa,以1.0mm/min的速度区熔提纯14次成晶后,
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