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文档简介

磁控溅射技术和透明导电薄膜薄膜的种类及应用磁控溅射技术原理及应用透明导电薄膜性能及应用薄膜：在固体表面上镀上一层于基体材料不同的薄层材料。厚度通常在几微米以下。电学薄膜光学薄膜机械薄膜装饰薄膜薄膜的制备手段气相法：化学气相沉积（CVD）物理气相沉积（PVD）——热蒸发

溅射

离子镀分子束外延液相法：化学镀、电镀、浸渍镀等。其他方法：喷涂、涂敷等。溅射原理溅射示意图成膜示意图薄膜的生长电子在正交电磁场中的运动磁控溅射靶材结构图磁控溅射仪器结构图磁控溅射仪器外观

大型多弧离子/磁控溅射镀膜机。可在较大体积的工件表面镀制厚度均匀的金属、合金、氧化物、氮化物、碳化物、硼化物等防腐、耐磨、导电透明等多种功能薄膜。磁控溅射技术的优点薄膜与基底的结合力强。镀膜均匀，可镀大面积薄膜。镀膜种类丰富：各种金属(合金)薄膜各种金属氧化物、碳化物、氮化物、硼化物等薄膜其它(如类金刚石薄膜等)

基底种类丰富：金属、玻璃、陶瓷、有机玻璃(薄膜)等透明导电薄膜厚度：几十～几百纳米透明性：与玻璃接近导电性：与金属接近透明导电薄膜种类氧化铟锡（ITO）掺铝氧化锌（ZAO）多层结构：ITO/Ag/ITO、TiO2/Ag/TiO2、ITO/ZnO、SiO2/ITOITO薄膜电学性能电阻率7×10-5~10-4Ω•cm与金属铅导电能力接近。ITO薄膜光学性能其他性能反射红外线（热镜）反射电磁波（>80%）吸收紫外线透明导电薄膜的应用液晶显示器（LCD）触摸屏太阳能电池除霜防雾保温、隔热电磁屏蔽军事领域：雷达隐身透

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