溅射镀膜试验课件

-溅射镀膜实验薄膜物理与技术-溅射镀膜实验薄膜物理与技术主要的真空泵

油封机械泵分子泵

主要的真空泵油封机械泵溅射镀膜试验课件分子泵Balzers,1992LeyboldM2000,1999“Clean,LeanVacuumMachine”Turbo’s分子泵Balzers,1992LeyboldM2000,气体随转子作圆周运动，获得离心力，与转子上页碰撞，按余弦定律散射，获得速度，后与定子下交碰撞，再获向右速度分量。条件：（1）起始工作气压小，入大。常压下，空气λ=0.06μm，1.3Pa，λ=4.4mm要求λ大于叶片间距。（2）转子叶片线速度与气体分子速度相近分子量大、气体易抽，H2难抽H2最可几速率1557m/s，极限真空残余气体中。85%为H2。

气体随转子作圆周运动，获得离心力，与转子上页碰撞，按余弦定律PumpOperationMoleculeVMovingWallwithSpeedVPrincipleoftheTurbomolecularPumpPumpOperationMoleculeVMovingVacuumSystemsTurboPumpedSputteringSystemVacuumSystemsTurbo溅射镀膜试验课件PlasmaIgnition:SweetSpot巴邢曲线PlasmaIgnition:SweetSpot巴邢曲线3.DCsputteringsimplest-basicallywhatwehavetalkedaboutsofar

3.DCsputteringSchematicofaplanarmagnetrontargetPrincipleofthemagneticeffectNumberdensitiesofelectronsinxy-planeMagneticfieldtrapselectronsIncreasetheiondensityIncreasetheelectronsdensitiesHighersputteringrateSchematicofaplanarmagnetro实验步骤1．了解系统结构。真空获得系统，真空测试系统，气体控制系统，基片加热系统，溅射控制系统。2．熟悉操作步骤。3．基片装夹，开机械泵，通过旁通阀初抽真空，同时打开真空计；到达1000帕左右，打开主阀；达到5帕左右，开启分子泵；开启基片加热器，缓慢升高加热电压至温度到250oC实验步骤1．了解系统结构。真空获得系统，真空测试系统，气体控4．达到10－3帕后，停分子泵；分子泵停止后，调节气体控制气压。5．改变气压，开启溅射电源，记录气压与起辉电压的变化。观察不同气体的辉光放电现象。6．预溅射十分钟以后，调节溅射电流，稳定后打开基片挡板，进行薄膜的溅射沉积。

4．达到10－3帕后，停分子泵；分子泵停止后，调节气体控制气7．达到一定薄膜厚度之后，停止溅射，停止加热，关闭真空系统，系统充气，取样观测。7．达到一定薄膜厚度之后，停止溅射，停止加热，关闭真空系统实验要求得到真空度随时间的变化规律得到放电电压与气压的变化规律溅射沉积样品通过电阻测量得到样品均匀性实验要求得到真空度随时间的变化规律-溅射镀膜实验薄膜物理与技术-溅射镀膜实验薄膜物理与技术主要的真空泵

油封机械泵分子泵

主要的真空泵油封机械泵溅射镀膜试验课件分子泵Balzers,1992LeyboldM2000,1999“Clean,LeanVacuumMachine”Turbo’s分子泵Balzers,1992LeyboldM2000,气体随转子作圆周运动，获得离心力，与转子上页碰撞，按余弦定律散射，获得速度，后与定子下交碰撞，再获向右速度分量。条件：（1）起始工作气压小，入大。常压下，空气λ=0.06μm，1.3Pa，λ=4.4mm要求λ大于叶片间距。（2）转子叶片线速度与气体分子速度相近分子量大、气体易抽，H2难抽H2最可几速率1557m/s，极限真空残余气体中。85%为H2。

气体随转子作圆周运动，获得离心力，与转子上页碰撞，按余弦定律PumpOperationMoleculeVMovingWallwithSpeedVPrincipleoftheTurbomolecularPumpPumpOperationMoleculeVMovingVacuumSystemsTurboPumpedSputteringSystemVacuumSystemsTurbo溅射镀膜试验课件PlasmaIgnition:SweetSpot巴邢曲线PlasmaIgnition:SweetSpot巴邢曲线3.DCsputteringsimplest-basicallywhatwehavetalkedaboutsofar

3.DCsputteringSchematicofaplanarmagnetrontargetPrincipleofthemagneticeffectNumberdensitiesofelectronsinxy-planeMagneticfieldtrapselectronsIncreasetheiondensityIncreasetheelectronsdensitiesHighersputteringrateSchematicofaplanarmagnetro实验步骤1．了解系统结构。真空获得系统，真空测试系统，气体控制系统，基片加热系统，溅射控制系统。2．熟悉操作步骤。3．基片装夹，开机械泵，通过旁通阀初抽真空，同时打开真空计；到达1000帕左右，打开主阀；达到5帕左右，开启分子泵；开启基片加热器，缓慢升高加热电压至温度到250oC实验步骤1．了解系统结构。真空获得系统，真空测试系统，气体控4．达到10－3帕后，停分子泵；分子泵停止后，调节气体控制气压。5．改变气压，开启溅射电源，记录气压与起辉电压的变化。观察不同气体的辉光放电现象。6．预溅射十分钟以后，调节溅射电流，稳定后打开基片挡板，进行薄膜的溅射沉积。

4．达到10－3帕后，停分子泵；分子泵