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1、 人造水晶生长一:人造水晶概述水晶组成是SiO2称为石英石,一般我们将石英中结晶成六方柱状的石英称为水晶。天然水晶在自然界中产量不大,优其是大块的晶体更为少见,随着国内外科学技术的发展,对水晶的需求日益增长,天然水晶无论在质的方面或量的方面都无法满足需求,因此对培养人工水晶提出需求。早在1905年意大利学者(斯俾西亚)首次用水热法合成了水晶,我国人造培养水晶始于50年代末60年代初期,并相继投入工业化生长。水晶是重要的压电材料和理想的光学材料,人工水晶与天然水晶的物理性能基本相同,某些方面甚至更优于天然水晶。石英晶体的密度为2.65g/Cm,硬度为7莫氏,无色透明晶莹。石英晶体的熔点为1713
2、C.在人造水晶生长过程中,主要原料为石英石,石英石中SiO2含量不小于99.8%,透过率为80%。颗粒度在3-60g(一2般以20g为主)。水晶生长方法叫水热温差法,在水热中最重要的是温度差。要求:(1)不停电;(2)温度控制在土1C以内。二:人造水晶生长的物化条件人造水晶生长是采用水热温差法,在立式密封的高压釜内进行。在高压釜内下部约2/5-1/2处放置石英碎料作为营养料(这部分称为溶解区)。在此上部3/5-1/2处放置籽晶架,架上悬挂生长水晶用的一定切型的籽晶,此区称为生长区。在生长区与溶解区间有一个具有一定开孔率的挡板,此挡板可使二区间形成一定的温差(当然,还受外部加热功率影响),以使溶
3、液上、下对流。在高压釜内装入具有一定浓度的碱性水溶液,一般为氢氧化钠或碳酸钠,并设计一定的充填度,经密封后进行加热,产生135-150MPa的压力,由于高压釜下部溶解区的温度比上部生长区的温度要高(由加热系统的功率控制),一般高约30C左右,所以在釜内产生溶液的对流,当溶解区的石英碎料随着碱溶液的温度升高,溶解度逐渐增大,直至达到饱和状态,由于下、上部的温差和溶液对流,溶解二氧化硅的溶液通过挡板被带到釜内上部生长区,由于生长区的温度低于溶解区(约30C),此时,溶液中的SiO达到饱和状态,而在生长区的籽2晶上进行析晶、重结晶,使籽晶不断长大,此时由于对流作用析晶后的稀溶液回流到溶解区,再次溶解熔炼石英料,如此循环往复使晶体持续长大,按设计要求可以控制晶体的生长大小厚度及总重
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