121.206.2–2008镀层和化学覆盖层技术规范铝合金化学导电氧化全解

中兴通讯股份有限公司中兴通讯股份有限公司发布内部公开^Q/ZX技术标准中兴通讯股份有限公司企业标准Q/ZX12.206.2-008代替Q/ZX12.206.2-2004镀层和化学覆盖层技术规范铝合金化学导电氧化2008-04-11实施2008-03-112008-04-11实施＜本文中的所有信息均为中兴通讯股份有限公司内部信息，未经允许，不得外传。＞内部公开^Q/ZX12.206.2-2008内部公开^Q/ZX12.206.2-2008镀层和化学覆盖层技术规范铝合金化学导电氧化＜本文中的所有信息均为中兴通讯股份有限公司内部信息，未经允许，不得外传。＞＜本文中的所有信息均为中兴通讯股份有限公司内部信息，未经允许，不得外传。＞按照QJ487-1983中的方法进行测量，或按照5.2.4采用低电阻测试仪测量，要求：任意两点间接触电阻小于100mQ为合格。5.1.5有害重金属的限制化学氧化层中的铅、镉、汞、六价铬含量须满足Q/ZX12.208标准中相关条款的要求，铬化液中六价铬含量须满足10PPM以下。六价铬和铅、镉、汞含量的测试方法可以按Q/ZXZ12.001相关条款进行测试。委托第三方按相关国际标准测试时，检测机构需要得到中兴通讯认可。5.2检验方法5.2.1外观的检验方法（目检）以肉眼在300〜600lx的近似自然光（如40W日光灯，相距300mm〜500mm）照明下观察。应避免反射光的影响。如有必要，也可用4〜5倍放大镜参考检验。注意与生产零件同槽处理的试样件比较。5.2.2耐腐蚀性按照GB/T10125-1997中的中性（NASS）盐雾试验进行连续喷雾测试。5.2.3附着力用3M胶带（附着力强度为10±1N/25mm）紧密粘贴在试样表面，以未粘贴胶带边为基准大于90度角迅速拉起，胶带表面没有明显膜层附着为合格。5.2.4导电性按照QJ487-1983中3.3.1规定的方法（惠斯登电桥）进行测量。也可以采用低电阻测试仪或微欧姆计进行测量。采用低电阻测试仪测量时，操作方法为：以试片测量，将两块试片叠合，并错开一部分，用低电阻测试仪的两表笔分别以适当的压力搭接上下两块试片，测试任意两点间电阻值小于100mQ为合格。6验收规则6.1外观验收关键及重要零件进行100%的检验。其他零件按加工批次进行抽样检验，具体抽样方案按GB/T12609-1990中7.1的抽样方式进行，具体抽样方法按表2进行（相当于GB/T2828.1中一般检查水平II，AQL=1.5）。表2产品抽样方法批内产品数量（批量）试验的产品数（样本量）可接收批的最大不合格品数（接收数）拒收批的最小不合格品数（拒收数）91以下200191〜2803212281〜5005023501〜120080341201〜3200125553201〜100002007810001以上31510116.2性能验收化学氧化层刚刚形成时较易划伤，随着逐渐脱水而老化变硬，所以任何性能试验均应在成膜24小时后进行。化学导电氧化件的性能检验包括：导电性、耐腐蚀性、高温后的耐蚀性、膜层附着力等，按加工批次或下面的专门规定进行抽检，有疑问时可随时抽检。一般抽样数量：每批次2〜3件，若有一件不合格，即判定本批不合格。6.2.1导电性和附着力导电性和附着力测试，平面零件可直接测量，复杂零件需要在与零件同类材料同槽氧化的平面试样上进行测量。连续生产时按加工批次进行抽检。抽样数量：每批次2〜4片。6.2.2耐腐蚀性耐腐蚀性原则上必须用工件本身进行测试。零件过大、过于复杂或有特殊要求时，允许在与零件同类材料同槽氧化的试样上进行检验。耐腐蚀性每月抽测一次，对产品有争议时，可以随时抽测抽样数量：每批次2〜3件。6.3试样件要求对于尺寸过大或工艺结构复杂加工难度很大的工件，进