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文档简介

光学薄膜工艺基础知识培训第二页，共15页。第三页，共15页。第四页，共15页。第五页，共15页。第六页，共15页。第七页，共15页。1.工艺参数与薄膜性能的关系

2.影响光学性能的因素

3.影响薄膜机械性能的因素

4.影响薄膜环境稳定性的因素

5.总结光学薄膜工艺因素第八页，共15页。2023/2/2所以工艺因素对膜层内部结构产生了影响，使得对薄膜的各种性能产生影响,总结影响如图所示：第九页，共15页。2023/2/2工艺因素对薄膜性能的影响机理大致为：一.基片材料

1.膨胀系数不同热应力的主要原因；

2.化学亲和力不同影响膜层附着力和牢固度；

3.表面粗糙度和缺陷散射的主要来源。

二.基片清洁残留在基片表面的污物和清洁剂将导致：

1.膜层对基片的附着力差；

2.散射吸收增大抗激光损伤能力差；

3.透光性能变差。第十页，共15页。2023/2/2三.离子轰击的作用提高膜层在基片表面的凝聚系数和附着力；提高膜层的聚集密度，氧化物膜层的透过率增加，折射率提高，硬度和抗激光损伤阈值提高。四.初始膜料化学成分（纯度/杂质种类）、物理状态（粉/块）和预处理（真空烧结/锻压）影响膜层结构和性能第十一页，共15页。2023/2/2五.蒸发方法不同蒸发方法提供给蒸发分子和原子的初始动能差异很大，导致膜层结构有较大差异，表现为折射率、散射、附着力有差异。六.蒸发速率速率是动能的又一表征，它对膜层的折射率、应力、附着力有明显影响。七.真空度对膜层聚集密度，化学成分有影响，从而使膜层的折射率、硬度，牢固性发生变化。八.蒸气入射角影响膜层的生长结构和聚集密度。对膜层的折射率和散射性能有较大影响。一般应限制在30°之内。第十二页，共15页。2023/2/2九.基片温度

宏观反映在膜层折射率、散射、应力、附着力和硬度都会因基片温度的不同而有较大差异。

十.镀后烘烤处理

有助于应力释放和环境气体分子及膜层分子的热迁移，可使膜层结构重组。因此，可使膜层折射率、应力、硬度有较大改变。

以上所述的10个工艺因素对膜层性能的影响，是依据实际工艺项目和膜层宏观性能统计汇总得出的。第十三页，共15页。2023/2/2综合分析结果：

工艺因素对膜层性能的影响，主要集中在四类工艺因素对膜层四种性能的作用上：

显然，成膜原子/分子迁移能和凝聚力的大小，几乎对膜层的所有性能都有影响。因此，PVD技术的发展，几乎都是针对提高成膜粒子迁移能，凝聚力而进行的。

工艺作用膜层性能膜料原子制膜环境膜与基片聚集密度++附着力++应力++缺陷+++第十四页，共15页。2023/2/2工艺因素优选工艺因素优选通常采用正交实验，它是研究和处理多因素实验的方法，它在理论和实践的基础上，利用正交表进行实验，这种方法的优点是能在很多实验条件中找出代表性强的少数条件，通过很少几次实验，找出较优的工艺因素，其步骤如下：1

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