光刻机生产设备单机试运转及验收范例

1、光刻机生产设备单机试运转及验收范例试运转前应检查以下工程，并应在符合要求后进行单机试运转；1环境温度应为22c1,相对湿度应为40%60%,洁净度等级应为5级, 室内光线应为黄色。2三相交流电源电压应为220V10%,频率应为50lHz。3机壳应有良好的接地。4压缩空气压力应为0.50.7MPa。5真空压力应为一0.055-0.08MPa。6安装间内不得有腐蚀性气体、电磁辐射，振动频率大于等于10Hz时，安 装机器周围的振动幅度应小于31am,振动频率小于10Hz时，安装机器周围的振 动幅度应小于1.5m0。7开机前按钮均应处在关闭状态。验收工程应符合以下要求：1设备验收应符合表E. 1. 2

2、的规定。序号工程规范验收条件测试数据1分辨率0.4 |im L&S镜头5个点位测试2公共焦深0.6um镜头5个点位的0.4um分 辨率的测试条测试3总体焦点偏差W0.40|bim镜头5个点位的0.4um分 辨率的测试条测试4像面倾斜Within0.35|im镜头5个点位测试5弯曲Within0.2(jm镜头5个点位测试7镜头畸变Within 50nm标准测试方式8焦点测量重复性3o WIOOnm20次测量9长期焦点稳定性测试Within 0.3|Lim一周测试10镜头控制精度1）倍率控制精度2）焦点控制精度Within 20nmWithin 0.15um镜头加热lOOmin,冷却 180min

3、测试11最大曝光区域22.0mm(hor.) x22.0mm(ver.)显微镜下观察12光罩挡板精度+0.4mm +0.8mm (on reticle)显微镜下观察13曝光能量工 620mW/cm2使用照度计测量14光强均匀性Within 1.5%5次测试15积分曝光控制精度50 mJ/cm2 or1)moreWithin 1.0%使用照度计测量2) 100 mJ/cm2Within 0.5%16光罩旋转测试精度M +3o 20nm测试值比照目标值17套刻精度1) FIA-EGAM +3。 75nm镜头5点测试2) LSA-EGA *M +3a 75nm18正交性测试Within O.lsec

4、.3个晶圆的平均值19步进精度3o 45nm镜头22点测试，2个晶圆20预对位精度3o 15|im统日日圆60次测里，包括x、 v、 So21传送测试1)晶圆传输系统成功率：工99%500个一组测试2)十字传输系统成功率:100%10个一组测试2设备自动化要求设备需具备SMIF INTERFACE功能，设备需要支持SECS协议通讯，通讯方式 需支持RS232或HSMS(TCP/IP),且硬件和软件功能都必须完好可用，提供对应 SECS Manual,提供对设备工作流的说明，提供机台对应VID LIST, SVID LIST, ECID LIST, CEID LIST说明，提供解析Recipe Body的对应说明。3设备平安测试测试根据国际半导体设备暨材料SEMI-S93a准那么。对该设备的EMO按钮和安 全联锁进行逐一测试：激活时设备能够进行下一步运行功能，如果一旦失效，设 备不能进行下