• 现行
  • 正在执行有效
  • 2025-03-20 颁布
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【正版授权-英语版】 IEC 62047-45:2025 EN Semiconductor devices - Micro-electromechanical devices - Part 45: Silicon based MEMS fabrication technology - Measurement method of impact resistance o_第1页
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基本信息：

  • 标准号：IEC 62047-45:2025 EN
  • 标准名称：半导体器件-微机电装置-第45部分：基于硅的MEMS制造技术-纳米结构冲击耐力的测量方法
  • 英文名称：Semiconductor devices - Micro-electromechanical devices - Part 45: Silicon based MEMS fabrication technology - Measurement method of impact resistance of nanostructures
  • 标准状态：现行
  • 发布日期：2025-03-20

文档简介

硅基微机电制造技术-纳米结构冲击耐力测量方法详细解释：

IEC62047系列标准是国际电工委员会（IEC）为半导体器件和微机电系统（MEMS）器件制定的一系列标准。这些标准涵盖了半导体和MEMS器件的设计、制造、测试和应用。

IEC62047-45是该系列标准的一部分，专门针对硅基微机电制造技术的纳米结构冲击耐力测量方法。该标准提供了详细的测试方法和要求，用于评估纳米结构在受到冲击时的抵抗能力。

具体来说，该标准包括以下步骤和要求：

1.样品准备：选取适当的纳米结构样品，确保其质量和尺寸符合标准要求。

2.冲击设备：使用适当的冲击设备，确保其能够产生足够的力量和速度，以模拟实际使用中可能遇到的冲击条件。

3.测试环境：确保测试环境稳定，避免温度、湿度和气压等外部因素对测试结果的影响。

4.冲击次数和力度：根据标准规定，确定冲击的次数和力度，以确保测试结果的可靠性。

5.测量方法：使用适当的测量方法，如光学显微镜、电子显微镜等，对纳米结构的变形、断裂等物理特性进行测量。

6.数据分析和报告：对测试数据进行处理和分析，形成报告，描述纳米结构的冲击耐力性能。

在实际应用中，通过遵循IEC62047-45标准对纳米结构进行冲击耐力测试，可以评估其在实际使用中的稳定性和可靠性，为产品设计、制造和质量控制提供依据。同

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