《清洗和制绒工艺》教学课件

《清洗和制绒工艺》幻灯片本课件PPT仅供大家学习使用学习完请自行删除，谢谢！本课件PPT仅供大家学习使用学习完请自行删除，谢谢！本课件PPT仅供大家学习使用学习完请自行删除，谢谢！本课件PPT仅供大家学习使用学习完请自行删除，谢谢！《清洗和制绒工艺》幻灯片本课件PPT仅供大家学习使用目录硅片外表损伤层的形成及处理方法绒面腐蚀的原理影响绒面质量的关键因素及分析工艺控制方法化学清洗原理平安本卷须知目录硅片外表损伤层的形成及处理方法概述形成起伏不平的绒面，增加硅片对太阳光的吸收去除硅片表面的机械损伤层清除表面油污和金属杂质硅片外表处理的目的：概述形成起伏不平的绒面，增加硅片对去除硅片表面的机械损伤硅片外表的机械损伤层〔一〕硅锭的铸造过程单晶硅多晶硅硅片外表的机械损伤层单晶硅多晶硅硅片外表的机械损伤层〔二〕多线切割硅片外表的机械损伤层硅片外表的机械损伤层

〔三〕机械损伤层硅片机械损伤层（10微米）硅片外表的机械损伤层

〔三〕机械损伤层硅片机械损伤层（10微硅片外表的机械损伤层

〔三〕切割损伤层的腐蚀〔初抛〕线切割损伤层厚度可达10微米左右。一般采用20%的碱溶液在90℃条件腐蚀0.5～1min以到达去除损伤层的效果,此时的腐蚀速率可到达6～10um/min。初抛时间在到达去除损伤层的根底上尽量减短，以防硅片被腐蚀过薄。对于NaOH浓度高于20%W/V的情况，腐蚀速度主要取决于溶液的温度，而与碱溶液实际浓度关系不大。硅片外表的机械损伤层

〔三〕切割损伤层的腐蚀〔初抛〕线切割损硅片外表的机械损伤层

〔三〕切割损伤层的腐蚀〔初抛〕假设损伤层去除缺乏会出现3种可能情况：剩余缺陷、剩余缺陷在后续高温处理过程中向材料深处继续延伸、切割过程中导致的杂质未能完全去除。硅酸钠的热导性很差。一般硅酸钠超过一定的量时，腐蚀产生的热量超过从溶液外表和容器侧面所散发的热量，使溶液的温度持续升高。所以初抛液必须定期更换或排出局部溶液。硅片外表的机械损伤层

〔三〕切割损伤层的腐蚀〔初抛〕假设损伤金属杂质对电池性能的影响金属杂质对电池性能的影响制绒：外表织构化单晶硅片外表的金字塔状绒面单晶硅片外表反射率制绒：外表织构化单晶硅片外表的单晶硅片外表反射率绒面腐蚀原理利用低浓度碱溶液对晶体硅在不同晶体取向上具有不同腐蚀速率的各向异性腐蚀特性，在硅片外表腐蚀形成角锥体密布的外表形貌，就称为外表织构化。角锥体四面全是由〈111〉面包围形成。反响式为：Si+2NaOH+H2O→Na2SiO3+2H2↑绒面腐蚀原理利用低浓度碱溶液对晶体硅在不同晶体取向角锥体形成原理角锥体的密度和它们的几何特征同时影响着太阳电池的陷光效率和前外表产生反射损失的最低限。尺寸一般控制在3～15微米。推测腐蚀反响期间的产物氢气泡的开展对角锥体的形成起着重要的作用。气泡粘附在硅片外表，它们的掩蔽作用导致了溶液的侧向腐蚀，这是角锥体形成过程的要素。角锥体形成原理角锥体的密度和它们的几何特征同时影响着太阳电池绒面光学原理制备绒面的目的：减少光的反射率，提高短路电流〔Isc〕，最终提高电池的光电转换效率。陷光原理：当光入射到一定角度的斜面，光会反射到另一角度的斜面，形成二次或者屡次吸收，从而增加吸收率。绒面光学原理制备绒面的目的：绒面光学原理陷光原理图示：绒面光学原理陷光原理图示：影响绒面质量的关键因素NaOH浓度无水乙醇或异丙醇浓度制绒槽内硅酸钠的累计量制绒腐蚀的温度制绒腐蚀时间的长短槽体密封程度、乙醇或异丙醇的挥发程度影响绒面质量的关键因素NaOH浓度关键因素的分析

——NaOH的影响制绒液中的乙醇或异丙醇、NaOH、硅酸纳三者浓度比例决定着溶液的腐蚀速率和角锥体形成情况。溶液温度恒定在80℃时发现腐蚀液NaOH浓度在1.5～4%范围之外将会破坏角锥体的几何形状。当NaOH处于适宜范围内时，乙醇或异丙醇的浓度的上升会使腐蚀速率大幅度下降。关键因素的分析

——NaOH的影响制绒液中的关键因素的分析

——NaOH的影响维持制绒液中乙醇的含量为10vol%，温度85℃，时间30分钟条件下：NaOH浓度5g/l时绒面形貌

关键因素的分析

——NaOH的影响关键因素的分析

——NaOH的影响NaOH浓度15g/l时绒面形貌关键因素的分析

——NaOH的影响NaOH浓关键因素的分析

——NaOH的影响NaOH浓度55g/l时绒面形貌关键因素的分析

——NaOH的影响NaOH浓关键因素的分析

——NaOH的影响绒面的平均反射率随NaOH浓度的变化关键因素的分析

——NaOH的影响绒面的平均关键因素的分析

——硅酸钠的影响硅酸钠在溶液中呈胶体状态，大大的增加了溶液的粘稠度。对腐蚀液中OH离子从腐蚀液向反响界面的输运过程具有缓冲作用，使得大批量腐蚀加工单晶硅绒面时，溶液中NaOH含量具有较宽的工艺容差范围，提高了产品工艺加工质量的稳定性和溶液的可重复性。硅酸钠在制绒溶液中的含量从2.5%～30%wt的情况下，溶液都具有良好的择向性，同时硅片外表上能生成完全覆盖角锥体的绒面。关键因素的分析

——硅酸钠的影响硅酸钠在溶液关键因素的分析

——硅酸钠的影响随着硅酸钠含量的增加，溶液粘度会增加，结果在硅片与片匣边框接触部位会产生“花篮印〞，一般浓度在30%以下不会发生这种变化〔NaOH浓度到达一定程度的根底上〕。硅酸钠来源大多是反响的生成物，要调整它的浓度只能通过排放溶液。假设要调整溶液的粘稠度，那么采用参加添加剂乙醇或异丙醇来调节。关键因素的分析

——硅酸钠的影响随着硅酸钠含关键因素的分析

——乙醇或异丙醇的影响气泡的直径、密度和腐蚀反响的速率限定了硅片外表织构的几何特征。气泡的大小以及在硅片外表停留的时间，与溶液的粘度、外表张力有关系。所以需要乙醇或异丙醇来调节溶液的粘滞特性。乙醇的含量在3vol%至20vol%的范围内变化时，制绒反响的变化不大，都可以得到比较理想的绒面，而5vol%至10vol%的环境最正确。关键因素的分析

——乙醇或异丙醇的影响气泡的关键因素的分析

——乙醇或异丙醇的影响制绒液中NaOH的浓度为15克/升，反响温度85℃。无乙醇时的绒面形貌：

关键因素的分析

——乙醇或异丙醇的影响关键因素的分析

——乙醇或异丙醇的影响乙醇浓度3vol%时的绒面形貌关键因素的分析

——乙醇或异丙醇的影响乙醇浓关键因素的分析

——乙醇或异丙醇的影响乙醇浓度10vol%时的绒面形貌关键因素的分析

——乙醇或异丙醇的影响乙醇浓关键因素的分析

——乙醇或异丙醇的影响乙醇浓度30vol%时的绒面形貌关键因素的分析

——乙醇或异丙醇的影响乙醇浓关键因素的分析

——不同时间制绒形貌的描述经热的浓碱去除损伤层后，硅片外表留下了许多浅薄的准方形的腐蚀坑。1分钟后，金字塔如雨后春笋，零星的冒出了头；5分钟后，硅片外表根本上被小金字塔覆盖，少数已开场长大。我们称绒面形成初期的这种变化为金字塔“成核〞。10分钟后，金字塔密布的绒面已经形成，只是大小不均匀，反射率也降到了比较低的水平。随着时间的延长，金字塔向外扩张兼并，体积逐渐膨胀，尺寸趋于均等。关键因素的分析

——不同时间制绒形貌的描述关键因素的分析

——不同制绒时间外表形貌的图片制绒液中含有15克/升的NaOH和10vol%的乙醇，温度85℃经过1min制绒的外表形貌关键因素的分析

——不同制绒时间外表形貌的关键因素的分析

——不同制绒时间外表形貌的图片经过5min制绒的外表形貌关键因素的分析

——不同制绒时间外表形貌的关键因素的分析

——不同制绒时间外表形貌的图片经过10min制绒的外表形貌关键因素的分析

——不同制绒时间外表形貌的关键因素的分析

——不同制绒时间外表形貌的图片经过30min制绒的外表形貌关键因素的分析

——不同制绒时间外表形貌的关键因素的分析

——不同制绒时间绒面反射率的比较不同时间制绒后，硅片的反射谱关键因素的分析

——不同制绒时间绒面反射率工艺控制方法假设出现雨点状的斑点，只要参加少量乙醇或异丙醇即可消除。假设硅片上端局部光亮，说明液位不够或溶液粘稠度过大，使篮框漂浮起来。假设硅片外表有流水印，说明溶液内硅酸钠过量，适当加大NaOH的用量；还有可能喷淋效果不理想。工艺控制方法假设出现雨点状的斑点，只要参加少量乙醇或异丙醇即硅酸钠含量的检测硅酸钠具体含量测量是没必要的，只要判定它的含量是否过量即可。实验是用100%的浓盐酸滴定，假设滴定一段时间后出现少量絮状物，说明硅酸钠含量适中；假设滴定开场就出现一团胶状固体且随滴定的进展变多，说明硅酸钠过量。硅酸钠含量的检测硅酸钠具体含量测量是没化学清洗原理HF去除硅片外表氧化层：HCl去除硅片外表金属杂质：盐酸具有酸和络合剂的双重作用，氯离子能与Pt2+、Au3+、Ag+、Cu+、Cd2+、Hg2+等金属离子形成可溶于水的络合物。

化学清洗原理HF去除硅片外表氧化层：HCl去除硅片外表金绒面不良分析及改进一、制绒不良现象分析1外表污点〔包括手指印、残留物-IPA/K2SIO3/KOH/外来杂质、花篮印、水纹〕2.外表发白3外表发亮4外表有规那么的闪光5外表有慧星现象发生6外表有慧星现象及污点7外表一些区域没有绒面绒面不良分析及改进一、制绒不良现象分析绒面不良分析及改进二、针对制绒不良的改进措施1、外表污染现象：外表有指纹残留原因：包装时人为接触硅片解决方法：IPA可以起到一定效果,但是不能杜绝，需要硅片厂家配合绒面不良分析及改进二、针对制绒不良的改进措施绒面不良分析及改进2、外表污染现象：硅片外表有大量的药液残留原因：IPA参加过多解决方法：重新清洗绒面不良分析及改进绒面不良分析及改进3、外表污染现象：在同一批片子中一样位置有类似于油污的污渍原因：来料问题，可能在硅片包装时引入解决方法：与硅片厂家协商解决绒面不良分析及改进绒面不良分析及改进4、外表污染现象：外表有污渍原因：在制绒后反响残留物解决方法：重新清洗绒面不良分析及改进绒面不良分析及改进5、硅片外表发白现象:外表发白原因：刻蚀时间不够解决方法：通常延长刻蚀绒面不良分析及改进绒面不良分析及改进6、硅片外表发亮现象：外表发沙原因：KOH过量或者是刻蚀时间过长解决方法：适当降低碱液的用量及制绒时间绒面不良分析及改进绒面不良分析及改进7、外表刻蚀不均现象：硅片外表局部区域发白，有慧星现象发生原因：IPA偏少解决方法:适当增加IPA的用量

绒面不良分析及改进绒面不良分析及改进8、绒面不均现象：硅片外表出现规那么的绒面不良原因：可能是来料问题解决方法：适当延长时间可以一定程度上减轻该现象绒面不良分析及改进绒面不良分析及改进9、无绒面现象：外表有流星雨现象发生原因：来料解决方法：加大碱液用量绒面不良分析及改进绒面不良分析及改进10、绒面不均现象:局部区域绒面良好，局部绒面表现为较难刻蚀原因：来料原因解决方法：加大碱液与IPA的用量通常可以解决，具体参加量依据实际情况而定绒面不良分析及改进本卷须知安全NaOH、HCl、HF都是强腐蚀性的化学药品，其固体颗粒、溶液、蒸汽会伤害到人的皮肤、眼睛、呼吸道，所以操作人员要按照规定穿戴防护服、防护面具、防护眼镜、长袖胶皮手套。一旦有化学试剂伤害了员工的身体，马上用纯水冲洗30分钟，送医院就医。本卷须知安全NaOH、HCl、HF都是强腐蚀性的化学药《清洗和制绒工艺》幻灯片本课件PPT仅供大家学习使用学习完请自行删除，谢谢！本课件PPT仅供大家学习使用学习完请自行删除，谢谢！本课件PPT仅供大家学习使用学习完请自行删除，谢谢！本课件PPT仅供大家学习使用学习完请自行删除，谢谢！《清洗和制绒工艺》幻灯片本课件PPT仅供大家学习使用目录硅片外表损伤层的形成及处理方法绒面腐蚀的原理影响绒面质量的关键因素及分析工艺控制方法化学清洗原理平安本卷须知目录硅片外表损伤层的形成及处理方法概述形成起伏不平的绒面，增加硅片对太阳光的吸收去除硅片表面的机械损伤层清除表面油污和金属杂质硅片外表处理的目的：概述形成起伏不平的绒面，增加硅片对去除硅片表面的机械损伤硅片外表的机械损伤层〔一〕硅锭的铸造过程单晶硅多晶硅硅片外表的机械损伤层单晶硅多晶硅硅片外表的机械损伤层〔二〕多线切割硅片外表的机械损伤层硅片外表的机械损伤层

〔三〕机械损伤层硅片机械损伤层（10微米）硅片外表的机械损伤层

〔三〕机械损伤层硅片机械损伤层（10微硅片外表的机械损伤层

〔三〕切割损伤层的腐蚀〔初抛〕线切割损伤层厚度可达10微米左右。一般采用20%的碱溶液在90℃条件腐蚀0.5～1min以到达去除损伤层的效果,此时的腐蚀速率可到达6～10um/min。初抛时间在到达去除损伤层的根底上尽量减短，以防硅片被腐蚀过薄。对于NaOH浓度高于20%W/V的情况，腐蚀速度主要取决于溶液的温度，而与碱溶液实际浓度关系不大。硅片外表的机械损伤层

〔三〕切割损伤层的腐蚀〔初抛〕线切割损硅片外表的机械损伤层

〔三〕切割损伤层的腐蚀〔初抛〕假设损伤层去除缺乏会出现3种可能情况：剩余缺陷、剩余缺陷在后续高温处理过程中向材料深处继续延伸、切割过程中导致的杂质未能完全去除。硅酸钠的热导性很差。一般硅酸钠超过一定的量时，腐蚀产生的热量超过从溶液外表和容器侧面所散发的热量，使溶液的温度持续升高。所以初抛液必须定期更换或排出局部溶液。硅片外表的机械损伤层

〔三〕切割损伤层的腐蚀〔初抛〕假设损伤金属杂质对电池性能的影响金属杂质对电池性能的影响制绒：外表织构化单晶硅片外表的金字塔状绒面单晶硅片外表反射率制绒：外表织构化单晶硅片外表的单晶硅片外表反射率绒面腐蚀原理利用低浓度碱溶液对晶体硅在不同晶体取向上具有不同腐蚀速率的各向异性腐蚀特性，在硅片外表腐蚀形成角锥体密布的外表形貌，就称为外表织构化。角锥体四面全是由〈111〉面包围形成。反响式为：Si+2NaOH+H2O→Na2SiO3+2H2↑绒面腐蚀原理利用低浓度碱溶液对晶体硅在不同晶体取向角锥体形成原理角锥体的密度和它们的几何特征同时影响着太阳电池的陷光效率和前外表产生反射损失的最低限。尺寸一般控制在3～15微米。推测腐蚀反响期间的产物氢气泡的开展对角锥体的形成起着重要的作用。气泡粘附在硅片外表，它们的掩蔽作用导致了溶液的侧向腐蚀，这是角锥体形成过程的要素。角锥体形成原理角锥体的密度和它们的几何特征同时影响着太阳电池绒面光学原理制备绒面的目的：减少光的反射率，提高短路电流〔Isc〕，最终提高电池的光电转换效率。陷光原理：当光入射到一定角度的斜面，光会反射到另一角度的斜面，形成二次或者屡次吸收，从而增加吸收率。绒面光学原理制备绒面的目的：绒面光学原理陷光原理图示：绒面光学原理陷光原理图示：影响绒面质量的关键因素NaOH浓度无水乙醇或异丙醇浓度制绒槽内硅酸钠的累计量制绒腐蚀的温度制绒腐蚀时间的长短槽体密封程度、乙醇或异丙醇的挥发程度影响绒面质量的关键因素NaOH浓度关键因素的分析

——NaOH的影响制绒液中的乙醇或异丙醇、NaOH、硅酸纳三者浓度比例决定着溶液的腐蚀速率和角锥体形成情况。溶液温度恒定在80℃时发现腐蚀液NaOH浓度在1.5～4%范围之外将会破坏角锥体的几何形状。当NaOH处于适宜范围内时，乙醇或异丙醇的浓度的上升会使腐蚀速率大幅度下降。关键因素的分析

——NaOH的影响制绒液中的关键因素的分析

——NaOH的影响维持制绒液中乙醇的含量为10vol%，温度85℃，时间30分钟条件下：NaOH浓度5g/l时绒面形貌

关键因素的分析

——NaOH的影响关键因素的分析

——NaOH的影响NaOH浓度15g/l时绒面形貌关键因素的分析

——NaOH的影响NaOH浓关键因素的分析

——NaOH的影响NaOH浓度55g/l时绒面形貌关键因素的分析

——NaOH的影响NaOH浓关键因素的分析

——NaOH的影响绒面的平均反射率随NaOH浓度的变化关键因素的分析

——NaOH的影响绒面的平均关键因素的分析

——硅酸钠的影响硅酸钠在溶液中呈胶体状态，大大的增加了溶液的粘稠度。对腐蚀液中OH离子从腐蚀液向反响界面的输运过程具有缓冲作用，使得大批量腐蚀加工单晶硅绒面时，溶液中NaOH含量具有较宽的工艺容差范围，提高了产品工艺加工质量的稳定性和溶液的可重复性。硅酸钠在制绒溶液中的含量从2.5%～30%wt的情况下，溶液都具有良好的择向性，同时硅片外表上能生成完全覆盖角锥体的绒面。关键因素的分析

——硅酸钠的影响硅酸钠在溶液关键因素的分析

——硅酸钠的影响随着硅酸钠含量的增加，溶液粘度会增加，结果在硅片与片匣边框接触部位会产生“花篮印〞，一般浓度在30%以下不会发生这种变化〔NaOH浓度到达一定程度的根底上〕。硅酸钠来源大多是反响的生成物，要调整它的浓度只能通过排放溶液。假设要调整溶液的粘稠度，那么采用参加添加剂乙醇或异丙醇来调节。关键因素的分析

——硅酸钠的影响随着硅酸钠含关键因素的分析

——乙醇或异丙醇的影响气泡的直径、密度和腐蚀反响的速率限定了硅片外表织构的几何特征。气泡的大小以及在硅片外表停留的时间，与溶液的粘度、外表张力有关系。所以需要乙醇或异丙醇来调节溶液的粘滞特性。乙醇的含量在3vol%至20vol%的范围内变化时，制绒反响的变化不大，都可以得到比较理想的绒面，而5vol%至10vol%的环境最正确。关键因素的分析

——乙醇或异丙醇的影响气泡的关键因素的分析

——乙醇或异丙醇的影响制绒液中NaOH的浓度为15克/升，反响温度85℃。无乙醇时的绒面形貌：

关键因素的分析

——乙醇或异丙醇的影响关键因素的分析

——乙醇或异丙醇的影响乙醇浓度3vol%时的绒面形貌关键因素的分析

——乙醇或异丙醇的影响乙醇浓关键因素的分析

——乙醇或异丙醇的影响乙醇浓度10vol%时的绒面形貌关键因素的分析

——乙醇或异丙醇的影响乙醇浓关键因素的分析

——乙醇或异丙醇的影响乙醇浓度30vol%时的绒面形貌关键因素的分析

——乙醇或异丙醇的影响乙醇浓关键因素的分析

——不同时间制绒形貌的描述经热的浓碱去除损伤层后，硅片外表留下了许多浅薄的准方形的腐蚀坑。1分钟后，金字塔如雨后春笋，零星的冒出了头；5分钟后，硅片外表根本上被小金字塔覆盖，少数已开场长大。我们称绒面形成初期的这种变化为金字塔“成核〞。10分钟后，金字塔密布的绒面已经形成，只是大小不均匀，反射率也降到了比较低的水平。随着时间的延长，金字塔向外扩张兼并，体积逐渐膨胀，尺寸趋于均等。关键因素的分析

——不同时间制绒形貌的描述关键因素的分析

——不同制绒时间外表形貌的图片制绒液中含有15克/升的NaOH和10vol%的乙醇，温度85℃经过1min制绒的外表形貌关键因素的分析

——不同制绒时间外表形貌的关键因素的分析

——不同制绒时间外表形貌的图片经过5min制绒的外表形貌关键因素的分析

——不同制绒时间外表形貌的关键因素的分析

——不同制绒时间外表形貌的图片经过10min制绒的外表形貌关键因素的分析

——不同制绒时间外表形貌的关键因素的分析

——不同制绒时间外表形貌的图片经过30min制绒的外表形貌关键因素的分析

——不同制绒时间外表形貌的关键因素的分析

——不同制绒时间绒面反射率的比较不同时间制绒后，硅片的反射谱关键因素的分析

——不同制绒时间绒面反射率工艺控制方法假设出现雨点状的斑点，只要参加少量乙醇或异丙醇即可消除。假设硅片上端局部光亮，说明液位不够或溶液粘稠度过大，使篮框漂浮起来。假设硅片外表有流水印，说明溶液内硅酸钠过量，适当加大NaOH的用量；还有可能喷淋效果不理想。工艺控制方法假设出现雨点状的斑点，只要参加少量乙醇或异丙醇即硅酸钠含量的检测硅酸钠具体含量测量是没必要的，只要判定它的含量是否过量即可。实验是用100%的浓盐酸滴定，假设滴定一段时间后出现少量絮状物，说明硅酸钠含量适中；假设滴定开场就出现一团胶状固体且随滴定的进展变多，说明硅酸钠过量。硅酸钠含量的检测硅酸钠具体含量测量是没化学清洗原理HF去除硅片外表氧化层：HCl去除硅片外表金属杂质：盐酸具有酸和络合剂的双重作用，氯离子能与Pt2+、Au3+、Ag+、Cu+、Cd2+、Hg2+等金属离子形成可溶于水的络合物。

化学清洗原理HF去除硅片外表氧化层：HCl去除硅片外表金绒面不良分析及改进一、制绒不良现象分析1外表污点〔包括手指印、残留物-IPA/K2SIO3/KOH/外来杂质、花篮印、水纹〕2.外表发白3外表发亮4外表有规那么的闪光5外表有慧星现象发生6外表有慧星现象及污点7外表一些区域没有绒面绒面不良分析及改进一、制绒不良现象分析绒面不良分析及改进二、针对制绒不良的改进措施1、外表污染现象：外表有指纹残留原因：包装时人为接触硅片解决方法：IPA可以起到一定效果,但是不能杜绝，需要硅片厂家配合绒面不良分析及改进二、针对制绒不良的改进措施绒面不良分析及改进2、外表污染现象：硅片外表有大量的药液残留原因：IPA参加过多解决方法：重新清洗绒面不良分析及改进绒面不良分析及改进3、外表污染现象：在同一批片子中一样位置有类似于油污的污渍原因：来料问题，可能在硅片包装时引入解决方法：与硅片厂家协商解决绒面不良分析及改进绒面不良分析及改进4、外表污染现象：外表有污渍原因：在制绒后反响残留物解决方法：重新清洗绒面不良分析及改进绒面不良分析及改进5、硅片外表发白现象:外表发白原因：刻蚀时间不够解决方法：通常延长刻蚀绒面不良分析及改进绒面不良分析及改进6、硅片外表发亮现象：外表发沙原因：KOH过量或者是刻蚀时间过长解决方法：适当降低碱液的用量及制绒时间绒面不良分析及改进绒面不良分析及改进7、外表刻蚀不均